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事業原簿（公開）5（1.67MB） - 新エネルギー・産業技術総合開発機構
Ⅳ．実用化の見通し Ⅳ-1. 微小要素物理特性の計測基盤 1.1 成果の実用化 （１）エアロゾル粒子質量分析器の商品化 本プロジェクトにおいて開発したエアロゾル粒子質量分析器(APM)は、初期設計のものが研究 用装置として市販された他、高速回転型 APM の設計を基礎として商用装置が開発され 2005 年よ り市販されている。 図 エアロゾル粒子質量分析器 の市販装置 （２）30 nm から 100 nm の粒径標準の供給 本プロジェクトの中で確立した静電噴霧による単分散 Polystyrene latex (PSL)粒子発生技術およ び電気移動度分析による粒径相対測定技術を利用して，30 nm から 100 nm の標準粒子に対する校 正サービスを 2005 年より開始した。本サービスは国家標準へのトレーサビリティを保証する産総 研依頼試験制度に基づくものである。標準供給にあたっては，動的光散乱法との整合性を確認し た上で、校正方法，データ解析方法および不確かさ評価方法などを下図（左）に示すように技術 マニュアルとして文書化し，品質システムを構築することで継続的な標準供給ができる体制を確 立した。下図（右）には，校正証明書の例を示す。 図 粒径校正マニュアルの表紙 図 Ⅳ-(1) 校正証明書の例 （３）1 - 1000 fg の粒子質量標準物質の開発 絶対測定用エアロゾル粒子質量分析器を用いて、1 - 1000 fg の範囲で粒子質量標準物質を 3.3 % 以下の相対拡張不確かさで値づけする技術を確立した。またこの技術に対する質量校正技術基準 を作成した（Appendix III-2-1-1.1 参照）。PSL 粒子について個数平均径及び個数平均質量を同時に 値づけた粒径／粒子質量標準物質を市販 APM に添付し、校正用として配布することを検討中であ る。 （４） 液中分散粒子に対する粒径測定サービス 動的光散乱による液中分散粒子に対する粒径の測定サービスを（独）産業技術総合研究所計量標準 総合センター（NMIJ）の品質システムの中で（2016 年）開始する計画を“標準物質整備計画”の中で謳っ ている。この領域ではすでに気相計測による校正サービスが開始されている。 ⇒ Ⅲ-2-1-1 を参照 （５） 粒径分布標準物質の開発 本プロジェクトで得られた高精度粒径計測技術基準をもとに、2009 年に平均粒径を 100 nm 付近とする 粒径分布標準物質を少なくとも１物質、2011 年～2013 年にかけて工業的に生産されている典型的なナノ 粒子の平均粒径標準物質を少なくとも３物質、開発し供給する予定である。これらの標準物質は“標準物 質整備計画”の中で整備され、NMIJ の標準物質供給品質システムに則って開発と供給が行われる予定 である。 （６） 分子量分布標準物質 本プロジェクトで開発された SEC-LS による分子量分布計測技術を中心技術として、NMIJ 認証標準物 質“5108-a ポリスチレン（多分散）”が開発された。これは 2007 年度にユーザへの販売が始まっている。 ポリスチレン（多分散）標準物質生産手順マニュアル NMIJ-OPRM-D5008 文書番号 NMIJ-OPRM-D5008 版数 1.0 文書名 ポリスチレン（多分散）標準物質生産手順マニュアル 作成者 高分子標準研究室 衣笠 晋一 管理原本欄 管理原本 日付 品質管理者 独立行政法人 産業技術総合研究所 計測標準研究部門 先端材料科 高分子標準研究室 茨城県つくば市東 1-1-1 つくば中央 5-2 作成（日付及び氏名） 検査（日付及び氏名） 承認（日付及び氏名） 2007/11/9 衣笠 晋一 NMIJ 認証標準物質 NMIJ CRM5008-a“ポリスチレン（多分散）”の認証書（左）と 生産手順マニュアル（右） （７） SEC-LS の ISO 規格 本プロジェクトで確立された SEC-LS の技術基準と国内共同測定をもとにして 2007 年に、“Plastics – Ⅳ-(2) Determination of average molecular mass and molecular mass distribution of polymers using size-exclusion chromatography coupled with light scattering detection”と題する新規提案の提案を行った。 これは同年の TC61（プラスチックス）・SC5（物理化学的性質）会議で新規提案として認められ、2008 年 5 月 CD（Committee Draft）投票のために TC61/SC5 事務局へ CD 案を提出中である。技術的なところでは 特に大きな反対がなく、2 年後の ISO 規格化を目指して活動中である。 2008 年国際回覧に付与した CD（Committee Draft）案の表紙 （８）液中粒子数濃度標準供給 今後の展開として、2008 年度中には、標準供給に用いられる品質システムを立ち上げる予定で 準備を進めている。品質システムでは、校正を実施するための技術基準を定めたマニュアル、校 正方法や不確かさを評価する方法を定めた校正のマニュアル、校正に使用するための装置やその 管理方法を定めたマニュアル等を整備し、ISO17025 や産業技術総合研究所の定めた基準に合致し た校正サービスを行えるようにしていく。2009 年度中には、標準整備計画に基づき 500 nm まで 対応粒径域を拡張し、液中粒子数濃度標準供給を開始する予定である。この標準の供給により、 水道法により 500 nm から 10 µm の粒径範囲で行うことが定められている濁度計校正基準に貢献で きるようになる。図 IV-1-1.1 に標準供給を開始した依頼試験の校正証明書の見本を示す。 図 校正証明書の見本 Ⅳ-(3) （９）液中粒子数濃度測定校正技術の標準化 液中粒子数濃度測定校正技術の標準化として ISO への対応がある。ISO-21501 ( TC24SC4 ) にお いて、液中粒子計数装置の校正に際して、1 次標準が設定された場合はこれを使うことを推奨す る規定がある。次期 ISO 改定の際に、確立された液中粒子数濃度の 1 次標準として、校正の基準 に使用されるよう、ISO の中に取り込まれるように整備を進めていく。 （１０）液中粒子数濃度計数技術の高度化 本プロジェクトで開発してきた液中粒子数濃度測定技術の高度化としては、計数範囲の拡張が あり、より小さな粒径域での計数評価技術の開発および高濃度試料の計数が考えられる。より小 さな粒径域の液中粒子数濃度標準および校正技術基準を定めることにより、ハードディスクやシ リコンウェハの表面試験に用いられる標準溶液や、超純水の計数に用いられる液中粒子計数装置 の校正に使用できる新しい基準として貢献できるようになる。より高濃度の試料を計数する技術 を開発することにより、粒子数濃度標準液を製造する際に、より上流側の高濃度溶液を校正する ことが可能になり、不確かさの低減や標準試料作成コスのト削減を見込むことができる。 （１１）液中粒子数濃度測定技術の実用化 本プロジェクトで開発してきた液中粒子数濃度測定技術の実用化については、これまで開発し て技術は標準設定に特化したものであったが、液中粒子数濃度校正技術基準を公開することによ り、より実用的な測定技術として広めていく。さらに、測定の自動化をふくめて、技術の一般化 や簡便化を図る。 1.2 関連分野への波及効果 （１）エアロゾル粒子質量分析器の利用 開発した APM は、現在エアロゾル粒子の質量分布を測定する唯一の実用的技術であることから、 様々なエアロゾル粒子の特性評価への利用が試みられている。幾つかの利用事例を下表に示す。 表 Applications effective density material density mass porosity fractal dimension specific surface area distribution mass concentration エアロゾル粒子質量分析器の利用事例 Target particles atmospheric aerosols diesel exhaust particles carbon nanofibres atmospheric aerosols atmospheric aerosols atmospheric aerosols diesel exhaust particles graphite particles porous particles diesel exhaust particles carbon nanotubes NaCl, DOS, diesel diesel exhaust particles number of primary particles agglomerate particles calibration of black carbon graphite particles measurement by LII Authors Ref. McMurry, P. H., Wang, X., Park, K., and Ehara, K. (2002) 1) Park K., Cao, F., Kittelson, D. B. and McMurry, P. H. 2) B. K. Ku, M. S. Emery, A. D. Maynard, M. R. Stolzenburg, 3) P. H. McMurry (2006) M. J. Cubison and J. L. Jimenez (2006) 4) M. J. Cubison, et al. (2006) 5) M. D. Geller, S. Biswas, and C. Sioutas (2006) 6) Park, K., Kittelson, D. B., Zachariah, M. R., and McMurry, 7) P. H. (2004) Moteki and Kondo (2007) 8) Okuyama (2008) 9) Park K., Cao, F., Kittelson, D. B. and McMurry, P. H., 2003 2) A. D. Maynard, B. K. Ku, M. Emery, M. Stolzenburg, P. H. 10) McMurry (2007) K. Park, D. B. Kittelson, P.H. McMurry (2003) 11) K. Saito, O. Shinozaki, A. Yabe, T. Seto, H. Sakurai, K. 12) A. A. Lall, W. Rong, L. Madler, and S. K. Friedlander 13) Kondo, Y., et al. (2006) 14) Ⅳ-(4) （２）標準粒子メーカにおける 30 nm 粒径標準粒子の販売 30 nm からの粒径値づけ依頼試験サービスを開始後，標準粒子メーカからの依頼試験要請を受 け 30 nm の標準粒子に対して粒径値づけを実施した。当該標準粒子メーカが従来までに市販して いた標準粒子の最小粒径は 50 nm であったが，30 nm の標準粒子を市販するに至った。この粒子 の出荷本数は他の粒子と比較して多いとの情報を得ている。 （３） 粒径分布標準 粉体工業での計測だけではなく、医薬品、生活用品、インクジェットインク、各種ナノ材料などの様々な 分野での研究開発や品質管理に使用される。これらの分野では液体中に分散している正にその状態で ナノ粒子やその凝集体の粒径を企業間で交換できる計測データを必要としており、平均粒径値だけでな く粒径分布が認証された標準物質の供給を望む声が高い。 （４） ナノリスクプロジェクト 現在 NEDO のプロジェクト、“ナノ粒子特性評価手法の研究開発／キャラクタリゼーション・暴露評価・有 害性評価・リスク評価手法の開発”では毒性評価に使用される各種ナノ粒子の粒径評価を行っているが、 その際本テーマで確立した高精度 DLS 技術をアンカーとして汎用粒径装置の妥当性評価を行ってい る。 （５） 分子量分布標準物質 高分子材料の研究開発と品質管理の分野で行われる分子特性解析技術の妥当性評価に使われてい る。実際に供給された実績はまだ少ないが、米国 NIST の標準物質（SRM608a）に代わる標準物質として 各分野で使用されると期待される。 （６） SEC-LS 共同測定 ISO 規格提案のために SEC-LS 法の国内共同測定を実施した。民間企業を中心に参加機関の数は 20 であった。共同測定の結果は SEC-LS 法の妥当性を証明するものであり、参加者への成果還元として報 告書を作成した配布した。参加者は日々現場で計測の妥当性評価を気にしており、SEC-LS 法に対する 共通認識を熟成することで安心して計測結果を顧客に提供できるようになった。 （７）標準粒子メーカによる液中粒子数濃度標準の販売の品質向上 現在市販されている液中粒子数濃度標準試料溶液には、１次標準にトレーサブルなものはないが、本 プロジェクトの成果により、液中粒子数濃度のトレーサビリティの体系を構築できるようになる。これにより、 薬局方や水道法により規定されている試験法の高精度化を図れ、国民の生活安全の向上に資すること ができる。 （８）気泡識別液中粒子計数技術 超純水製造過程におけるコンタミネーションコントロールを行う際に問題となる、気泡による偽計数を 排除した計数を行うことにより、より迅速かつ適切な対応を行うことが可能になる。環境負荷の低減やコス Ⅳ-(5) トの削減等に資することができる。超純水製造機メーカやそのユーザから本プロジェクトで開発した気泡 識別液中粒子計数技術の供給を望まれている。 （９）分光分析型液中粒子計数の校正技術 本プロジェクトで開発してきた、分光を利用した計数技術や標準試料のサンプリングによる不確かさ評 価を含んだ分光分析型液中粒子計数の校正技術を発展させることにより、医学検査に用いられているフ ローサイトメーター等の分光感度校正技術が確立でき、装置間や診療所間の測定の不確かさをおさえる ことにより、保健医療の質の向上が見込まれる。BIPM、国際臨床化学連合(IFCC)、世界保健機関 (WHO)、ILAC により設置された医学検査に関するトレーサビリティに関する合同委員会(JCTML)が求め ている、「医療診断計数が SI トレーザブルであること」に対応できるようになる。 Ⅳ-(6) Ⅳ-2. 空孔の計測基盤 2.1 普及型・小型化陽電子寿命測定装置 普及型陽電子寿命測定装置および小型化陽電子寿命測定装置に関するノウハウをライセンス契 約により計測器メーカに開示し、市販装置として販売できる体制とした。薄膜中のナノ空孔計測 は、次世代半導体用層間絶縁膜、水処理用逆浸透膜およびナノフィルター膜、ガス分離膜などの 研究開発において重要であり、半導体産業、高分子メーカや分析サービス企業、大学が強い関心 を寄せている。本装置により多くのユーザが信頼性の高いナノ空孔計測を行うことができるよう になれば、製品開発の加速が可能となり、国際競争力が強化される。推進委員会においても、石 切山委員から「陽電子法については相当に進捗していると思う。産業界に非常にインパクトがあ る。高分子製造メーカーでも非常に注目している。水不足を解決する逆浸透膜の研究に活用され ることが海外でも注目されている。自由体積の圧縮はナノアロイの作製条件の検討でも注目が集 まっている。これらは陽電子消滅でしか見えない。条件を変えることによって、いろんなアロイ ができることがわかってきている。日本のナノ材料開発に非常に役立つ。是非すばらしい装置に 仕上げて欲しい」と、高くご評価いただいた。 2.2 陽電子寿命測定用標準物質 陽電子寿命の試験所間比較試験に用いた試料と同一ロットの石英ガラスの陽電子寿命の値決め を行い候補標準物質として供給を開始した。本標準物質の生産、認証、および、供給は、産総研 計測標準研究部門における標準物質開発マネジメントシステムに基づき行われ、現在、世界で唯 一の陽電子寿命測定用認証標準物質としてユーザに提供されている。認証情報の概要は以下の通 り。 【名 称】 陽電子寿命による超微細空孔測定用石英ガラス (Synthetic Fused Silica for Positron Hole-size Measurements) 【概 要】 本標準物質は、JIS Q 0034 (ISO GUIDE 34) に適合するマネジメントシステムに基づき生産された 陽電子寿命による超微細空孔測定用石英ガラスであり、1 ns よりも大きいオルトポジトロニウム 寿命成分を持つ高分子材料や類似試料を対象とした陽電子消滅寿命測定の精度管理、測定方法お よび測定結果の妥当性確認に用いることができる。 Ⅳ-(7) 認証標準物質 NMIJ CRM5601a 【認証値】 本標準物質のオルトポジトロニウム寿命の認証値は以下の通りである。認証値の不確かさは、合 成標準不確かさと包含係数 k = 2 から決定された拡張不確かさであり、約 95 %の信頼の水準をも つと推定される区間を示す。 認証値および不確かさ オルトポジトロニウム寿命 認証値 (ns) 拡張不確かさ (ns) 1.62 0.05 【参考情報】 認証値で示されるオルトポジトロニウムの寿命τ [ns] は量子力学モデル ⎡ τ = 0.5⎢1− ⎣ −1 ⎛ 2πR ⎞⎤ R 1 + sin⎜ ⎟⎥ R + 0.166 2π ⎝ R + 0.166 ⎠⎦ を用いると空孔半径 R = 0.26 [nm] に相当する。 V = 4 πR 3 から空孔体積 V = 0.070 [nm3] となる。 3 【認証値の決定方法】 本標準物質の認証値は、22Na から陽電子が放出したのち、候補標準物質 (石英ガラス) に侵入し、 内部の電子と対消滅するまでの時間差を積算した消滅時間分布データに、三つの消滅モードによ る減衰指数モデル関数を非線形最小二乗フィッティングし、その第三成分の消滅速度の逆数から 平均寿命として求めたものである。不確かさは候補標準物質の均質性、測定の再現性、陽電子線 源での陽電子の消滅、陽電子消滅寿命測定器の時間分解能および測定時間軸精度に起因する不確 かさを合成して決定した。 Ⅳ-(8) 【トレーサビリティ】 認証値の決定に使用した陽電子消滅寿命測定器の時間差計測には校正されたデジタルオシロスコ ープを用いた。認証値および不確かさ決定のための計測時間は国際単位系 (SI) にトレーサブルで ある。 【有効期限】 本標準物質の有効期限は、未開封で下記の保存条件のもとで 2012 年 3 月 31 日である。 【形状等】 本標準物質は、常温では無色透明固体で、厚さ 1.5 mm、15 mm 角片 2 枚がプラスチック容器に入 れられている。 【保存に関する注意事項】 本標準物質は清浄な環境で室温にて保存する必要がある。乾燥空気もしくは窒素気流下での保存 を推奨する。放射線発生源からは距離をおいて保存すること。 【その他の取扱における注意事項】 本標準物質はガラスであり、破損しやすく破損面での切り傷、破片飛散の危険性があるため、落 下などによる過度の衝撃が加わらないよう注意すること。 【製造方法等】 本標準物質は同一ロットの市販石英ガラスを購入したものである。 【均質性】 小分けした 150 個片からランダムに 36 個取り出し 2 個 1 組を 1 測定試料とし, 陽電子消滅寿命測 定法で各試料のオルトポジトロニウムの寿命値を測定した。測定値の分散分析を行い、試料間の ばらつきが有意でなく均質であることを確認した。 【技術情報の入手】 本標準物質に関して認証値の変更等、重要な改訂があった場合は購入者に通知する。なお、本標 準物質に関する技術情報は、下記ホームページ及び連絡先より入手できる。 独立行政法人 産業技術総合研究所 計量標準総合センター 計量標準管理センター 標準物質認証管理室 〒305-8563 茨城県つくば市梅園 1-1-1 電話：029-861-4059、ファックス：029-861-4009、ホームページ：http://www.nmij.jp/ 本標準物質は平成１９年度に供給が開始され、約１年経過した現在、分析サービス企業、高 Ⅳ-(9) 分子材料関連企業、大学の研究者などによって利用されている。