ガイドブックシリーズのねらい - 株式会社 ネオテクノロジー

“技術と特許をつなぐ”パテントガイドブック ナノインプリント シリーズ
NI010 ナノインプリントとロールインプリント 編
特許情報は同時に開発動向を示唆する重要なテクノロジー情報でもあります
ガイドブックシリーズのねらい
このガイドブックシリーズでは技術テーマを絞り、特許情報から見た最新のテ
クノロジー情報をお届けすることをねらいとしています。
編集方針は、絞り込まれた特定の技術テーマに対して下記を意図しております。
・最近の出願にあらわれる技術を知る
・最近の出願から技術課題を知る
・最近の出願企業を知る
・自己の課題の相対的位置を知る
・発明の出願形態(書き方、内容)を知る
M
PL
E
★特許情報は技術者・研究者に役立つテクノロジー情報です
最近の研究開発の成果が反映されたテクノロジー情報です。競合各社の技術
者・研究者も、開発に携わる皆様と同じ技術テーマについて、直面する課題や
対応技術に取り組んでいます。特許情報は、それぞれが得意とする技術や注力
度合い、目指す技術的方向を反映する信頼度の高い技術情報です。
SA
★ガイドブックシリーズでは
特定テーマについて実際の製品開発や改良研究を行っている企業第一線の技術
者や研究者を読者として想定しています。直近数年の特許出願に限り、技術テ
ーマを具体的に絞り込んだうえで、特許・技術の双方をみわたすガイドとなる
典型例を各巻ごとに７0～200件程度、掲載しました。
各巻では、技術的観点に従って平明でわかりやすく分類しています。それぞれ
の分類には、できるだけ多くの特許情報を盛り込めるように工夫しています。
また、巻頭にはガイドマップを載せています。分類ごとに内容を表わす図面を
選び、扇形に配置した全体を見渡す俯瞰マップです。目次も兼ねています。巻
末には、収録した特許情報の一覧表を収録しました。
技術と特許の双方をにらんだ実戦的ガイドブックとして、本書をご活用くださ
い。
株式会社ネオテクノロジー
分類の特徴を示す代表的な特許図面を掲載しています
特開2009-088045
日立製作所
特開2008-073902
大日本印刷
特開2008-296390
旭化成
特開2008-296466
特開2008-229869 日立産機システム
財団法人
神奈川科学技術アカデミー
特開2009-160796
コニカミノルタオプト
技術者が目をつける
着眼点に分けて
ロール金型
高精細・
ロール
高品質・
)P.1
高精度パターンニング
インプリント
高信頼性転写
製品
)P.21
ナノインプリントシリーズ
)P.83
ナノインプリントと
ロールインプリント
特許情報を
収録しています
ガイドマップ (NT)
生産保守
)P.77
©NeoTechnology
ベルト成型
)P.69
特開2008-105408
東レ
SA
M
PL
特開2009-158731
日立産機システム
特開2008-207474
東芝機械
特開2009-078521
日立製作所
光インプリント
)P.45
光硬化
樹脂 )P.59
E
特開2009-031573
キヤノン
特開2008-004808
大日本印刷
特開2008-284873
オブデュキャット、
アクチボラグ
特開2009-166488
クラレ
特開2008-183811
東芝機械
特開2008-201019
どんな業界、企業が
凸版印刷
関係するかわかります
特開2008-246864
ナノインプリントリソ
富士フイルム
グラフィ用硬化性
組成物、それを用
いた硬化物作成方
法、および、硬化物
特開2009-073958
富士フイルム
掲載特許一覧
)P.94
SA
M
PL
E
ロール金型
1
NeoTechnology
特開2009-160898
公開特許ＪＰ抄録
審査請求
未請求
請求項の数18
(51)Int.Cl.
