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高精度な位置決め制御可能な 自己組織化ビットパターンドメディア

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高精度な位置決め制御可能な 自己組織化ビットパターンドメディア
アドレス領域
磁性ドット
高精度な位置決め制御可能な
自己組織化ビットパターンドメディア
サーボパターン領域 サーボパターン領域
データ領域
が,記録再生ヘッドを1.5 nmの位置決
記録再生ヘッド
め精度で制御できることを示唆してい
自己組織化 BPM
ます。今回の検討で,自然現象を利用
した自己組織化 BPMでも,高精度の
位置決め情報が得られる可能性がある
ことがわかりました。
自然現象を利用した配列制御で
大容量 HDD を実現する
有機材料の自己組織化を用いたナノパターニングは,
データ領域
サーボパターン領域
図 1.自己組織化 BPM ̶ 記録再生ヘッドの位置決め用サーボパターンと記録
ビットを,ナノインプリント技術と自己組織化ナノパターニング技術で作製します。
図 3.自己組織化 BPM の SEM 像 ̶ 溝のように見えるパターンは 35 nm間隔の磁性ドット(平均サイ
ズ28 nm)列で構成されています。
Ni スタンパ
ランダムなビット配列でシミュレーション
自己組織化ナノパターニング技術を組み合わせて,ビット
レジスト
磁気記録媒体
パターンドメディア(BPM)の作製に取り組んでいます。
ガイド溝
① ナノインプリント技術で
ガイド溝作製
②自己組織化材料を
ガイド溝に充てん
自己組織化ドット
③ガイド溝除去
精度を評価した結果,高精度の位置決め情報が得られる
100
パターニングは,10 nm 以下の微細パ
50
0
250
④ 磁気記録媒体エッチング
図 2.自己組織化 BPM の作製フロー ̶ ナノインプリント技術でガイド溝を作
製し,そこに自己組織化材料を充てんすることでドットパターンを作製して,こ
れをイオンビームエッチングのマスクとして使用します。
得られるかどうかが実用化の鍵になり
PES 計算値
ます。精度向上には,自己組織化材料
0
の精製はもちろんのこと,データ領域,
サーボパターン領域の両方で配列が乱
理想的な状態
0
500
750
1,000
メディア周方向位置(nm)
可能性があることがわかりました。
デバイスとして動作するための精度が
0.25
PES
(任意単位)
現するため,光ディスクや半導体の量産加工プロセスに
サーボ信号出力(任意単位)
東芝は,HDD(磁気ディスク装置)の更なる大容量化を実
組織化材料を配列させた BPM を試作し,サーボ信号の
有機材料の自己組織化を用いたナノ
ターンを作製できる実力がありますが,
10 nm 以下の微細パターンを作製できる実力があります。
今回,複雑なサーボパターンを含んだガイド溝に自己
今後の展望
100 nm
−0.25
70
80
90
100
110
120
メディア半径方向位置(nm)
⒜ サーボ信号
れないガイド溝の設計を進める必要が
あります。
当社は,将来にわたってHDD 記録
⒝ PES
図 4.サーボ信号波形と PES の計算結果 ̶ ドット配列にランダムなモデルを用いたため,サーボ信号
出力は大きくばらついていますが,PES は⒝のように線形性が良く,1.5 nmの位置決め精度で記録再生
ヘッドを制御できる可能性があることがわかりました。
密度のトレンドをけん引し続けていくた
め,光ディスクや半導体のプロセス技
術だけでなく,他分野の技術を積極的
構成したサーボパターンがHDDの動作
容量に相当します。
BPM 作製上の課題
に必要な精度を持つかは未知数です。
ングを用いて磁性体を削ることで自己
サーボパターンの特性評価
組織化BPMを作製しました。
ドットサイズ分 散 が 位 置 誤 差 信 号
なおこの研究は,独立行政法人 新エ
(PES)にどの程度影響を与えるかをシ
ネ ル ギ ー・ 産 業 技 術 総 合 開 発 機 構
BPMは,1ビットの大きさに切り取っ
ドットは,自然で安定な格子配列を取
自己組織化技術で作製した磁性ドット
た磁性ドットを配列させた記録媒体で,
るため,そのままではHDDの記録再生
のサイズばらつきは,サーボ信号出力ノ