バルク試料についての陽電子寿 命値の妥当性および同等性の確認が可能になることから、本標準物質の開発は、専門外技術者へ の陽電子寿命測定法の普及促進の点から大きな意義がある。 2.3 陽電子寿命測定方法の工業標準化の見通し 研究成果である「バルク試料の陽電子寿命測定技術」を幅広い工業分野に波及させるために平 成 18 年度から工業標準化の検討を本格的に開始した。 （詳細は、 （５－Ⅲ）陽電子消滅測定の標準 化 ２ バルク陽電子寿命測定の標準化 参照） 平成 18 年 10 月に陽電子寿命測定比較委員会が活 動を開始し、審議を経て、平成 20 年 2 月に標準仕様書（TS）素案を完成させた。 今後は、産業 技術総合研究所工業標準部と連携して、原案作成委員会における書面審議、経済産業大臣への申 請を行い、同標準仕様書を制定する。さらに、平成 23 年を目指して、JIS 化の検討を開始する。 従来は陽電子寿命測定の標準文書が存在せず、専門外技術者にとって初めて同測定方法を利用 する際の大きな障害となっていた。本標準仕様書の制定により、また、金属・半導体試料を対象 とする標準仕様書の制定を行うことにより、専門外技術者への陽電子寿命測定法の普及促進が期 待される。 2.4 高感度気体吸着法と偏光解析装置 本プロジェクトで開発した高感度気体吸着装置の光学窓に関する特許２件およびノウハウをラ イセンス契約によりガラスメーカー、偏光解析装置メーカに開示する。本光学窓は、高感度気体 吸着測定に限らず、偏光解析装置に付属させることにより、薄膜の膜厚および屈折率の温度変化 の測定を可能にする。本光学窓を付属させた偏光解析システムを市販装置化することにより、光 学材料関連企業などの一般ユーザに普及させる予定である。 2.5 精密制御高分子技術プロジェクトへの貢献 ナノ計測基盤プロジェクトとともに、ナノテクノロジープログラムを構成する精密高分子技術 プロジェクトの中で超臨界二酸化炭素処理を利用した発泡による高分子への空孔導入技術の開発 が行われている。超臨界二酸化炭素処理により生成するマイクロメートルサイズの空孔ついては SEM 等で調べることができるが、サブナノ領域における構造変化については不明である。同プロ ジェクトと連携して、陽電子消滅寿命測定法を用いて超臨界二酸化炭素処理が高分子のサブナノ メートルサイズの構造に与える影響を調べた。その結果、超臨界二酸化炭素処理により高分子を 簡単にナノ発泡できることが示され、同プロジェクトにおける多孔質高分子材料開発に貢献する ことができた。 Ⅳ-(10) Ⅳ-3. 表面構造の計測基盤 3.1 成果の実用化 「表面深さ方向分析法の精密化」においては、放射光を励起光として利用したＸ線光電子分光 法により光電子の有効減衰長(EAL)を求めて、得られた有効減衰長の値と薄膜試料の光電子分光ス ペクトルから試料の膜厚を 0.2nm 以下の不確かさで求めることを目標として研究を行った。SI ト レーサブルな膜厚を有するシリコン酸化膜を元に有効減衰長を求めてより膜厚の薄い 2nm 以下の シリコン酸化膜の膜厚を求めて具体的に目標を達成した。 この有効減衰長による膜厚評価法については、SI トレーサブルな膜厚評価法として知られるＸ 線反射率法では不確かさの大きくなる領域でも 0.2nm 以下の不確かさで求めることが可能となり、 今後より膜厚の小さい薄膜試料の膜厚評価法として用いられると考えられる。 これまでシリコン酸化膜の標準薄膜試料としては NIST からエリプソメトリー校正用に製作さ れた 10－200 nm の膜厚の物（現在は供給されていない）、本研究でも用いた NMIJ CRM5204-a(膜 厚 3.49nm)などがある。これらの認証標準物質の膜厚の認証値はそれぞれの膜厚評価の手法により 一定の不確かさ以下で認証できる下限がある。このような標準試料を基準として本研究で得られ た有効減衰長を用いて膜厚を決定することでより膜厚の小さい試料の膜厚を評価することができ る。特に光電子分光法はプローブ径が数百ナノメートルと小さいため、小片試料においても必要 に応じて複数箇所を評価することで膜厚の不確かさを小さくすることができる。標準試料として 供給するためには本研究で開発した評価方法だけでなく試料作製方法、保存方法、配布方法など の技術的な面についての検討も必要であるが、2nm 程度のシリコン酸化薄膜については、供給整 備体制としては検討すべき要素は残るものの、上述の既に供給されている認証標準物質の延長上 で対応できると考えている。また、将来にわたって安定した評価手法とするためには、本研究で 放射光を用いて開発した有効減衰長を用いた膜厚評価法について通常の X 線源をもちいた市販の X 線光電子分光装置で膜厚評価できるように検討が必要であると考えている。 また、これまで放射光を用いて、定量と化学状態分析を同時に非破壊でできることを利用して 触媒や機能材料の解析に定性的な深さ方向分析手法として応用してきたが（*)、本研究によって 得られた有効減衰長に関するデータと計測技術と、現在用いられている NIST Database などを組み 合わせることにより、表面の構造モデルと実験データとの比較から高精度で深さ情報が得られる ようになり、より高い精度で深さ方向の定量、化学状態分析が可能になると考えられる。 放射光を利用した励起エネルギー可変 X 線光電子分光法標準化のための検討委員会で技術の標 準化について検討した。その結果、放射光という優れた光源を利用した X 線光電子分光によって 得られた知見や技術は一般に普及している X 線光電子分光装置の使用に際して非常に有用である との合意が得られ、本プロジェクトで得られた有効減衰長に関する知見および放射光に特有な技 術を含めた技術情報を一般のユーザにアクセス可能な形でまとめることとした。将来、X 線光電 子分光法による表面評価法が JIS 等により標準化される際の基礎情報として役立つと期待されて いる。 Ⅳ-(11) * M. Imamura, N. Matsubayashi, and H. Shimada, "Catalytically Active Oxygen Species in La1-xSrxCoO3-δ Studied by XPS and XAFS Spectroscopy", J. Phys. Chem. B 104 (2000) 7348 N. Matsubayashi, B. P. Singh, M. Imamura, T. Tanaka, Y. Sato, T. Ogiwara, M. Suzuki, S. Kiyota, “Surface Characterization of Tungsten and Tungsten Carbide-Cobalt probe Materials for a Fine-Pitch Four-Point Probe by Variable Excitation XPS using Synchrotron Radiation”, Surface and Interface Analysis, 36, (2004) 853. 電子分光分析標準スペクトルデータベースの構築においては、実用的な材料の表面分析において、 利用者が自己のスペクトルと比較利用することを意図して種々の材料の標準スペクトルを取得し てきた。収録に際して、スペクトルデータそのものだけでなく試料の純度や供給元といった付帯 情報及びデジタル画像、前処理及び測定条件等の関連する情報も併記して参照できるように整備 してきた。分析装置の透過関数補正およびエネルギー軸校正などのデータベースの利用に必要な 技術情報については、標準化のための技術文書を作成し、データベースと併せて電子ファイルの 形で公開したが、更に内容を補充し、比較的経験の浅い分析者にとって有用な基本的な留意事項 等も含めたものを、冊子体として刊行するための準備を進めている。冊子の作成に当たっては、 本プロジェクトを進めるために開発してきた、試料へのダメージの少ない前処理技術や、測定時 の試料帯電や試料の変質等を軽減するための技法に関する情報も有効に分析ユーザ間で共有でき るよう配慮する。将来、産総研が実施主体となって、広く産学官の諸機関を対象にした電子分光 分析分野における試験所間比較もしくは技能試験が実施可能な環境が整備されたなら、本研究に おいて開発されたデータベースや測定に関連する諸技術は、その実施を支援するものとなること が期待できる。このような比較試験は分析技術者の技能向上に資するばかりでなく、機関間のデ ータのばらつきを解消し、異なる機関で測定したデータの定量的比較の精度を向上させる事が期 待できる。その結果材料評価技術としての電子分光の利用が拡大し、装置の普及を加速するとと もに、半導体、無機材料、金属材料等の開発・製品異状の解析などの高度化・迅速化への貢献と いった波及効果も期待できる。 プロジェクト期間終了後も、公開データベースとして継続して運用し、ユーザに参照データを 供給し続けるとともに、産総研の研究課題の中で今後もデータベース収録スペクトルの拡充（当 面 20 元素 70 物質程度を目指す）と使いやすいデータベースシステムとするためのユーザーイン ターフェースの改良などを継続して実施する。本データベースは大きく分けて次の２通りの利用 形態を想定している。第一は研究機関や民間企業等において材料の開発や製品の評価手段として 光電子分光装置を利用する研究者及び技術者を対象とした物で、自己の測定したスペクトルデー タと比較して定性・定量分析を行うための参照用データを提供するものである。第二は学術・研 究機関において電子分光分析や表面物性に関する基礎的な研究を行う研究者がモデルの構築や解 析に利用する素材となる実測スペクトルデータの提供である。これら両分野の潜在的利用者の多 くが、限られたいくつかの学術団体で活動しているので、それらの場で成果発表を行う事により データベースの周知と利用拡大を図る活動を行っており、今後も継続して進める。また国外から Ⅳ-(12) のアクセスにも対応するため、英語によるユーザーインターフェースの実装に向けた準備も進行 している。 バックグラウンド解析プログラムは現在インターネット上に公開され、広範な研究者・技術者 が無料でダウンロードして使用できる状況が達成されている。しかしながら、現状のプログラム では解析のためには、最低限二つのピークとその「外側」の領域の範囲を定義しなければならな いなど、使いこなすためには表面分析に関する相当の知識と経験を要する。今後はデフォルト設 定、例えばピークの初期の係数等、を最適化するなどより使いやすい解析ソフトに改良するとと もに、ヘルプファイルの充実化、ダウンロードしたユーザに対するフォロー、ユーザーコメント のフィードバックを行い、広範なユーザを対象として更なる普及をめざす予定である。 表面分析のニーズは多岐にわたり、本方法は他の手段では知ることが容易でない試料表面近傍の 損失関数を求めることができる。また、光電子とオージェ電子を同じプラットフォームの上で扱 うので、これらの相対的な強度に関する情報が得られ、どちらか一方のスペクトルの測定で他方 の結果が予想できるように可能性がある。また、本方法は分解能の低い、サーベイとして時間を かけずに測定されたデータをも解析可能であり、５分で取得したデータを本手法で解析すること により、必要最低限の情報が得られ、今まで数時間かかって取得した本格的な分析からしか求め られなかった情報の一部が短時間の分析でも得られる可能性がある。 Ⅳ-(13) Ⅳ-4. 熱物性の計測基盤 （４－ａ）薄膜・界面熱物性の高精度校正技術の開発 (１)薄膜・界面熱物性計測技術の開発 １）薄膜熱物性に関する実用測定装置の開発 ナノ計測プログラムにおいて開発された薄膜熱拡散率計測技術をもとに実用測定機器が開発さ れた。薄膜の定量的な熱物性値は、次世代光ディスク、相変化メモリ、半導体デバイスなど先端 分野および、成膜装置メーカ、スパッタターゲット等の材料メーカにおいて必要とされており、 関連メーカのみならず、これまでバルク材料の熱物性値測定しか受けなかった多数の依頼分析機 関が実用計測器に強い関心を示している。ユーザが容易に薄膜熱物性値を入手できるようになれ ば、信頼性の高いデバイスの熱設計が可能となり、当該先端分野での製品開発のスピードが加速 し、国際競争力が強化されることが期待される。 実用器 1 薄膜熱物性測定装置：株式会社ベテル http://www.bethel.co.jp/flash/C-02.html ピコ秒サーモリフレクタンス法の開発において確立した計測技術に関する特許並びにノウハウ について、茨城県内の中小企業である株式会社ベテルに対しライセンス契約を行い、2004 年度に 実用計測器が完成した。図１は、ベテル社のホームページ上で紹介されている本装置である。ま た図の右側には、本装置の構成図を示した。レーザ光源にナノ秒のパルスを用いることで、実用 計測器としてのコストダウンが図られている。加熱光と測温光には独立したレーザが使用されて おり、ピコ秒標準器における電気遅延方式技術により、それぞれのパルス発光のタイミングの制 御が行われる。レーザパルス幅がナノ秒であるため、ピコ秒サーモリフレクタンス法と比較する と、測定対象の薄膜はやや厚いものに限られるガ、セラミクス膜や多層膜などの測定・評価には 非常に強力であり、これまでに、機能性薄膜材料として重要な、光ディスク関係、ディスプレイ 関係、各種セラミクス薄膜など熱物性研究に用いられている。今後は先端企業への普及促進が課 題である。下記に本実用器によって行われた研究発表の一例を示す。 図１ 株式会社ベテルの薄膜熱物性測定装置 Ⅳ-(14) 光ディスク用薄膜 1) Kuwahara et al., “Measurements of Temperature Dependence of Optical and Thermal Properties of Optical Disk Materials” Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45, No. 2B, (2006), pp. 1419–1421 2) Kuwahara et al., “Thermal Conductivity Measurement for Sb-Te Alloys Thin Film using Nano-second Thermoreflectance Measurement System” Japanese Journal of Applied Physics Vol. 46, No. 10A, (2007), pp. 6863–6864 3) Kuwahara et al., “Measurement of the thermal conductivity of nanometer scale thin films by thermoreflectance phenomenon” Microelectronic Engineering, 84, (2007), pp. 1792–1796 4) H. Watanabe, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, A. Miyamura, Y. Sato and Y. Shigesato: Proc. of 26th Jpn. Symp. on Thermophys. Prop. (2005) A212 ディスプレイ材料 1) K. Tamano, T. Yagi, Y. Sato, Y. Shigesato, N. Taketoshi and T. Baba: Proc. of 25th Jpn. Symp. on Thermophys. Prop. (2004) A324 セラミクス薄膜 1) T. Ohtsuka, T. Yagi, Y. Sato, Y. Shigesato, N. Taketoshi and T. Baba: Proc. of 25th Jpn. Symp. on Thermophys. Prop. (2004) A323 2) T. Ohtsuka, A. Miyamura, Y. Sato, Y. Shigesato, T. Yagi, N. Taketoshi and T. Baba: Proc. of 26th Jpn. Symp. on Thermophys. Prop. (2005) A113 Ⅳ-(15) 実用器 2 薄膜熱物性測定装置 NanoTR：PicoTherm 社（2008 年 5 月起業） 本実用器は、前項におけるベテル社の実用器と同様にピコ秒サーモリフレクタンス法による計 測技術をもとに開発された装置であるが、測定技術において新たにナノ秒サーモリフレクタンス 法の開発途上において発見された革新要素を導入したことが異なる。本装置は産業技術総合研究 所内のプロジェクト「平成１８-１９年度のベンチャー創出・支援研究事業」において実用化開発 が進められ、2007 年 10 月に製品発表された（図２）。ナノ計測基盤プロジェクト内で開発した ナノ秒サーモリフレクタンス法標準器に対し直接トレーサビリティ体系を結ぶことが出来る上、 新技術により、標準器では数時間の測定時間が必要であったものを 1 分程度に短縮することに成 功した。本測定装置の製造・販売・依頼測定を行う産総研技術移転ベンチャー（PicoTherm 社） が 2008 年 5 月に発足した。 図２ NanoTR（PicoTherm 社） Ⅳ-(16) ２）薄膜熱拡散率標準物質 前述の薄膜熱物性実用測定器の信頼性を保証し、装置の校正に利用されることを目的として薄 膜熱拡散率標準物質の開発を行った。開発の詳細については（４）．１．３ ナノ秒サーモリフレ クタンス法における標準物質開発、を参照されたい。標準物質は膜厚 700 nm の窒化チタン薄膜で であり、GUIDE34 に準拠した品質システムを整備し、2008 年度中に頒布する予定である。 図３ TiN 薄膜標準物質の形状（左）と写真（右） ３）薄膜・界面熱物性計測技術の標準化 国家標準としてのピコ秒・ナノ秒サ－モリフレクタンス法による金属薄膜熱拡散率の標準計測 技術が確立し、さらに国内における薄膜熱物性の実用測定器の販売が行われている状況を鑑みて、 実用熱拡散率計測技術の評価方法を標準化することを目的として、平成 17-18 年度 NEDO 標準化調 査事業「超高速レーザフラッシュ法による薄膜熱拡散率計測技術と透明導電膜標準物質の標準化 調査研究」が執り行われた。九州大学先導物質化学研究所の藤井丕夫教授を委員長とする JIS 素 案作成委員会によりパルス加熱法による薄膜の熱拡散率測定規格の検討が進められた。標準化を 行うべき測定手法の選択・検討では、産総研が開発を進めてきた裏面加熱/表面測温型が、表面加 熱/表面測温型に比べて定量性に優れていることを明らかにした。また裏面加熱/表面測温型装置 を構成するにあたり装置パラメータとして考慮すべき点を取り上げて影響を考察した。温度履歴 曲線の解析手法については対数法の適用について検討し、光の浸透深さが無視できる条件であれ ば用いることができると結論した。さらに試料裏面温度変化曲線から熱拡散率を算出する解析手 法を比較検討した。また、薄膜熱拡散率実用器を保有する青山学院大学、産業技術総合研究所近 接場光応用工学センターおよび標準器を保有する同計測標準研究部門との間で、厚さ 960 nm の窒 化チタン薄膜についてのラウンドロビンテストが行われ、実用測定器の妥当性が確認された。 上記の内容は、計 5 回の委員会内において詳細な意見交換がなされ、最終的に JIS 素案「光パ ルス加熱サーモリフレクタンス法による薄膜熱拡散率の測定方法」が提出された。 Ⅳ-(17) (２) コーティングの熱物性値測定技術の開発 １）成果の実用化 本サブテーマでは、応答関数法による多層モデルと面積熱拡散時間を適用した解析を適用した レーザフラッシュ法が、基材と一体化したコーティングの熱拡散率測定に有効であることを明ら かにし、この技術基準を確立した。この測定技術は、ガスタービンの評価など、実際の材料試験 方法として普及が期待されている。普及の形態としては、関連する論文や学会誌などによる公表 だけでなく、標準化を予定している。NEDO 委託事業「耐熱コーティングの特性評価試験方法に関 する標準化調査事業」（委託先：（財）大阪科学技術センター）においても、本サブテーマで確立 した手法を採用しており、測定技術の検証のための実験や JIS 規格素案骨子の作成など、ISO 規 格も視野に入れた標準化の準備が既に進んでいる。