B29C 33/38
B29C 43/22
B29C 43/46
G02B 5/02
B29K 105/32
ＯＬ
テーマコート゛（参考）
(2006.01) 2H042
(2006.01) 4F202
(2006.01) 4F204
(2006.01)
(2006.01)
【Ｆターム】2H042 BA03
4F202 AF01
AJ09
BA15
AG01
CA19
BA20
AH76
CB02
（Ｐ２００９−１６０８９８Ａ）
（全17頁）
ＦＩ
B29C 33/38
B29C 43/22
B29C 43/46
G02B
5/02
B29K 105:32
(43)公開日
平成21年(2009)7月23日
(21)特願2008-2982
(22)平成20年(2008)1月10日
B
AJ02
CD18
［続きあり］
(71)出願人 日立化成工業株式会社
(72)発明者 吉川 武尚（外4名）
東京都新宿区西新宿２丁目１番１号
(54)【発明の名称】ロール金型とその製造方法および光学フィルム
(57)【要約】
【課題】プリズムパターンを有するフィルム転写成形用
のロール金型の切削加工において、工具摩耗による溝加
工部の形状精度低下を抑止し、高精度な溝形状を有する
プリズムパターンの加工方法を提供する。
【解決手段】プリズムパターンの連続溝を螺旋軌跡によ
って溝を切削し、螺旋軌跡のピッチを溝ピッチＰの２倍
以上のピッチによる多条螺旋軌跡によって形成する。前
記多条螺旋軌跡にて使用する工具を，１条ごとに異なる
E
工具を用いて切削する。
SA
M
PL
【選択図】図４
【技術分野】
前記プリズムパターンの溝部は、前記溝間ピッチの２倍
【０００１】
以上のピッチのねじ切り方式によって切削される螺旋軌
本発明はロール状の金型表面にプリズムパターンを形成
跡を有する第１の溝を形成する工程と、
する切削加工方法に関するもので、特にプリズムパター
前記第１の溝とは前記溝間ピッチだけ離間して、前記溝
ンの溝間ピッチが20μｍ以下の微細なプリズムパターン
間ピッチの２倍以上のピッチのねじ切り方式によって切
をフィルムの表面に転写して光学フィルムを得るフィル
削される螺旋軌跡を有する第２の溝を形成する工程とを
ム転写成形用のロール金型の切削加工方法に関するもの
有する光学フィルム製造用のロール金型の製造方法。
である。
【請求項２】
請求項１に記載のロール金型の製造方法であって、
【特許請求の範囲】
前記第１の溝を形成するバイトと前記第２の溝を形成す
【請求項１】
るバイトは別なバイトであることを特徴とするロール金
溝間のピッチが20μm以下の微細な溝部を有するプリズ
型の製造方法。
ムパターンが表面に形成された、光学フィルム製造用の
【請求項３】
ロール金型の製造方法において、
溝間のピッチが20μm以下の微細な溝部を有するプリズ
［続きあり］
18
NeoTechnology
SA
M
PL
E
ロールインプリント
21
NeoTechnology
特開2009-172794
公開特許ＪＰ抄録
審査請求
未請求
請求項の数4
(51)Int.Cl.
B29C 43/46
B29C 47/08
B29C 47/88
B29C 43/24
B29C 59/04
ＯＬ
（全12頁）
テーマコート゛（参考）
(2006.01) 4F204
(2006.01) 4F207
(2006.01) 4F209
(2006.01)
(2006.01)
【Ｆターム】4F204 AA00
AH75
AJ13
AC03
AH76
AP02
AG02
AJ02
AP05
（Ｐ２００９−１７２７９４Ａ）
ＦＩ
B29C
B29C
B29C
B29C
B29C
(43)公開日
平成21年(2009)8月6日
(21)特願2008-11758
43/46
47/08
47/88
43/24
59/04
(22)平成20年(2008)1月22日
Z
Z
AH33
AJ06
AP10
［続きあり］
(71)出願人 株式会社クラレ
(72)発明者 阿部 研
岡山県倉敷市酒津１６２１番地
(54)【発明の名称】樹脂シートの製造方法
(57)【要約】
【課題】
表明に微細な凹凸を有する比較的厚い樹脂シ
ートを転写性良く製造すること。
【解決手段】
少なくとも、溶融した樹脂を連続的に運
動している可動面に供給する第１工程と、前記第１工程
で供給された樹脂を前記可動面で加圧してシート状にす
る第２工程と、前記第２工程でシート状にされた樹脂を
可動面で冷却する第３工程と、前記第３工程で冷却され
１．３ｍｍ以上の樹脂シート製造方法において、
E
た樹脂を可動面から剥離する第４工程と、からなる厚み
前記可動面が微細な凹凸形状を複数有しており、樹脂の
PL
平均降下速度が、４０℃／秒以上であり、前記第２工程
での加圧圧力を１ＭＰａ∼７０ＭＰａ、前記樹脂のガラ
ス転移温度がＴｇ（℃）であるとき該第２工程で加圧さ
SA
M
れた溶融樹脂の表面温度を（Ｔｇ−５℃）∼（Ｔｇ＋１
０℃）となるように制御され、加圧時間が０．２秒∼２
