クリーンルームの分類について

クリーンルームの分類について
クリーンルームの気流方式をまとめてみた。
クリーンルームの使用目的に応じたシステムを構築することが重要
方式
垂直一方向方式
FFU方式
クリーントンネル方式
方式図
特徴
クリーンルーム内全域を最高清浄
FFU直下は、最高清浄度が得られ ＩＣ・ＬＳＩ製造工程に主として適用さ
度に維持する
る。天井内が負圧でありシールが
れる。マスク・ウエーハなど、特に
容易である。
最高清浄度を要するプロセスを
トンネル内にレイアウトする
作業域清浄度
ISOクラス1～44
ISOクラス1
ISOクラス1～44
ISOクラス1
クリーントンネル内
ISO1～44
クリ
ントンネル内　ISO1
主な適用場所
IC工場・半導体工場
IC工場・半導体工場
IC工場・半導体工場
運転費
大
大
中
建設費
大
大
大
クリーンチューブ方式
アイランド方式
乱流方式
備考
方式
方式図
製品が自動製造ラインの中を流れ 作業工程内一部だけ高清浄度を
特徴
基本的なクリーン方式で各分野で
る場合に、極小エリア（限定された） 必要とする場合に適用される。一般 広く採用され、室内で発生する塵埃
を最高清浄度に保つ
にクラス1,000～100,000の乱流方式 を清浄空気で希釈して清浄度を高
クリーンルーム内に併設される
める方式である
作業域清浄度
クリーンチューブ内　ISO1～4
クリーンブース内　ISO3～6
ISO4～8
主な適用場所
IC工場・半導体工場
製薬工場・無菌室
工場全般
運転費
小
中
小
建設費
中
大
小
備考