本件では、数 100μm 厚さのコーティングを対 象としたが、一般的なコーティングには、より薄いものや厚いものも存在する。確立した基材と 一体化したコーティングの熱拡散率測定の技術基準は、理的には、試料サイズには依らずに適用 が可能である。したがって、本件の成果を、測定装置の工夫などにより拡張することによって、 より広い範囲で、基材と一体化した層状の材料の熱物性値評価に適用することができる。 本サブテーマでは、熱拡散率の測定技術の他に、レーザフラッシュ法で必要な黒化処理方法や DSC による比熱容量測定の分解能・安定性を検討した。成果として得られた、従来のカーボンス プレーの塗布が測定及ぼす影響の定量的評価や新しい黒化処理方法、DSC の試料容器選定などの 技術要素は、測定の現場で利用することができる実用的なノウハウであり、ニーズが高いと思わ れる。今後学協会での講演や論文発表を通じて普及が期待できる。 ２）関連分野への波及効果 コーティングの熱物性値を測定する実用測定機の検討・試作を行った。試作した実用測定機は、 周期加熱法と放射測温法を組み合わせたものであり、測定範囲は、現状では測定技術・実用測定 装置がほとんど確立していない領域に対応する。一方で、その測定範囲は、熱物性値の測定のニ ーズが高まっている範囲でもある。したがって、この実用測定機を完成させて市場投入すること は、非常に大きな実用化であると言える。今後は、信頼性を含めた評価とそれをフィードバック させた改良を行い、製品化のプロトタイプ機の作製をしたいと考えている。 （４－ｂ） 熱物性標準物質の開発（JFCC） １）成果の実用化 熱物性標準物質の開発においては、開発した標準物質の供給が成果の普及となる。本研究において 開発した標準物質のうち、ジルコニア系標準試料とアルミナ系標準試料については、NEDO 委託事業 「耐熱コーティングの特性評価試験方法に関する標準化調査事業」（委託先：（財）大阪科学技術センタ ー）において、測定方法の検討用として使用されている。この 2 種類の標準物質はどちらも、理想的な 2 層試料であり、研究機関間や解析方法間の差などの評価に用いられている。今後は、供給用の試料作 製および熱物性標準値の値付けを行い、供給に向けて準備を進めていく予定である。 Ⅳ-(18) ２）関連分野への波及効果 本研究において開発した標準物質は、2 層試料の熱物性評価方法として多用されているレーザフラッシ ュ法による測定を対象としたものである。試料の構造としては、熱物性の異なる 2 種類の材料を組み合わ せたものであるため、300μm 程度の表面層のみで熱物性を計測できる周期加熱放射測温法のような 方法においては、コーティング側、基材側の両方の面での測定ができる。従って、適用範囲、評価方法を 検討することにより、レーザフラッシュ法による２層解析の標準物質だけでなく、他の評価方法の標準物質 として適用することも可能である。 （４－ｃ）熱光学特性評価の高精度校正技術の開発 サブテーマ：熱光学特性評価の高精度校正技術の開発においては、本研究開発により得られた 知見を活用し技術基準として熱膨張率校正マニュアル-室温-（文書番号 QMC TE02B; NMIJ 品質マ ニュアル）を作成し、このマニュアルに基づいた室温熱膨張率の依頼試験（5 ℃-35 ℃）による 標準供給を開始した。また、標準的光学ガラスである品質の明らかな合成石英ガラスおよびホウ 珪酸ガラスについて高精度測定を行うことにより、-60 ℃～+80 ℃の温度領域における標準参照 データを取得した。これについては公開中の熱物性データベースなどを活用しデータの普及を促 進し、一般の計測器の校正用参照試料としての活用を促してゆく。また技術協力により ASET にお いて開発された高精度 CTE 測定装置について、今後も検討・改良を進めることにより実用計測器 としてのブラッシュアップを進めてゆく予定である。 現在、エレクトロ素子における高密度集積化への要求や動作信頼性を低下させる原因となる素 子温度上昇の影響の回避などの有力な解決手段として超低膨張材料の活用が挙げられる。本サブ テーマの成果はそれらの超低膨張性が要求される材料に対して高信頼性の特性評価を可能とする ことにより、より一層の技術開発の進展や実用化の促進が期待できる。また、これらの材料は温 度変化に対して安定な特性を有するため制御のためのエネルギー消費を抑えることも可能となり、 省エネルギー対策への波及も期待できる。 １）解説・技術文書 1. 室温熱膨張率の校正, N. Yamada, AIST Today Jan/Vol.5 No. 1, 30 2. 熱膨張率 校正マニュアル -室温- QMC TE02B, NMIJ 品質マニュアル, 2004. ２）波及効果 成果の活用と普及の一貫として研究技術組合超先端電子技術開発機構(ASET)の主導で行われた 研究 PJ“高精度 CTE 測定装置開発”（2002-2006）に対して技術協力を行い、次世代半導体プロ セスにおけるキーマテリアルであるゼロ膨張マスク材料の熱膨張特性評価のための実用高精度 CTE 測定装置の開発をサポートした。 参考成果として当該 PJ における研究発表を以下にまとめる。 また、当該 PJ により開発したプロト機をもとにした実機が複数の民間材料メーカに納入されてい る。また、プロト機は ASET における PJ の終了後、産総研に移管され引き続き装置開発・改良が 進められている。また、下記は ASET におけるプロジェクトでの成果例である。 Ⅳ-(19) 1. High-precision optical heterodyne interferometric dilatometer for determining absolute CTE of EUVL materials, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, Emerging Lithographic Technologies IX @San Jose, USA, (Proceeding of SPIE vol. 5751, 1069-1076. 2. High-precision (<1ppb/°C) optical heterodyne interferometric dilatometer for determining absolute CTE of EUVL materials, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, Proceedings of SPIE Microlithograpy 2006, San Jose, California, USA 3. Performance of dilatometer for determining absolute CTE of EUVL LTEMs, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, Microelectronics Engineering 83(4-9) 2006, p1617-1620. 4. Design and manufacture of high-precision dilatometer for low-thermal-expansion materials for EUVL, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, 3rd International EUVL Symposium, 宮崎. 5. EUVL 低膨張材料用光ヘテロダイン干渉式膨張計の性能報告, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, 05 秋季応用物理学, 徳島. 6. EUVL 用低膨張材料における CTE 絶対測定のための光へテロダイン方式熱膨張計の開発, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, NGL ワークショップ (日本未来科学館, 東京. 7. "Performance of optical heterodyne interferometric dilatometer for determining absolute CTE of EUVL low-thermal-expansion materials, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, 31th International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2005, Vienna, Austria. (MNE2005)" 8. Reproducibility of the absolute CTE measured values by means of optical heterodyne interferometric dilatometer for EUVL LTEMs, Y. Takeichi, I. Nishiyama and N. Yamada, 4th International Extreme Ultra Violet Lithography（EUVL）Symposium, San Diego, California, USA. （４-ｄ）周期加熱サーモリフレクタンス法の標準化 周期加熱サーモリフレクタンス法（製品名熱物性顕微鏡、株式会社ベテル）の普及が進展し、 本測定手法の標準化に対するニーズが明らかとなったことから、平成 19 年度に本測定法に関する 調査研究を行い、その成果を TS 素案としてまとめた。規格案の名称は「周期加熱式サーモリフレ クタンス法による局所領域の熱浸透率測定方法」である。 Ⅳ-(20) （別紙） ナノ計測基盤技術プロジェクト成果リスト(2008/7/4) 平成１３年度 微小要素物理特性 （１）論文発表 1. P. H. McMurry，X. Wang，K. Park，K. Ehara，The Relationship between Mass and Mobility for Atmospheric Particles: A New Technique for Measuring Particle Density， Aerosol Science and Technology，36-2，pp.227-238，2002/02. 2. M. Tanaka and K. Ehara ， Nanoscopic Measurement Technological Infrastructure Project ， Proceedings of the Sino-Japan Symposium on Nanotechnology and Nanomaterials，pp.37-38，2001/11. 3. 島田かより，佐藤圭祐，Marina A. Lusenkova，衣笠晋一，工藤憲一，山内芳雄，「超臨界流体クロマ トグラフィーによるオリゴマーの分離」『高分子論文集』， 2001 年: 58 巻, 10 号, 541-547. （２）特許 1. 高畑圭二，榎原研正，液滴採取用サンプリングプローブ，並びに噴霧液滴の粒径分布測定方法及 び装置，特願 2001-385208，2001 年 12 月 18 日. 2. 榎原研正，秦勝一郎, 粒径分布測定方法及び装置，6281972B1(アメリカ)，2001/08/28. （３）口頭発表 1. 高畑圭二，榎原研正，蒸発残渣を利用した噴霧液滴の粒径分布測定法の検討，第 10 回微粒化シン ポジウム，2001 年 12 月 22 日. 2. K. Ehara, K. Takahata, and M. Koike，Absolute Size Measurement of Monodisperse Particles Using the Electro-gravitational Aerosol Balance， Annual Conference of the American Association for Aerosol Research，Portland/USA，2001 年 10 月. 3. 榎原研正，気相中微粒子の質量・粒径の計測と標準物質，機械学会 RC182 研究会，東京， 2001/06/04. 4. 榎原研正，エアロゾルの計測技術，混相流レクチャーシリーズ第２６回，東工大大岡山，2001/11/21. 5. 榎原研正，微粒子の質量計測技術と標準粒子への応用，筑波微粒子界面研究会例会，つくば市， 2001/11/28. 6. 島田かより，加藤晴久，衣笠晋一，「均一オリゴマーを用いた高精度分子特性解析 II－分子動力学 計算による PEG の水中での拡散挙動と実験結果との比較」，第 50 回高分子討論会，早稲田大学大 久保キャンパス，2001 年 9/12. 別紙-1 7. 島田かより，長畑律子，衣笠晋一，川畑慎一郎，「均一オリゴマーを用いた MALDI-TOFMS における mass discrimination 効果の解明」，第 6 回高分子分析討論会，工学院大学新宿校舎，2001 年 11/6. 8. 島田かより，佐藤圭祐，Marina A. Lusenkova，衣笠晋一，工藤憲一，山内芳雄，「超臨界流体クロマ トグラフィーによるオリゴマーの分離」，第 7 回 LC テクノプラザ，東京理科大学薬学部，2002 年 2/1. 9. 坂口孝幸，蛍光を利用した液中粒子数濃度校正技術のための粒子気泡識別技術に関する研究，２ ００２年春季第４９回応用物理学関係連合講演会，２００２年３月２８日. （４）その他発表 1. 「初の標準物質開発もナノをはかる物差し」(近未来ドキュメント－超への挑戦)，日本工業新聞，平成 １３年１１月６日. （５）受賞 1. 島田かより，佐藤圭祐，Marina A. Lusenkova，衣笠晋一，工藤憲一，山内芳雄，「超臨界流体クロマ トグラフィーによるオリゴマーの分離」，第 7 回 LC テクノプラザ・ベストテーマ賞 2002 年 2/1 東京理 科大学薬学部. 空孔 （１）論文発表 1. R. Suzuki, T. Ohdaira, Y. Shioya, T. Ishimaru, Pore characteristics of low-dielectric-constant films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition studied by positron annihilation lifetime spectroscopy, Japanese Journal of Applied Physics 2, Letters, 40, L414-416 (2001). 2. A. Uedono, Z. Q. Cheng, R. Suzuki, T. Ohdaira, T. Mikado, S. Fukui, A. Shiota, S. Kimura, Nanoporous structure of methyl-silsesquioxane films using monoenergetic positron beams, Journal of Applied Physics, 90, 2498-2503 (2001). 3. 伊藤賢志, 小林慶規, 鄭万輝, 張天保, 平田浩一, ポーラスシリカ薄膜中におけるポジトロニウムの 挙動, RADIOISOTOPES, 51, 53-59 (2002). 4. Y. Kobayashi, W. Zheng, T. B. Chang, K. Hirata, R. Suzuki, T. Ohdaira, K. Ito, Nanoporous structure of sputter-deposited silicon oxide films characterized by positronium annihilation spectroscopy, Journal of Applied Physics, 91, 1704-1706 (2002). （２）特許 なし （３）口頭発表 別紙-2 1. Y. Kobayashi, W. Zheng, T. B. Chang, K. Hirata, T. Ohdaira and R. Suzuki, Application of positron annihilation spectroscopy to sputter-deposited silicon oxide films, Novel Synthesis and Processing of Nanostructured Coatings for Protection against Degradation, Davos (Switzerland) (2001.8). 2. 伊藤賢志, 小林慶規, 鄭万輝, 張天保, 平田浩一, 「低速陽電子ビームによるポーラスシリカ薄膜の 評価」, 京都大学原子炉実験所専門研究会『陽電子ビームの形成と物質科学への応用』, 2001.10.12. 3. 大平俊行, 鈴木良一, 塩谷喜美, 石丸智美, Characterization of plasma-CVD grown low-k porous silica films using positron-annihilation lifetime spectroscopy, 48th AVS meeting, San Francisco (USA), (2001.10). 4. 大平俊行, 「次世代 LSI 用 low-k 層間絶縁膜材料のナノ空孔分析」, 第３回光技術シンポジウム「光 -IT とライフサイエンス」, 2002.3.1. 5. 大平俊行, 鈴木良一, 塩谷喜美, 石丸智美, 「陽電子寿命測定法による low-k 層間絶縁膜の空孔 サイズ分布測定」, 第 49 回応用物理学会学術講演会, 東海大学, 2002.3.29. 6. 塩谷喜美, 前田和夫, 石丸智美, 大平俊行, 鈴木良一, Calculation of pore density and pore volume ratio, SEMATECH Ultra low-k workshop, San Francisco (USA), （2002.6）. （４）その他発表 1. 「ナノ空孔の計測技術確立へ」(近未来ドキュメント－超への挑戦)，日本工業新聞，平成１３年１１月 ８日. 表面構造 （１）論文発表 1. K. Saito, M. Imamura, N. Matsubayashi, K. Furuya, T. Kikuchi, H. Shimada, Geometric and electronic structures of NO adsorbed on Ni, Rh and Pt studied by using near edge X-ray absorption fine structure(NEXAFS) and resonant photoemission spectroscopy, Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, 119, 95-105 (2001). （２）特許 なし （３）口頭発表 1. K. Sato, Y. Nishimura, M. Imamura, N. Matsubayashi, H. Shimada, Application of synchrotron radiation XPS for in-depth profiling HY zeolite particles International Congress on Analytical Sciences (ICAS 2001), 東京，2001 年 8 月 8 日. 