秒であることを特徴とする樹脂シートの製造方法。
【選択図】
図１
【技術分野】
前記第３工程で冷却された樹脂を可動面から剥離する第
【０００１】
４工程と、
本発明は、表面に微細な凹凸形状を転写賦形することを
からなる樹脂シートの押出成形法による製造方法におい
特徴とする樹脂シートの製造方法に関する。
て、
前記樹脂シートの厚みは１．３ｍｍ以上であり、
【特許請求の範囲】
前記溶融した樹脂を供給する前記可動面が微細な凹凸形
【請求項１】
状を複数有しており、
少なくとも、
前記第１工程で樹脂が可動面に供給され、可動面に接触
溶融した樹脂を連続的に運動している可動面に供給する
０．０２秒後から、前記第２工程が完了するまでの時間
第１工程と、
をＴとすると、前記第１工程で樹脂が可動面に供給され
前記第１工程で供給された樹脂を前記可動面で加圧して
、可動面に接触０．０２秒後から、Ｔ／２の時間が経過
シート状にする第２工程と、
するまでの間の前記供給した樹脂の可動面に接触してい
前記第２工程でシート状にされた樹脂を可動面で冷却す
る表面温度の平均降下速度が、４０℃／秒以上であり、
る第３工程と、
前記題２の工程が、前記第２工程での加圧圧力を１ＭＰ
［続きあり］
44
NeoTechnology
SA
M
PL
E
光インプリント
45
NeoTechnology
特開2008-246864
公開特許ＪＰ抄録
審査請求
未請求
請求項の数9
(51)Int.Cl.
B29C 59/04
B29C 39/14
G02B 5/02
B29L 7/00
ＯＬ
（全25頁）
テーマコート゛（参考）
(2006.01) 2H042
(2006.01) 4F204
(2006.01) 4F209
(2006.01)
【Ｆターム】2H042 BA03
4F204 AA44
AH73
BA15
AF01
AR17
AG01
EA03
（Ｐ２００８−２４６８６４Ａ）
ＦＩ
B29C
B29C
G02B
B29L
(43)公開日
平成20年(2008)10月16日
(21)特願2007-91522
59/04
39/14
5/02
7:00
C
(22)平成19年(2007)3月30日
B
AG05
EB02
［続きあり］
(71)出願人 富士フイルム株式会社
(72)発明者 小池 誠（外2名）
東京都港区西麻布２丁目２６番３０号
(54)【発明の名称】微細構造シート製造方法及び装置
(57)【要約】
【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンを正確に形成
することができる微細構造シート製造方法及び装置を提
供する。
【解決手段】基材シートＷの表面に紫外線硬化樹脂Ｒを
塗布し、パターンローラ３０に密着させて、紫外線を照
射することにより、基材シートＷの表面に微細凹凸パタ
ーンを転写形成する場合において、ニップ点における紫
外線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以
硬化樹脂の接触角を４０°以下にする。これにより、ニ
E
下にするとともに、パターンローラ３０に対する紫外線
PL
ップ時にパターンローラ３０の各凹部に空気が入り込む
のを防止でき、パターンローラ３０の表面に形成された
。
【選択図】
図２
SA
M
凹凸の形状を正確に基材シートに転写することができる
【技術分野】
介して前記放射線硬化樹脂が硬化した基材シートを前記
【０００１】
パターンローラから剥離して、表面に微細凹凸パターン
本発明は、微細構造シート製造方法及び装置に係り、特
が形成された微細構造シートを連続的に製造する微細構
に表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状
造シート製造方法であって、
シートを連続的に製造する微細構造シート製造方法及び
前記パターンローラの表面に所定形状の凹部が幅方向及
装置に関する。
び周方向に一定ピッチで形成されている場合において、
前記基材シートの表面を前記ニップローラを介して前記
【特許請求の範囲】
パターンローラに密着させる際、前記基材シートの表面
【請求項１】
に塗布されている前記放射線硬化樹脂の粘度を１０mPa
帯状可撓性の基材シートの表面に放射線硬化樹脂を塗布
・s以上、１００mPa・s以下にするとともに、前記パタ
し、ニップローラを介して該基材シートの表面をパター
ーンローラに対する前記放射線硬化樹脂の接触角を４０
ンローラに密着させ、該パターンローラに密着された状
°以下にすることを特徴とする微細構造シート製造方法
態の基材シートに放射線を照射して、その表面に塗布さ
。
れた前記放射線硬化樹脂を硬化させた後、剥離ローラを
【請求項２】
［続きあり］
58
NeoTechnology
SA
M
PL
E
光硬化樹脂
59
NeoTechnology
特開2009-73958
公開特許ＪＰ抄録
審査請求
未請求
請求項の数13
(51)Int.Cl.