図 3 は,作製した自己組織化BPM
従来用いられてきたHDD用媒体と比
ヘッドの位置決めに必要となるサーボ
イズに影響し,記録再生ヘッドの高精
のアドレス領域,サーボパターン領域,
べ高密度記録した際の記録安定性に優
パターンのように人為的なパターン形状
度動作の阻害要因になると考えられま
及びデータ領域を撮影した低倍率の走
サーボ信号とPESの計算結果を図 4
れているという利点から,HDD 向けの
に配列させることが困難です。
す。そこで,サーボパターン領域とデー
査型電子顕微鏡(SEM)像です。拡大
に示します。サイズ分散によってドット
そこで東芝は,次世代半導体製造プ
タ領域の両方を自己組織化でパターン
図からわかるように,一見溝のように見
ピッチがばらつく最 悪 の場 合として,
ロセスとして期待されている“ナノイン
化したBPMを作製して,その信号品質
えるパターンは35 nm 間隔の磁性ドッ
⒜の挿入図に示すようなドット配列が
BPMを作製するうえで最大の課題
プリント技術”を用いて,ナノスケール
を評価しました。
ト列で構成されています。磁性ドットの
完全にランダム化したモデルを用いまし
は,いかにして微細パターンを作製する
の凹凸構造を持つニッケル(Ni)スタン
平均サイズは 28 nmで,ドットサイズ
た。ランダム配置のため,計算で得ら
分散は16 %でした。ドットサイズ分散
れたサーボ再生波形は,⒜のように信
次世代記録媒体として期待されていま
す(図 1)。
自己組織化 BPM の作製
ミュレーションで見積もりました。
かという点です。細かなパターンを作製
パをプレスすることでガイド溝を作製
する技術として,自己組織化を起こす
し,そのガイド溝の中に自己組織化材
自己組織化を用いたBPM 作製方法
が大きめの値になったのは,配列制御
号出力が大きくばらついています。しか
材料を用いたリソグラフィが研究されて
料を充てんすることで人為的な配列制
を図 2 に示します。サーボパターンを含
用ガイド幅が最適化されていないため
し,この波形から計算したPESは,⒝
んだ配列制御用ガイド溝をナノインプリ
と考えています。
のように 線 形性 が良く,線 形 誤 差は
おり,サイズとして10 nm 間隔以下の
ドットパターンを作製できることが知ら
⑵
御を行う方法を開発しました 。
次の課題として,記録再生ヘッドの位
ント技術で作製し,そこに自己組織化
今後,データ領域及びサーボパター
置決めに用いるサーボパターンの品質
材料を充てんして,熱処理を加えるこ
ン領域のすべてにわたり,ドットサイズ
HDDでは,記録再生ヘッドの位置は
(テラ:10 )ビット/in の記録密度に
が挙げられます。サーボパターンは複雑
とにより,溝に沿って配列したドットパ
分散を小さくできるようにガイド設計を
PES 信号によって制御されます。得ら
当たり,2.5型HDDでは12 Tバイトの
であるため,前述の自己組織化配列で
ターンを 作 製しました。このドットパ
進めていく計画です。
れた結果は,モデル検討ではあります
⑴
れています 。これは単純計算で10 T
12
50
しかし,自己組織化で得られる微細
に導入し,更なる大容量HDD 媒体の実
ターンをマスクとしてイオンビームエッチ
2
東芝レビュー Vol.65 No.10(2010)
現に向けてチャレンジしていきます。
(NEDO)の「超高密度ナノビット磁気
記録技術の開発(グリーンITプロジェク
ト)」の支援を受けて実施しました。
文 献
⑴
⑵
Park, S., et al. Macroscopic 10-Terabitper-Square-Inch Arrays from Block
Copolymers with Lateral Order. Sience.
323, 2, 2009, p.1030−1033.
櫻井正敏,ほか.磁気量子ドットが配列した
次々世代記録媒体“パターンドメディア”
.東芝
レビュー.57,12,2002,p.52−55.
1.5 nmと見積もられました。
高精度な位置決め制御可能な自己組織化ビットパターンドメディア
鎌田 芳幸
研究開発センター
記憶材料・デバイスラボラトリー主任研究員
51
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