別紙-3 2. N. Matsubayashi, T. Tanaka, M. Imamura, H. Shimada, Analysis by combined xas and xps using high-resolution soft x-ray from synchrotron radiation, International Congress on Analytical Sciences (ICAS 2001), 東京，2001 年 8 月 9 日. 3. T. Tanaka, N. Matsubayashi, M. Imamura and H. Shimada, Measurement of x-ray absorption spectra (XAS) of thick polyimide films by the partial electron yield method, 9th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis, Avignon, France, 2001. Oct. 1. 4. M. Jo, Kinetic Energy Dependence of Optimized Loss Function, 9th European Conference on Application of Surface and Interface Analysis, 2001, Avignon, France, 2001. Oct. 1. 5. M. Suzuki, N. Matsubayashi, M. Jo, S. Tanuma, and C. J. Powell, Photoemission Intensity Dependence on Kinetic Energy Studied with Synchrotron Radiation, 9th European Conference on Application of Surface and Interface Analysis, 2001, Avignon, France, 2001. Oct. 1. 6. 福本夏生「先端材料評価技術データベースの構築」，産業技術連携推進会議・知的基盤部会・分析 分科会年会，2001 年 12 月 7 日. 7. M. Jo, Optimization of XPS Inelastic Background using Tougaard's Formula - Recent Progress, 2nd International Symposium on Practical Surface Analysis, Nara, Japan, 2001, November 20. 8. M. Jo, Restoration of Loss Function In Very Difficult Case From Poor Resolution Spectrum, 2nd International Symposium on Practical Surface Analysis, Nara, Japan, 2001, November 20. 9. N. Fukumoto, S. Tanuma, A. Tanaka, I. Kojima, K. Dohmae, A round Robin Test on XPS Transmission Function, 2nd International Symposium on Practical Surface Analysis, Nara, Japan, 2001, November 18. （４）その他の発表 1. 福本夏生，米久保荘「ＸＰＳエネルギー軸校正」，産業技術連携推進会議・知的基盤部会・分析分科 会平成１３年度総合資料. 2. M. Imamura, K. Sato, Y. Nishimura, N. Matsubayashi, H. Shimada, Analysis of the external surface of Y zeolites with XPS depth profiling, Photon Factory Activity Report Part B, 18, 63, (2000), 2001 年 10 月. 3. T. Tanaka, M. Imamura, N. Matsubayashi, H. Shimada, Multi-atomic resonant photoemission effect (MARPE) observed for Co and Mo binary sulfide, Photon Factory Activity Report Part B, 18, 68 (2000), 2001 年 10 月. 4. T. Tanaka, M. Imamura, N. Matsubayashi, H. Shimada, Resonant photoelectron spectroscopic study of MoS2 at the sulfur L-edge, Photon Factory Activity Report Part B, 18, 40 (2000), 2001 年 10 月. 熱物性 （１）論文発表 別紙-4 1. A. Ono, T. Baba, and K. Fujii, Traceable measurements and data of thermophysical properties for solid materials: a review Meas. Sci. Tech，Vol. 12 2023-2030 (2001). 2. T. Baba, and A. Ono, Improvement of the laser flash method to reduce uncertainty in thermal diffusivity measurements Meas. Sci. Tech，Vol. 12 2046-2057 (2001). 3. M. Ogawa, K. Mukai, T. Fukui, and T. Baba, The development of a thermal diffusivity reference material using alumina Meas. Sci. Tech，Vol. 12 2058-2063 (2001). 4. N. Taketoshi, T. Baba, and A. Ono, Development of Thermal diffusivity measurement system for metal thin films using a picosecond thermoreflectance technique Meas. Sci. Tech，Vol. 12 2064-2073 (2001). 5. N. Taketoshi, T. Baba, and A. Ono, Thermal diffusivity measurement of a metal thin film with a picosecond thermoreflectance technique High Temperatures-High Pressures， Vol. 34 19-28 (2002). 6. 石井順太郎，福崎知子，藤原哲雄，小野晃, 広視野赤外放射温度計校正用黒体空洞の放射特性 評価, 計測自動制御学会論文集 vol. 37, No. 5, 468-470 (2001). 7. J. Ishii, and A. Ono, Uncertainty Estimation for the Emissivity Measurement Near Room Temperature with Fourier Transform Spectroscopy, J. Phys. D. Meas. Sci. Technol. 12, (12), 2103-2112(2001). （２）特許 1. 特願 2001-339582，微小信号測定方法，竹歳尚之，エマニュエル･ショウブ，馬場哲也，2001.11.5 出願. 2. 米国特許 09/978,003 熱拡散率と界面熱抵抗の測定法，馬場哲也，2001.10.17 出願. 3. 欧州特許 0138796.0 熱拡散率と界面熱抵抗の測定法，馬場哲也，2001.10.17 出願. 4. 特許 3265362，界面熱抵抗測定方法，馬場哲也，2002.01.11 登録. （３）口頭発表 1. 竹歳尚之，エマニュエルショウブ，馬場哲也，小野晃，「ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜 熱拡散率計測システムの開発(7)」，第 22 回日本熱物性シンポジウム(仙台)，2001 年 11 月. 2. E. Schaub, N. Taketoshi, and T. Baba, Thermal diffusivity measurements of submicrometer thin metallic films by means of High frequency thermoreflectance technique faster than 100 MHz, 第 22 回 日本熱物性シンポジウム(仙台) ， 2001 年 11 月. 3. 小川光恵，小川秋水，向井一夫，福井武久，「ジルコニアの熱物性評価」，第 22 回日本熱物性シン ポジウム(仙台)，2001 年 11 月. 4. 馬場哲也，他，「レーザフラッシュ法による熱拡散率測定のための標準物質」，第 22 回日本熱物性シ ンポジウム(仙台)，2001 年 11 月. 5. 阿子島めぐみ，馬場哲也，「レーザフラッシュ示差熱量法による熱拡散率・比熱容量の同時測定」， 第 22 回日本熱物性シンポジウム(仙台)，2001 年 11 月. 別紙-5 6. 石井順太郎，常温域の放射温度標準技術，日本学術振興会産業計測３６委員会，2001 年 10 月. 7. 石井順太郎，金子由香，小野晃，黒色表面の分光放射率測定，第２２回日本熱物性シンポジウム 2001 年 11 月. 8. 石井順太郎，常温域赤外分光放射率の精密計測，計測自動制御学会１１０回温度計測部会 2001 年 11 月. （４）その他の発表 1. 「ナノ材料の熱物性を測定」(近未来ドキュメント－超への挑戦)日本工業新聞，平成１３年１１月 9 日. 2. 馬場 哲也，「データベースでみる機能材料の熱物性」，日本熱物性学会熱物性セミナー：機能性材 料の熱物性とその測定，2001 年 8 月 25 日. 3. 馬場 哲也、新里寛英，「示差方式レーザフラッシュ法による熱拡散率・比熱容量・熱伝導率の同時 測定」，日本学術振興会高温セラミック材料第１２４委員会 第１０６回会議，2001 年 8 月 30 日. （5）受賞等 1. 竹歳尚之，「ピコ秒サーモリフレクタンス法による薄膜熱拡散率測定技術の開発」，第 22 期物性学会 賞奨励賞 2001 年 11 月，日本熱物性学会. 別紙-6 平成１４年度 微小要素物理特性 （１）論文発表 1. K. Ehara, K. Takahata, G.W. Mulholland, and R.C. Hagwood, A Method to Determine Size Distribution Moments of Nano-particles From Electrical Mobility Analysis, Proc. 6th Int. Aerosol Conf., p1011 (2002). 2. K. Shimada, R. Nagahata, S. Kawabata, S. Matsuyama, T. Saito, and S. Kinugasa, Evaluation of the Quantitativeness of Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-flight Mass Spectrometry Using Equimolar Mixture of Uniform Polyethylene Glycol Oligomers, J Mass Spectrum. 38, 948-954 (2003). 3. 板倉正尚，島田かより，松山重倫，衣笠晋一, 多角度光散乱検出器付きサイズ排除クロマトグラフィ ーの測定精度評価, 高分子論文集, 60, (2002), 2002/6. （２）特許 1. 高畑圭二，榎原研正，粉体の粒径分布測定方法及びその装置，特願 2002-258340，2002/09/04. 2. 高 畑 圭 二 ， 榎 原 研 正 ， エ ア ロ ゾ ル 粒 子 の 発 生 分 散 方 法 及 び そ の 装 置 ， 特 願 2002-258378 ， 2002/09/04. 3. 高 畑 圭 二 ， 榎 原 研 正 ， 擬 似 噴 霧 液 滴 ， そ の 発 生 方 法 及 び 製 造 装 置 ， 特 願 2002-294378 ， 2002/10/08. （３）口頭発表 1. 榎原研正, 微粒子の質量分析技術と標準粒子への応用, 粉体工学会茨城・つくば談話会，東京談 話会合同講演会, つくば市，2002/04/25. 2. 榎原研正, 高畑圭二, G.W. Mulholland, R.C. Hagwood, ナノ粒子の粒径分布モーメントの高精度決 定法, 第１９回エアロゾル科学技術研究討論会，京都, 2002/08/06. 3. 高畑圭二，榎原研正，噴霧乾燥法によるエアロゾル粒子発生時の蒸発残渣の低減と有効利用，第 13 回関東支部茨城地区研究交流会，2002/11/29. 4. 榎原研正, ナノ粒子の新しい粒子径・質量分析技術の開発, 粉体工学会４グループ連携研究会， つくば市，2002/12/17. 5. 高畑圭二，榎原研正，超臨界流体を利用したエアロゾル粒子の発生分散方法 （１）予備的検討， 第 11 回微粒化シンポジウム，2002/12/21. 6. 島田かより，松山重倫，長畑律子，衣笠晋一，川畑慎一郎, 「MALDI‐TOFMS における高分子･金 属イオン錯体形成の分子量特性」，第 7 回高分子分析討論会， 名古屋市工業試験所， 2002 年 11/21. 7. 島田かより，齋藤剛，衣笠晋一，加藤晴久, 「均一オリゴマーを使用したポリエチレングリコールの水 別紙-7 中での拡散挙動 ― 分子動力学計算と実験結果との比較」，第 8 回高分子計算機科学討論会， キャンパスプラザ京都，2003 年 3 月 7 日. 8. 松山重倫，衣笠晋一，島田かより，齋藤剛，板倉正尚, 「サイズ排除クロマトグラフィーを用いたポリス チレンラテックス粒子の分析」，第 7 回高分子分析討論会，名古屋市工業試験場， 2002 年 11 月 21 日. 9. 板倉正尚，佐藤圭祐，島田かより，松山重倫，張潤萍，衣笠晋一, 「SEC-MALLS の高精度化[I]」, 第 51 回高分子討論会，九州工業大学，2002 年 10 月 3 日. 10. 板倉正尚，島田かより，佐藤圭祐，衣笠晋一, 「SEC-MALLS の高精度化 II-不確かさ評価」,第 7 回 高分子分析討論会，名古屋市立工業試験所, 2002 年 11 月 21 日. 11. 坂口孝幸, 蛍光を利用した液中粒子数濃度校正技術のための粒子気泡識別粒子計数に関する研 究，2003 年春季第５０回応用物理学関係連合講演会，2003 年 3 月 27 日. （３）その他の発表 1. 榎原研正, 粒径値づけ技術と測定器校正用標準粒子, 空気清浄，Vol. 40, No.5, pp314-321 (2003). 2. 榎原研正, 計測の不確かさに関わる ISO ガイドとトレーサビリティ －粒径標準をめぐって， エアロゾ ル研究, Vol.17, No.3, pp173-178 (2002). 空孔 （１）論文発表 1. Y. Shioya, K. Maeda, T. Ishimaru, T. Ohdaira, and R. Suzuki, Analysis of pore and pore-related properties in plasma-enhanced chemical vapor deposition low dielectric constant films, J. of Electrochemical Society, 149 (9) F103-F109 (2002). 2. J. Xu, J. Moxom, S. Yang, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Porosity in porous methyl-silsesquioxane (MSQ) films, Appl. Surf. Sci., 194, p189 (2002). 3. R. S. Yu, K. Ito, K. Hirata, W. Zheng, and Y. Kobayashi, Effects of coexistent pores and paramagnetic defects on positron annihilation in silicon oxide thin films, J. Appl. Phys., 93, p3340 (2003). 4. R. Suzuki, T. Ohdaira, A. Uedono, Y. Kobayashi, Positron-annihilation in SiO2-Si studied by a pulsed slow positron beam, Appl. Surf. Sci., 194, p89 (2002). 5. T. Ohdaira, R. Suzuki, Y. Kobayashi, T. Akahane, and L. Dai, Surface analysis of a well-aligned carbon nanotube film by positron-annihilation induced Auger-electron spectroscopy, Appl. Surf. Sci., 194, p291 (2002). 6. K. Ito, Y. Kobayashi and A. Nanasawa, High sensitivity of positron annihilation to thermal oxidation of polyethylene, Appl. Phys. Lett., 82, p654 (2003). 別紙-8 （２）特許 1. 豊川 弘之，鈴木 良一，大平 俊行，大垣 英明，平出 哲也，光子誘起による陽電子消滅γ線分光 及び短寿命原子核準位の測定法，特願 2002-313878，2002. 10. 29. （３）口頭発表 1. 大平 俊行，鈴木 良一，塩谷 喜美，西本 裕子，前田 和夫，石丸 知美，Characterization of SiOCH films for low-k interlayer dielectrics and Cu barriers grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)， PSSD-2002，東北大学，2002. 10. 01. 2. 大平 俊行，鈴木 良一，松野 信也，白瀧 浩伸，規則性ポア構造をもつ low-k 層間絶縁膜の陽電 子分析，京都大学原子炉実験所専門研究会『陽電子ビームの形成と物質科学への応用』，京大原 子炉実験所，2002. 11. 16. 3. 大平 俊行，鈴木 良一，松野 信也，白瀧 浩伸，規則性ポア構造を有する low-k 膜の陽電子分析， 応用物理学会，神奈川大学，2003. 03. 29. 4. 大平 俊行，鈴木 良一，塩谷 喜美，西本 裕子，前田 和夫，低速陽電子ビームによる PECVD low-k 膜中の空孔サイズの深さ依存測定，応用物理学会，神奈川大学，2003. 03. 29. 5. 白瀧 浩伸，松野 信也，坂本 直紀，大平 俊行，鈴木 良一，メソポーラスＭＳＱによる高強度 Low-k 材料，応用物理学会，神奈川大学，2003. 03. 27. 6. Kenji Ito, Yoshinori Kobayashi, Kouichi Hirata, Hisashi Togashi, Ryoichi Suzuki and Toshiyuki Ohdaira, `Mesoporous Low-k Hydrogen-silsesquioxane Films Characterized by Positron Annihilation and Other Techniques', The 7th International Workshop on Positron and Positronium Chemistry, Knoxville, TN., Jul.7-12, 2002. 