C08G 59/18
C08G 18/40
B29C 59/02
ＯＬ
テーマコート゛（参考）
(2006.01) 4F209
(2006.01) 4J034
(2006.01) 4J036
【Ｆターム】4F209 AA36
AB10
AG05
AA43
AC05
AH33
AA44
AF01
AH73
（Ｐ２００９−７３９５８Ａ）
（全38頁）
ＦＩ
C08G
C08G
B29C
(43)公開日
平成21年(2009)4月9日
(21)特願2007-244985
59/18
18/40
59/02
(22)平成19年(2007)9月21日
Z
AB03
AG03
PA02
［続きあり］
(71)出願人 富士フイルム株式会社
(72)発明者 下原 憲英（外1名）
東京都港区西麻布２丁目２６番３０号
(54)【発明の名称】ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物
(57)【要約】
【実施例】
（修正有）
【０１３０】
ソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
法、および、硬化物を提供する。
。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、
【解決手段】少なくとも（ａ）重合性不飽和単量体、（
処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、
ｂ）光重合開始剤、（ｃ）熱硬化性高分子を含み、かつ
変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に
、塗布可能である、光ナノインプリントリソグラフィ用
示す具体例に限定されるものではない。
硬化性組成物、ならびに、光および熱によって硬化させ
【０１３１】
る硬化物の製造方法。
＜光ナノインプリントリソグラフィの評価＞
【選択図】なし
下記に述べる実施例および比較例の組成物について、下
E
【課題】新規な光硬化性に優れた光ナノインプリントリ
記評価方法に従って測定・評価した。
PL
＜粘度測定＞
粘度の測定は、東機産業（株）社製のＲＥ−８０Ｌ型回
転粘度計を用い、２５±０．２℃で測定した。測定時の
SA
M
回転速度は、０．５ｍＰａ・ｓ以上５ｍＰａ・ｓ未満は
１００ｒｐｍ、５ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ未満は
５０ｒｐｍ、１０ｍＰａ・ｓ以上は３０ｍＰａ・ｓ未満
は２０ｒｐｍ、３０ｍＰａ・ｓ以上６０ｍＰａ・ｓ未満
は１０ｒｐｍ、６０ｍＰａ・ｓ以上１２０ｍＰａ・ｓ未
満は５ｒｐｍ、１２０ｍＰａ・ｓ以上は１ｒｐｍもしく
［続きあり］
【技術分野】
始剤、（ｃ）熱硬化性高分子を含み、かつ、１０μｍ以
【０００１】
下の厚さに塗布可能である、光ナノインプリントリソグ
本発明は、ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成
ラフィ用硬化性組成物。
物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物に関
【請求項３】
する。
少なくとも（ａ）重合性不飽和単量体、（ｂ）光重合開
始剤、（ｃ）熱硬化性高分子を含み、かつ、組成物の粘
【特許請求の範囲】
度が３∼１８ｍＰａ・ｓの範囲である光ナノインプリン
【請求項１】
トリソグラフィ用硬化性組成物。
少なくとも（ａ）重合性不飽和単量体、（ｂ）光重合開
【請求項４】
始剤、（ｃ）熱硬化性高分子を含み、かつ、塗布可能で
（ｃ）熱硬化性高分子を含み、（ｃ）熱硬化性高分子の
ある、光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物
含有量が組成物の０．１∼２．０質量％である、請求項
。
１∼３のいずれか１項に記載の光ナノインプリントリソ
【請求項２】
グラフィ用硬化性組成物。
少なくとも（ａ）重合性不飽和単量体、（ｂ）光重合開
【請求項５】
［続きあり］
68
NeoTechnology