7. Kenji Ito, Yoshinori Kobayashi, Runsheng Yu, Kouichi Hirata, Hisashi Togashi, Ryoichi Suzuki, Toshiyuki Ohdaira, M. Egami, H. Arao, C. Sakurai, A. Nakashima and M. Komatsu, `Study of Pore Architecture in Silicon Oxide Thin Films by Variable-energy Positron Annihilation Spectroscopy', 2002 MRS Fall Meeting, Boston, MA., Dec.2-6, 2002. 8. R. S. Yu，Y. Kobayashi，K. Ito，K. Hirata and W. Zheng，Microstructure and defects in RF sputter deposited SiOx films characterized by positron annihilation spectroscopy，PSSD-2002，東北大学， 2002. 9. 30. 9. K. Hirata, Application of positron beams for the characterization of nano-scale holes in thin films, 17th International Conference on the Application of Accelerators in Research and Industry (CAARI 2002), Denton, TX, USA, 2002. 11. 12-16. 10. 伊藤 賢志, 「低速陽電子消滅法によるポーラスシリカ薄膜のナノ空孔評価」,平成 14 年度産業技術 総合研究所計測標準研究部門成果発表会, 2003.1.17. 別紙-9 （４）その他の発表 1. 24 兆円の焦点⑤，なんとしても科学技術立国へ「使いやすさを究める」,日本工業新聞 平成 15 年 1 月 10 日. 2. 「産総研と半導体プロセス研究所 次世代 LSI 絶縁膜の空隙測定」，日経先端技術，第２９号，p3，平 成１５年１月１３日. 3. 「低速陽電子短パルスビームを用いたサブナノメートル空孔測定装置」，インターオプト 2002，平成１ ４年７月１６日－１９日，幕張メッセ. 4. 「サブナノ〜ナノスケールの空孔評価技術」，第２回つくばテクノロジーショーケース，平成１５年１月３ ０日，つくば国際会議場. 5. 「材料ナノテクノロジープログラム・ナノ計測基盤技術・空孔の計測基盤」，Nano Tech 2003 + Future， 平成１５年２月２６日－２８日，幕張メッセ. 6. 「陽電子寿命測定によるサブナノ〜ナノ空孔評価技術」，Nano Tech 2003+Future，平成１５年２月２６ 日－２８日，幕張メッセ. 表面構造 （１）論文発表 1. N. Matsubayashi, T. Tanaka, M. Imamura, H. Shimada，T. Saito, XAS and XPS Combined Analysis Using High-Resolution and High-Flux Soft X-rays from Synchrotron Radiation, Analytical Sciences， 17(sup)，pi119-i121（2002）. 2. K. Sato, Y. Nishimura, M. Imamura, N. Matsubayashi, H. Shimada, Application of synchrotron radiation XPS for in-depth profiling HY zeolite particles, Analytical Sciences, 17, i1061-i1064 (2002). 3. T. Tanaka, K. K. Bando, N. Matsubayashi, M. Imamura, H. Shimada, K. Takahashi, X-ray Photoelectron and C K-Edge X-ray absorption Spectroscopic Analysis of UV irradiation damage of thick polyimide film, Analytical Sciences, 17, i1077-i1079 (2002). 4. N. Fukumoto, S. Tanuma, A. Tanaka, I. Kojima, K. Dohmae, A Round Robin Test on XPS Transmission Function, Journal of Surface Analysis Vol. 9 (2002) 524-526. 5. M. Jo, Optimization of XPS Inelastic Background using Tougaard's Formula -Recent Progress, Journal of Surface Analysis, 9 295 (2002). 6. M. Jo, Restoration of Loss Function in Very Difficult Case -from Poor Resolution Spectrum, Journal of Surface Analysis, 9 (2002) 302. 7. T. Saito, H. Yamamoto, H. Asaoka, M. Haraguchi, M. Imamura, N. Matsubayashi, T. Tanaka, H. Shimada And K. Hojou, Fabrication of β-FeSi2 Thin Film on Si(111) Surface by Solid Phase Epitaxy (SPE) Analyzed by Means of Synchrotron Radiation XPS, Analytical Sciences, 17(sup), pi1073-i1076(2002). 別紙-10 （２）特許 なし （３）口頭発表 1. 松林 信行，今村 元泰，田中 智章，島田 広道, シンクロトロン放射光による X 線光電子分光法と X 線吸収分光法, 第６回分析化学東京シンポジウム，幕張メッセ，千葉，2002/9/6. 2. 松林 信行, シンクロトロン放射光を利用したＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）とＸ線吸収分光法（ＸＡＳ）, 第１０回電気学会放射線分布計測技術調査専門委員会，日本交通協会，東京，2003 年２月５日. 3. Retzko, D. Treu, W. E. S. Unger, H. Schulz, H.-J. Scheibe, N. Matsubayashi, Analysis of Carbon Materials by X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), Materials Week 2002, Munich, 2002/9/30. 4. N. Matsubayashi, M. Imamura, T. Tanaka, H. Shimada, I. Retzko, and W. E. S. Unger, Surface Analysis by XPS and XAS Using a High-Resolution and High-Flux Soft X-ray from Synchrotron, AIST-BAM Symposium on Materials Surface Technology in Twin Institute Programme, AIST, Tsukuba, 2003/2/18. 5. 今村元泰，田中智章，松林信行，島田広道, 放射光を用いた薄膜中の光電子の有効減衰長測定, 第 16 回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム ，姫路，２００３年１月１１日. 6. 田中智章，松林信行，今村元泰，島田広道, Multi-atomic Resonant Photoemission Effect (MARPE) Observed for Co and Mo Binary Sulfide, 第 16 回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウ ム ，姫路，２００３年１月１１日. 7. M. Jo, Program for Background Optimization, 34th IUVSTA Workshop XPS: From Spectra to Results - Towards an Expert System, Saint-Malo, France, 2002/4/22. 8. M. Jo, Energy Loss Mechanisms of Photoelectrons Explored by Optimization Technique, ASEVA Summer school WS11/12: Modern Surface Analytical Techniques, Avilla, Spain, 2002/7/22. 9. 福本 夏生, 分析分科会における分析技術共同研究とデータベース構築, 機器分析東京討論会， 千葉県千葉市 2002/09/06. 10. 城 昌利, 福本夏生，小島勇夫，後藤敬典, ピーク範囲が狭い場合のＸＰＳバックグラウンド除去, 2002 年度実用表面分析講演会（PSA-02）, 2002/11/20. 11. 福本 夏生，小島 勇夫, X 線光電子分光法におけるエネルギー軸及び強度軸の標準化, 分析化学 討論会，姫路市，2002/05/25. 12. 福本 夏生, 先端材料開発のための電子分光標準スペクトル・データベースの整備, 日本分析化学 会 第５１年会，北海道札幌市，2002/09/19. （４）その他の発表 1. 福本 夏生, XPS エネルギー軸校正第３回共同分析について, 知的基盤部会分析分科会第４５回分 析技術共同研究総合資料(2002.12). 2. T. Tanaka, K. K. Bando, N. Matsubayashi, M. Imamura, H. Shimada, Carbon K-edge x-ray absorption 別紙-11 spectroscopic analysis of photo-degraded polyimide film, Photon Factory Activity Report Part B, 19, 62, (2001), 2003 年 1 月. 3. N. Matsubayashi , M. Imamura,, T. Tanaka, H. Ikeura, H. Shimada, Study on SCN- metal complexes by NEXAFS and resonant photoelectron spectroscopy, Photon Factory Activity Report Part B, 19, 91 (2001), 2003 年 1 月. 4. T. Saito, H. Yamamoto, H. Asaoka, M. Haraguchi, M. Imamura, N. Matsubayashi, T. Tanaka, H. Shimada And K. Hojou, Formation process of β-FeSi2 on Si(111) substrate studied by means of SR-XPS, Photon Factory Activity Report Part B, 19, 50 (2001), 2003 年 1 月. 熱物性 （１）論文発表 1. N. Taketoshi, T. Baba, and A. Ono Thermal diffusivity measurements of metal thin films by means of picosecond thermoreflectance technique Proc. Interfaces of Ceramics Materials V, 213-224 (2003). 2. J. Ishii, and A. Ono, A Fourier-Transform Spectrometer for Accurate Thermometric Applications at Low Temperatures, TEMPERATURE VOL.7 (AIP). 3. J. Ishii, and A. Ono, Low Temperature Infrared Radiation Thermometry at NMIJ, TEMPERATURE VOL.7 (AIP). 4. E. Schaub, N. Taketoshi, and T. Baba, New thermoreflectance microscope using photothermal modulation up to 120 MHz for measuring out-of-plane thermal diffusivity of sub-mm thin films Rev. Sci. Instrum submitted. （２）特許 1. 特許 3294206，微小領域熱物性測定装置，馬場哲也，2002/04/05 登録. 2. 特願 2002-128426，高速パルス高速時間応答測定方法ならびに装置，竹歳尚之，馬場哲也，2002 年 4 月 30 日出願． 別紙-12 （３）口頭発表 1. Tetsuya Baba, Naoyuki Taketoshi, Thermophysical property measurements of thin films and boundary thermal resistance, US-JAPAN Nanotherm seminar: Nanoscale thermal Science and Engineering Japan Society for Promotion of Science and U.S. National Science Foundation（2002 年 6 月, Berkeley, USA）. 2. Naoyuki Taketoshi, Emmanuel Schaub, Tetsuya Baba, Development of a picosecond thermoreflectance measurement system using homodyne detection technique, European Conference of thermophysical Properties，(2002 年 9 月, London, United Kingdom). 3. 清水祐公子，石井順太郎，馬場哲也，「高速周期加熱測定用の放射測温技術の開発」平成 14 年 度計測標準研究部門発表会(2002 年 11 月, つくば). 4. 清水祐公子，石井順太郎，新里寛英，馬場哲也，高速変調赤外レーザーを用いた周期加熱測定シ ステムの開発，第 23 回日本熱物性シンポジウム（東京）2002 年 12 月. 5. 馬場哲也，「応答関数法による多層薄膜内熱拡散と界面熱抵抗の解析 －パルス加熱一次元熱拡 散の一般解法－」第 23 回日本熱物性シンポジウム(2002 年 11 月, 東京). 6. 竹歳尚之，馬場哲也，小野晃，「ピコ秒サーモリフレクタンス法による薄膜熱拡散率計測技術の進 展」第 23 回日本熱物性シンポジウム(2002 年 11 月, 東京). 7. 竹歳尚之，馬場哲也，小野晃，「ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱拡散率計測システム の開発(8)」第 23 回日本熱物性シンポジウム(2002 年 11 月, 東京). 8. 小川光恵，向井一夫，福井武久，「ジルコニアを候補材料とした熱拡散率標準物質開発」，日本熱物 性学会，第 23 回日本熱物性シンポジウム，(2002 年 11 月, 東京). 9. 小川光恵，向井一夫，福井武久，「レーザフラッシュ法による熱物性評価および熱拡散率標準物質 の開発」，日本セラミックス協会，第 15 回秋期シンポジウム，(2002 年 11 月, 東京). 10. 清水祐公子，石井順太郎，新里寛英，馬場哲也「THE SYSTEM FOR MEASURING OF HIGH SPEED PERIODIC HEATING BY MODULATED CO2 LASER 」，第 23 回日本熱物性シンポジウ ム(2002 年 11 月, 東京). 11. 羽鳥仁人，佐伯潤一，大槻哲也，新里寛英，太田弘道，竹歳尚之，馬場哲也，「微小領域熱物性分 布測定用サーマルマイクロスコープの開発」第 23 回日本熱物性シンポジウム(2002 年 11 月, 東京). 12. 竹歳尚之，馬場哲也，小野晃，「ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱拡散率計測システム の開発―電気遅延による観測時間領域の拡大―」平成 14 年度計測標準研究部門発表会(2003 年 1 月, つくば). 13. 馬場哲也，竹歳尚之，八木貴志，加藤英幸「薄膜・微小領域の熱物性計測技術」第 1 回ナノテクノロ ジーシンポジウム（2003 年 2 月, 東京）. 14. 「熱物性に関するセラミックス標準物質の開発－信頼性の高い評価のために－」（ポスター），（財）フ ァインセラミックスセンター研究発表会，2002 年 7 月 3 日，12 日. 別紙-13 15. J. Ishii. Y. Kaneko, Y. Shimizu, F. Sakuma, Infrared radiation thermometry near room temperature at NMIJ Proceedings of SICE Annual conference 2002 (Osaka). 16. 馬場哲也，「薄膜・微小領域の熱物性計測技術」，超高温材料国際シンポジウム，2002 年 5 月 30 日， 31 日. （４）その他の発表 1. （財）ファインセラミックスセンター，「熱物性に関するセラミックス標準物質の開発－信頼性の高い評 価のために－」（ポスター），（財）ファインセラミックスセンター研究発表会，2002 年 7 月 3 日，12 日. 2. 馬場哲也，「超精密計測技術と重力－重力を利用した超精密計測技術への取り組みについて－」サ イエンス・フロンティアつくば 2002，2002 年 9 月 20 日. 3. (24 兆円の焦点，なんとしても科学技術立国へ)「薄膜の温度変化をつかむ」日本工業新聞， 2003.1.9. 4. 竹歳尚之，八木貴志，加藤英幸，馬場哲也：ピコ秒ピサーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱物性計 測技術，Nanotech2003+future，2003 年 3 月 26 日～3 月 28 日，千葉，幕張メッセ. 5. 清水祐公子，石井順太郎，馬場哲也：微小スケール熱物性測定用高速放射測温技術の開発， Nanotech2003+future，2003 年 3 月 26 日～3 月 28 日，千葉，幕張メッセ． 6. 清水祐公子，石井順太郎，馬場哲也，新里寛英：高速変調赤外レーザーを用いた周期加熱測定シ ステムの開発，Nanotech2003+future，2003 年 3 月 26 日～3 月 28 日，千葉，幕張メッセ． （５） 書籍 1. 黒沢富蔵，馬場哲也：第 10 章 ナノテクを支える計測技術と標準，基礎から学ぶナノテクノロジー（平 尾一之編，東京化学同人，2003 年 3 月）pp.243-270. 別紙-14 平成１５年度 微小要素物理特性 （１）論文 1. T. Sakaguchi and K. Ehara, Study on Distinction of Particles and Bubbles for Particle Counting in Liquids by the Use of Fluorescence, Proc. SPIE, 5144, 855-863 (2003). 2. K. Takahata and K. Ehara, A Method of Aerosol Generation and Dispersion from a Suspension of Particles in a Supercritical Fluid, J. Aerosol Sci. Abstracts of EAC, Madrid 2003, S1189-S1190. 3. T. Saito, K. Shimada, S. Kinugasa, Determination of Size of Polystyrene Nano-sphere by the Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance, Langmuir, 2004, 20, (11), 4779-4781. 4. M. Itakura, K. Sato, M. A. Lusenkova, S. Matsuyama, K. Shimada, T. Saito and S. Kinugasa, Molecular weight dependence of refractive index increment of polystyrene determined by uniform oligomers, J. Appl. Polym. Sci., accepted. 5. T. Sakaguchi, Rotation of a Fine Particle with Circularly Polarized Anti-Parallel Collinear Laser Beams, Optical Review, 10, 136-139(2003). （２）特許 1. 高畑圭二，榎原研正，エアロゾル粒子，その製造方法， その製造装置及びエアロゾル粒子からなる 擬似噴霧液滴, PCT 国際出願（PCT/JP03/11251）, 2003/09/03. 2. 高畑圭二，榎原研正，粉体の粒径分布測定方法及びその装置, PCT 国際出願（PCT/JP03/11250）, 2003/09/03. （３）口頭発表 1. 高畑圭二, 榎原研正, 超臨界二酸化炭素を利用したエアロゾル粒子発生分散装置の試作と性能評 価, 第２０回エアロゾル科学技術研究討論会，つくば市, 2003/07/29. 2. Ehara, K. and Takahata, K., Development of a Method for Mass Distribution Measurement of Particles in the Aerosol Phase, International Conference on the Characterization and Control of Interfaces for High Quality Advanced Materials, Kurashiki, (September 27, 2003). 3. 島田かより，神保雄次，松山重倫，板倉正尚，衣笠晋一，和泉義信, 「均一オリゴマーを使用した高 精度分子特性解析 III－小角 X 線散乱法による PEG の回転半径測定－」，第 52 回高分子学会年 次大会 2003 年 5 月 29 日 名古屋国際会議場. 4. 島田かより，齋藤剛，松山重倫，衣笠晋一, 「拡散係数測定によるナノ微粒子の粒径計測」，第 8 回 高分子分析討論会 2003 年 11 月 14 日 工学院大学. 5. 衣笠 晋一；「高分子標準物質の開発と光散乱」，第４回 MALS 研究会，2003 年 12 月 3 日 昭和電 工㈱. 6. 坂口孝幸，榎原研正，蛍光を利用した液中粒子数濃度校正技術のための粒子気泡識別粒子計数 別紙-15 技術に関する研究，第 21 回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会，2003 年 4 月 16 日. 7. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, Study on distinction of particles and bubbles for particle counting in liquids by the use fluorescence ， SPIE International Symposium on Optical Metrology，2003 年 6 月 24 日. 8. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, A study of the particle number counting with the distinction of particles and bubbles for the calibration of particle number concentration in the liquid by detecting the fluorescence from the sample particle，1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 9. T. Saito, K. Shimada, S. Kinugasa, Determination of Size of Polystyrene Nano-sphere by the Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 10. K. Shimada, S. Matsuyama, T. Saito, S. Kinugasa, Precise Measurement of Nano-Particle Size using a Dynamic Light Scattering Technique, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 11. M. Itakura, K. Shimada, S. Matsuyama, S. Kinugasa, A New Convenient Method to Determine a Rayleigh Ratio with a Uniform Polystyrene Oligomer for Light Scattering Measurements, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月， Tokyo). 12. K. Ehara, Improvement of the Temporal Response of the Aerosol Particle Mass Analyzer for Nanoparticle Measurement, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 13. Y. Matsuzawa, M. Kogiso, M. Matsumoto, T. Shimizu, K. Shimada, M. Itakura, S. Kinugasa, Self-Assembly of Bola-form Amides in Water, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). （４）その他発表 なし 空孔 （１）論文発表 1. K. Ito, Y. Kobayashi, R. S. Yu, K. Hirata, H. Togashi, R. Suzuki, T. Ohdaira, M. Egami, H. Arao, C. Sakurai, A. Nakashima, and M. Komatsu, Study of pore architecture in silicon oxide thin films by variable-energy positron annihilation spectroscopy, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 751, p97 (2003). 2. K. Ito, Y. Kobayashi, R. S. Yu, K. Hirata, H. Togashi, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Mesoporous low-k hydrogen silsesquioxane films characterized by positron annihilation and other techniques, Radiat. 別紙-16 Phys. Chem., 68, p435 (2003). 3. R. S. Yu, K. Ito, K. Hirata, W. Zheng, and Y. Kobayashi, Positron annihilation study of defects and Si nanoprecipitation in sputter-deposited silicon oxide films, Chem. Phys. Lett., 379, p359 (2003). 4. R. S. Yu, T. Ohdaira, R. Suzuki, K. Ito, K. Hirata, K. Sato, Y. Kobayashi, and J. Xu, Positronium time-of-flight measurements of porous low-k films, Appl. Phys. Lett., 83, p4966 (2003). 5. R. Suzuki, T. Ohdaira, Y. Kobayashi, K. Ito, Y. Shioya, T. Ishimaru, Positron and Positronium Annihilation in Silica-based Thin Films Studied by a Pulsed Positron Beam, Radiat. Phys. Chem., 68, p339 (2003). 6. Y. Kobayashi, Study of nanoporous structure of sputter-deposited silicon oxide thin films by positron annihilation spectroscopy in relation to gas barrier coating, JAERI-Conf, 1, p203 (2003). 7. T. Ohdaira and R. Suzuki, Positron-Annihilation Induced Auger Electron Spectroscopy, in Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, p775, Edited by D. Briggs and J.T. Grant, IMP Publications (2003). 8. J. Xu, J. Moxom, R. Suzuki, T. Ohdaira, and A. P. Mills Jr., Characterization of nanoparticle and porous ultra low-k using positron beam, Proceedings of the 3rd International Symposium on Material Chemistry in Nuclear Environment (Materials Chemistry '02 MC'02), JAERI-Conf, p118 (2003). 9. R. Suzuki and T. Ohdaira, Characterization of surfaces and subsurfaces by an intense positron beam, Proceedings of the 3rd International Symposium on Material Chemistry in Nuclear Environment (Materials Chemistry '02 MC'02), JAERI-Conf, p189 (2003). 10. M. Fujinami, T. Miyagoe, T. Sawada, R. Suzuki, T. Ohdaira, and T. Akahane, Helium ion implantation-induced defects in silicon probed with variable-energy positrons, Phys. Rev., B, p165332-1 (2003). 11. T. Ishimaru, Y. Shioya, H. Ikakura, M. Nozawa, S. Ohgawara, T. Ohdaira, R. Suzuki, and K. Maeda, Properties of low-k Copper Barrier SiOCH Film Deposited by PECVD Using Hexamethyldisiloxane and N2O, J. of Electrochem. Soc., 150, F83 (2003). 12. A. Uedono, T. Mori, K. Morisawa, K. Murakami, T. Ohdaira, R. Suzuki, T. Mikado, K. Ishioka, M. Kitajima, S. Hishita, H. Haneda, and I. Sakaguchi, Hydrogen-terminated defects in ion-implanted silicon probed by monoenergetic positron beams, J. Appl. Phys., 93, p3228 (2003). （２）特許 1. 大 平 俊 行 , 塩 谷 喜 美 (( 株 ) 半 導 体 プ ロ セ ス 研 究 所 ) ， 「 低 誘 電 率 絶 縁 膜 の 形 成 方 法 」 ， 特 願 2003-154429，出願日 2003 年 5 月 30 日. （３）口頭発表 1. 伊藤賢志, 小林慶規, 七澤淳，「高分子中の超微細空孔標準物質の開発」, 第５２回高分子学会年 次大会, 2003.5.30. 2. K. Ito and Y. Kobayashi, Positronium diffusion in porous oxide thins films, 13th International 別紙-17 Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 3. T. Ohdaira, R. Suzuki, H. Shirataki, and S. Matsuno, Positron-annihilation lifetime spectroscopy of periodic porous low-k films, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 4. R. Suzuki, T. Ohdaira, Y. Kobayashi, K. Ito, R.S. Yu, Y. Shioya, H. Ichikawa, K. Ishikiriyama, H. Shirataki, S. Kawamura, J. Xu, Positron and Positronium Annihilation in Low-Dielectric-Constant Films Studied by a Pulsed Positron Beam, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 5. T. Hirade, H. Toyokawa, T. Ohdaira, R. Suzuki, and H. Ohgaki, Positron Annihilation Methods by gamma-rays Produced in Laser-Induced Compton-Backscattering, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 6. H. Chen, R. Zhang, Y. Li, J. Zhang, Y.C. Wu, T.C. Sandreczki, P.E. Mallon, R. Suzuki, T. Ohdaira, X. Gu, and T. Nguyen, and Y.C. Jean, Durability and Free Volume in Polymeric Coatings Studied by Positron Annihilation Spectroscopy, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 7. J. Xu, A. P. Mills, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Probe of Continuity of Diffusion Barriers on Porous Films, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 8. Y. C. Wu, Y.C. Jean, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Positron Annihilation Study on Hydrogen-Induced Defects in AISI 304 and 316 Stainless Steels, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 9. T. Miyagoe, M. Fujinami, T. Sawada, R. Suzuki, T. Ohdaira, and T. Akahane, Positron Beam Study of Defects Induced in Ar-Implanted Si, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 10. K. Azami, K. Takagi, M. Habu, I. Kanazawa, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Estimation of Ni / Polyethylene Bilayer by Slow Positron Beam, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 11. J. Zhang, H. Chen, R. Zhang, Y. Li, R. Suzuki, T. Ohdaira, and Y. C. Jean, Surface and Interface Effects on Glass Transition Temperature in Polymers Studied by Positron Annihilation Spectroscopy, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 12. Y. Li, R. Zhang, H. Chen, J. Zhang, R. Suzuki, T. Ohdaira, M. M. Feldstein, and Y. C. Jean, The Depth Profile of Free Volume in Drug Delivery Polymers Studied by Positron Annihilation Spectroscopy, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.9. 13. K. Sato, K. Ito, K. Hirata, R. S. Yu, and Y. Kobayashi, Correlation between the Doppler broadening S parameter and ortho-positronium formation probability in polymers, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.10. 14. R. S. Yu, Y. Kobayashi, R. Suzuki, T. Ohdaira, K. Ito, K. Hirata, and K. Sato, Positronium time-of-flight measurements of porous silicon oxide films, 13th International Conference on Positron Annihilation, 2003.9.11. 15. 寺内 信哉, 東 康史, 伊藤 賢志, 「先端材料評価のための標準物質－マイクロビーム分析・薄膜・ 空孔評価－」, 東京コンファレンス, 日本分析化学会, 2003.9.12. 16. 伊藤賢志, 小林慶規, 于潤升, 平田浩一, 佐藤公法, 「多孔質酸化硅素薄膜中のポジトロニウム消 別紙-18 滅挙動(II)」, 第 46 回放射線化学討論会, 2003.9.17. 17. T. Ohdaira, R. Suzuki, Y. Shioya, and K. Maeda, Characterization of Sub-Nanometer-Sized Pores in PECVD Low-k Films by Positronium Annihilation Lifetime Spectroscopy, 50th International symposium of American Vacuum Society, 2003.11.2. 18. K. Ito, Y. Kobayashi, R. Suzuki, T. Ohdaira, R. S. Yu, K. Sato, K. Hirata H. Togashi, M. Egami, H. Arao, A. Nakashima, and M. Momatsu, 2003 Materials Research Society Fall Meeting, 2003.12. 19. 伊藤 賢志, 「低速陽電子消滅法による多孔質酸化ケイ素系薄膜の細孔構造」,平成 15 年度産業技 術総合研究所計測標準研究部門成果発表会, 2003.12.12. 20. 小林慶規, 于潤升, 大平俊行, 鈴木良一, 伊藤賢志, 平田浩一, 佐藤公法, 道田泰子, 「飛行時 間測定による多孔質薄膜からのポジトロニウム放出」, 弥生研究会, 2003.12.22. 21. K. Hirata, Y. Kobayashi, Preliminary Study of Low-energy Ion Implanted Reference Material for Surface Analysis, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 22. T. Ohdaira, R. Suzuki, A. Uedono, M. Muramatsu, Y. Kobayashi, K. Hirata, Development of Compact-size Positron Lifetime Spectrometer for Porous Thin Films, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 23. R. Suzuki, T. Ohdaira, Y. Kobayashi, K. Ito, R. S. Yu, Measurement of Size and Interconnectivity of Nanopores in Thin Films by Two-dimensional Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月， Tokyo). 24. H. Hosomi, T. Hosoi, K. Ishikiriyama, M. Todoki, K. Ito, Y. Kobayashi, Physical Aging Kinetics of Poly (ethylene terephthalate) Determined using PALS and DSC, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 25. K. Ito, Y. Kobayashi, K. Hirata, H. Togashi, R. S. Yu, K. Sato, M. Muramatsu, T. Ohdaira, R. Suzuki, Development of Standard Sample for Reliable Positron Porosimetry 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 26. K. Sato, K. Ito, K. Hirata, R. S. Yu, T. Ohdaira, R. Suzuki, M. Muramatsu, J. Xu, Y. Kobayashi, Positronium Time-of-flight Measurements of Porous Low-k Films, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 27. M. Muramatsu, D. Shanai, T. Ougizawa, K. Ito, K. Hirata, Y. Kobayashi, Free Volume Behavior and Glass Transition in Polystyrene, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 28. H. Togashi, Y. Kobayashi, Matrix-assisted Laser Desorption/ionization Mass Spectrometry of Surfactants, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 別紙-19 （４）その他の発表 1. 小林慶規, 佐藤公法, 伊藤賢志, 平田浩一, 富樫寿, 大平俊行, 鈴木良一, 第３０回計測展コンフ ァレンス「ナノテクノロジーを支える計測・計量標準」, 2003.11.05. 2. 伊藤賢志ほか, NEDO 実用化開発助成事業成果展示会 2003 in TOKYO, 東京ビックサイト, 2003.11.4-7. 3. 鈴木良一, 大平俊行,「次世代 LSI 用 low-k 膜のサブナノ～ナノ空孔評価技術」, 日経ナノテクフェア， 東京ビッグサイト 2003.10.8-10. 表面構造 （１）論文発表 1. M. Jo, XPS Inelastic Background Optimization: Algorithm and results Surf. Interface Anal., 35, 729-737 (2003). 2. K. Sato, Y. Nishimura, N. Matsubayashi, M. Imamura, H. Shimada, Structural changes of Y-zeolites during ion exchange treatment: Effects of Si/Al ratio of the starting NaY, Microporous and Mesoporous Materials, 59 , 133-146 (2003). （２）特許 なし （３）口頭発表 1. M. Jo, Background Optimization of Electron-excited Auger Peaks, 10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Berlin, 2003/10/6. 2. M. Imamura, N. Matsubayashi, T. Tanaka, E. Kobayashi, Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Au Thin Films Using Synchrotron Radiation, 10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Berlin, 2003/10/6. 3. N. Matsubayashi, B. P. Singh, M. Imamura, T. Tanaka, Y. Sato, T. Ogiwara, M. Suzuki, S. Kiyota, Surface Characterization of Tungsten and Tungsten Carbide-Cobalt probe Materials for a Fine-Pitch Four-Point Probe by Variable Excitation XPS using Synchrotron Radiation, 10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Berlin, 2003/10/8. 4. S. Swaraj，I. Retzko，H. Schulz，A. Lippitz，J. Friedrich，W. Unger，N. Matsubayashi，M. Imamura， T. Tanaka，H. Shimada, Non-destructive depth profiling and semi-quantitative determination of unsaturated carbon species in pulse plasma deposited organic films, 10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Berlin, 2003/10/7. 5. 鈴木峰晴，田沼繁夫，荻原俊弥，安藤洋，北田隆行，田中彰博，眞田則明，福島整，吉川英樹，A. M. Blaicu，木村昌弘，松林 信行，C. J. Powell, 放射光を利用したシリコン表面での表面励起効果 別紙-20 の評価, 2003 年度 実用表面分析講演会, 2003 年 11 月 17 日. 6. K. Sato, N. Matsubayashi, M. Imamura, K.-K. Bando, H. Shimada, EXAFS analysis of Mo/USY zeolites - Effects of extra-framework aluminum for the properties of Mo species, 12th International Conference on x-ray absorption fine structure, 2003 年 06 月 26 日. 7. M. Imamura, N. Matsubayashi, T. Tanaka, E. Kobayashi, Refining and Calibration for Depth Profiling Analysis at Nano Scale I, Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Au in Low Kinetic Energy Region, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 8. N. Fukumoto, M. Jo, I. Kojima, Standard Spectra Database of XPS and AES, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 9. M. Jo, Determination of the Inelastic Effects in Electron Spectroscopies, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). （４）その他の発表 1. I. Retzko ， S. Swaraj ， W. Unger ， N. Matsubayashi ， M. Imamura ， T. Tanaka ， H. Shimada, Non-destructive depth-profiling of plasma polymers by variable excitation energy XPS, Photon Factory Activity Report Part B, 20, 197, (2003), 2003/11/5. 2. I. Retzko，W. Unger，N. Matsubayashi，M. Imamura，T. Tanaka，H. Shimada, Non-destructive XPS depth-profiling of ta:C-films by variable excitation energy, Photon Factory Activity Report Part B, 20, 198, (2003), 2003/11/5. 3. K. Sato, N. Matsubayashi, M. Imamura, K.-K. Bando, H. Shimada，Effects of extra-framework Al species for the preparation of Mo/USY catalysts，Photon Factory Activity Report Part B, 20, 39, (2003), 2003/11/5. 4. K. K. Okudaira, H. Yamane, M. Imamura, N. Ueno, Photodegradation of fluorocarbon polymer thin films by inner shell excitation, Photon Factory Activity Report Part B, 20, 15, (2003), 2003/11. 熱物性 （１）論文発表 1. J. Ishii, Y. Shimizu, K. Shinzato, and T. Baba, High-Speed Infrared Radiation Thermometry for micro-scale thermophysical property measurements, the Fifteenth Symposium on Thermophysical Properties, International Journal of Thermophysics, submitted. 2. Y. Shimizu, J. Ishii, K. Shinzato, T. Baba, Novel Method for observation of thermal properties of thin film with modulated CO2 laser, International Journal of Thermophysics, submitted. 3. N. Taketoshi, E. Schaub, T. Baba, and A. Ono, Homodyne detection technique using spontaneously generated reference signal in picosecond thermoreflectance measurements, Rev. Sci. Instrum. Vol.74 別紙-21 5226-5230(2003). 4. H. Watanabe, N. Yamada, and M. Okaji, Linear Thermal Expansion Coefficient of Silicon from 293 to 1000 K, International Journal of Thermophysics, 25 (2004) 221-236. （２）特許 1. 特願 2003-128738 薄膜熱物性測定方法並びに装置，竹歳尚之，馬場哲也 2003 年 5 月出願. 2. 米国特許 10/424,933，高速パルス高速時間応答測定方法ならびに装置，竹歳尚之，馬場哲也， 2003 年 4 月 29 日出願． 3. フランス特許 0305321，高速パルス高速時間応答測定方法ならびに装置，竹歳尚之，馬場哲也， 2003 年 4 月 30 日出願． 4. 特許 340258，熱拡散率と界面熱抵抗の測定方法，馬場哲也，2003/05/23 登録. 5. 特願 2004-056747 パルス通電加熱法を用いた高温物質の熱拡散率高速測定法，渡辺博道 2004 年 3 月 1 日出願. （３）口頭発表 1. N. Taketoshi, T. Baba, A. Ono, Development of Thermal Diffusivity Measurement System Using a Picosecond thermoreflectance technique, 15th Symposium on Thermophysical Properties, (2003 年 6 月, Boulder). 2. J. Ishii, Y. Shimizu, K. Shinzato, and T. Baba, High-Speed Infrared Radiation n Thermometry for micro-scale thermophysical property measurements, 15th Symposium on Thermophysical Properties, (2003 年 6 月, Boulder). 3. Y. Shimizu, J. Ishii, K. Shinzato, and T. Baba, Novel Method for Observation of thermal properties of thin film with modulated CO2 laser, 15th Symposium on Thermophysical Properties, (2003 年 6 月, Boulder). 4. N. Taketoshi, T. Baba and A. Ono , Thermal Diffusivity Measurements Across Submicrometer Metal Thin Films by the Picosecond Thermoreflectance Method, 15th Symposium on Thermophysical Properties, (2003 年 6 月, Boulder). 5. 清水祐公子，石井順太郎，新里寛英，馬場哲也，ナノ/マイクロスケール試料熱物性値測定のため の高速レーザー変調・放射測温技術の開発，第 58 回日本物理学会（2003 年 9 月，岡山）. 6. 竹歳尚之，八木貴志，馬場哲也，小野晃，「ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱拡散率計 測システムの開発－モリブデン薄膜の熱拡散率と構造との相関－第 24 回日本熱物性シンポジウム (2003 年 10 月, 岡山). 7. 山田修史「固体材料の熱膨張率および nL 積の高精度計測技術の開発」第 24 回日本熱物性シン ポジウム（2003 年 10 月, 岡山）. 別紙-22 8. 清水祐公子，光で温度を測る～レーザー高速変調を用いたナノ/マイクロスケール試料熱物性値測 定～，第 14 回コンテンポラリーオプティクス講演会（2003 年 11 月，東京）. 9. 竹歳尚之，薄膜熱物性計測技術の開発－ピコ秒パルスレーザで見る 100nm スケールの熱伝導－， AIST-Today，Vol.3, 13 (2003 年 11 月). 10. Naoyuki TAKETOSHI, Tetsuya BABA, Takashi YAGI, and Akira ONO, Thermophysical Property Measurements of Submicrometer Metal Thin Films Using a Picosecond Thermoreflectance Technique,1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 11. 竹歳尚之，八木貴志，加藤英幸，馬場哲也，ピコ秒ピサーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱物性 計測技術，Nanotech2004+future，（2004 年 3 月，東京）. 12. 馬場 哲也，竹歳 尚之，八木 貴志，玉野 公章，佐藤 泰史，宋 豊根，重里 有三，ピコ秒サーモ リフレクタンス法を用いた透明導電膜の熱物性計測 I －原理と計測システム，第 51 回応用物理学 関係連合講演会 (2004 年 3 月，東京). 13. 玉野 公章，佐藤 泰史，宋 豊根，重里 有三，竹歳 尚之，八木 貴志，馬場 哲也，ピコ秒サーモ リフレクタンス法を用いた透明導電膜の熱物性計測 II －ITO 薄膜の熱物性，第 51 回応用物理学 関係連合講演会 (2004 年 3 月，東京). 14. 小川光恵，向井一夫，大川元，大熊英夫，馬場哲也「熱物性計測用コーティング標準物質の開発」 第 24 回日本熱物性シンポジウム（2003 年 10 月, 岡山）. 15. Mitsue OGAWA, Kazuo MUKAI, Hideo OKUMA, Tetsuya BABA, Development of a reference material for evaluating the thermophysical properties of coatings, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 16. K. Hatori, J. Saeki, T. Otsuki, K. Shinzato, H. Ohta, N. Taketoshi, T. Baba, Development of a Thermal Microscope for Thermophysical Property Distribution Measurements in Nanotechnologies, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月， Tokyo). 17. J. Ishii, Y. Shimizu, K. Shinzato, T. Baba, Development of High-Speed Infrared Thermometer for Measuring Local Thermophysical Property, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 18. Y. Shimizu, J. Ishii, K .Shinzato, T. Baba, High Speed Measuring System for Thermal Properties of Micro/Nano Scale Samples with Modulated Infrared Laser, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月，Tokyo). 19. K. Ichihara, K. Todori, T. Nakai, K. Yusu, S. Ashida, S. Tatsuta, N. Taketoshi, T. Baba, Application of Thermo-Reflectance Analysis for Thermal Design of Next Generation ReWritable DVD Media, 1st International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, (2004 年 3 月， Tokyo). 別紙-23 （４）その他の発表 1. 馬場哲也，「熱設計と熱物性データ」，第３回熱設計・対策技術シンポジウム，幕張メッセ，2003 年 4 月 18 日. 2. 山田修史，「熱膨張率計測技術の現状-ppb/℃オーダーでの計測の実現-」マスク標準化委員会 （2003 年 5 月，東京）. 3. 馬場哲也, 「ナノ薄膜の熱拡散率を高精度計測－DVD-RAM や MPU の設計を支援」日経先端技 術 42, 2003.07.28. 4. 馬場哲也, 「ナノ計測基盤技術に着手－微粒子計測など 4 テーマを確立へ,標準物質の開発も目 指す」日経先端技術 47, 2003.10.13. 5. 山田修史，「熱膨張係数の精密測定-ppb/℃オーダーの熱膨張計測-」国際計量研究連絡委員会/ 長さ分科会（2003 年 10 月，東京）. 6. 馬場哲也、「薄膜・微小領域の熱物性計測技術」，第９回 NMIJ セミナー【ナノテクノロジーを支える 計測・計量標準】 東京ビッグサイト，2003 年 11 月 5 日. 7. 馬場哲也，「Nanotechnology Program, Nanomaterial Process Technology」, Science & Technology In Japan (2004, Vol.22, No.88). 8. ファインセラミックスセンター，「ナノ計測基盤技術の研究 標準物質および熱物性均質性評価装置 の開発」JFCC ニュース，No.70 (2003 年 4 月). 9. ファインセラミックスセンター，「ナノ計測基盤技術の研究 標準物質および熱物性均質性評価装置 の開発」国際セラミックス展 2003（2003 年 4 月，東京）. 10. ファインセラミックスセンター，産総研「熱拡散率計測用コーティング標準物質」, nano tech 2004 （2004 年 3 月，東京）. （５） 書籍 1. 馬場哲也，レーザフラッシュ法におけるデータ解析の高度化，最新熱測定（八田一郎編，アグネ技術 センター，2003 年 10 月）pp.94-102. （６）受賞 1. 馬場哲也，竹歳尚之，中小企業優秀新技術・新製品賞優秀賞併賞，「熱物性顕微鏡-サーマルマ イクロスコープ」平成 15 年 4 月 9 日. 別紙-24 平成 1６年度 微小要素物理特性 （１）論文発表（プロシーディングス含む） 1. T. Myojo, K. Ehara, H. Koyama, K. Okuyama; Size Measurement of Polystyrene Latex Particles Larger than 1 Micrometer Using a Long Differential Mobility Analyzer，AEROSOL SCIENCE AND TECHNOLOGY，38，pp.1178-1184、2005/01. 2. K. Takahata, and K. Ehara, PERFORMANCE EVALUATION OF AN AEROSOL GENERATOR WITH SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE AS THE SUSPENSION MEDIUM, JOURNAL OF AEROSOL SCIENCE (Abstract of EAC 2004), S681-S682, 2004/09 3. T. Saito, K. Shimada, S. Kinugasa, Determination of Size of Polystyrene Nano-sphere by the Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance, Langmuir, 20, 4779-4781 (2004) 4. M. Itakura, K. Sato, M. A. Lusenkova, S. Matsuyama, K. Shimada, T. Saito, S. Kinugasa, Molecular Weight Dependency of Refractive Index Increment of Polystyrene Determined by Uniform Oligomers, J. Appl. Polym. Sci., 94, 1101-1106 (2004) 5. K. Shimada, H. Kato, T. Saito, S. Matsuyama, S. Kinugasa, Precise measurement of the self-diffusion coefficient for poly(ethylene glycol) in aqueous solution using uniform oligomers , J. Chem. Phys., 投稿中 6. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA，A study for the calibration of particle number concentration in the liquid with the distinction of particles and bubbles by comparing the new optical scattering method detecting the fluorescence and the microscopic method， Proceedings of the 13th European Microscopy Congress，pp.455-456、2004/08 7. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, A study of the particle number counting with the distinction of particles and bubbles for the calibration of particle number concentration in the liquid by detecting the fluorescence from the sample particle， Proceedings First International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, pp.183-187、2005/01 8. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, The evaluation of particle counting efficacy of the new optical scattering method detecting the fluorescence for the particle number concentration standard in liquid, in printing for Proceedings of SPIE （２）特許 なし （３）口頭発表 1. 高畑 圭二，榎原 研正，100 nm 以下の粒径域におけるエアロゾル粒子発生装置の性能評価， 第 21 回エアロゾル科学・技術研究討論会，札幌、2004/08/04 2. K. Takahata, and K. Ehara, PERFORMANCE EVALUATION OF AN AEROSOL GENERATOR WITH SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE AS THE SUSPENSION MEDIUM, European Aerosol Conference 2004, Budapest, Hungary, 2004/09/07 3. 高畑 圭二，榎原 研正，100 nm 以下の粒径標準に対するエアロゾル粒子発生装置の検討，第 13 回微粒化シンポジウム，東京（日本大学理工学部）、2004/12/22 別紙-25 4. 榎原研正、福嶋信彦、K. Worachotekomjorn、K. J. Coakley: エアロゾル粒子質量分析器の時間応 答特性の解析と高速化，エアロゾル科学技術研究討論会，北海道大学（札幌） 、2004/08/04 5. K. Ehara, N. Fukushima, K. Worachotekomjorn、K. J. Coakley: ANALYSIS AND IMPROVEMENT OF THE TEMPORAL RESPONSE OF THE AEROSOL PARTICLE MASS ANALYZER，European Aerosol Conference 2004, Budapest, Hungary, 2004/09/07. 6. 島田 かより、松山 重倫、齋藤 剛、衣笠 晋一, 動的光散乱法によるナノ微粒子粒径の高精度測 定, 第 53 回高分子学会年次大会， 神戸，2004/5/26 7. 衣笠 晋一、板倉 正尚、岸根 加奈、松山 重倫、齋藤 剛、島田 かより、大原 倫世、寺町 信哉， SEC-MALS による高分子のキャラクタリゼーション，第 54 回高分子学会年次大会，神戸, 2004/5/26 8. K, Shimada, S. Matsuyama, T. Saito, and S. Kinugasa, HYDRODYNAMIC-RADIUS MEASUREMENT OF PS LATEX PARTICLES BY USING DYNAMIC LIGHT SCATTERING, 7th International Congress on Optical Particle Characterization, Kyoto, 2004/8/2 9. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA，A study for the calibration of particle number concentration in the liquid with the distinction of particles and bubbles by comparing the new optical scattering method detecting the fluorescence and the microscopic method， the 13th European Microscopy Congress、Antwerp (Belgium), 2004/08/25 （４）その他の発表（プレス発表など） なし 空孔 （１）論文発表 1. 伊藤賢志、于 潤升、小林慶規、佐藤公法、平田浩一、富樫寿、道田泰子、鈴木良一、大平俊 行、「分光エリプソメトリー及びエネルギー可変陽電子消滅法によるシリカスパッタ薄膜の細 孔構造解析」 、日本セラミックス協会誌, 112(6), 338-341 (2004). 2. K. Sato, Y. Kobayashi, K. Arinuma, I. Kanazawa, R. Tamura, T. Shibuya, and S. Takeuchi, “Comparative study of the binary icosahedral quasicrystal Cd5.7Yb and its crystalline 1/1-approximant Cd6Yb by positron annihilation spectroscopy”, Physical Review B 70, 094107 (2004). 3. Makoto Muramatsu, Toshiyuki Ohdaira and Ryoichi Suzuki, “Fabrication of Microparticle Layer by Annealing Microparticle/Polymer Composite”, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 44, No. 8, 2005, pp.L268-L270 4. K. Sato, Y. Kobayashi. Y. Takagiwa, I. Kanazawa, R. Tamura, and S. Takeuchi, “Structural vacancies and their local atomic environment in the Zn-Mg-Sc alloy system studied by positron annihilation spectroscopy”, Physical Review B, 70, 184204 (2004). 5. K. Sato K. Ito, K. Hirata, R. S. Yu and Y. Kobayashi, “Intrinsic momentum distributions of positron and positronium annihilation in polymers”, Physical Review B, 71, 012201 (2005). （２）特許出願(国内) 別紙-26 1. 低誘電率絶縁膜の形成方法，大平俊行, 塩谷喜美((株)半導体プロセス研究所)，特願 2003-154429， 2003/5/30 2. 荷電粒子ビームチョッピング装置，大平 俊行(100)，特願 2004-138067，2004/05/07 3. 微粒子膜及びその形成方法，村松 誠(50)，大平 俊行(50)，特願 2004-220035，2004/07/28 4. 低速陽電子ビーム装置，大平 俊行(50)，村松 誠(50)，特願 2004-253129，2004/08/31 （３）口頭発表 「招待講演」 1. Variable-energy Positron Annihilation as Highly Sensitive Nanoporosimetry for Porous Low-k Films, Kenji Ito, Yoshinori Kobayashi, Toshiyuki Ohdaira, Ryoichi Suzuki, Kouichi Hirata, Kiminori Sato, 35th POLISH SEMINAR ON POSITRON ANNIHILATION, Sep. 20-24 (2004), Turawa, Poland. 「一般講演」 1. ガス吸着エリプソメトリーとエネルギー可変陽電子消滅法による多孔質シリカ系 Low-k 薄膜の細孔 評価, 伊藤賢志, 小林慶規, 鈴木良一, 大平俊行, 于潤升, 佐藤公法, 平田浩一, 富樫寿, 江 上美紀, 荒尾弘樹, 中島昭, 小松通郎, 第 41 回理工学における同位元素・放射線研究発表会, Jul. 7 (2004), 東京. 2. ポジトロニウム飛行時間測定法による多孔質シリケート Low-k 薄膜のナノ空孔評価, 伊藤 賢志，于 潤升，佐藤 公法，平田 浩一，小林 慶規，栗原 俊一，設楽 哲夫，江上 美紀，荒尾 弘樹，中島 昭，小松 通郎, 第 47 回放射線化学討論会, Oct. 10 (2004), 札幌. 3. Correlation Study of Line-shape S parameter and Positron 3g Decay Probability for Nonporous and Porous Silicate Thin Films: the Effects of Paramagnetic Defects and Open Nanoporosity, Kenji Ito, Runsheng Yu, Yoshinori Kobayashi, Kouichi Hirata, Kiminori Sato, The 4th International Workshop on Positron Studies of Semiconductor Defects, Nov. 7-11 (2004), USA. 4. 多孔質薄膜の超高感度ナノ構造解析法としての低速陽電子消滅, 伊藤賢志、小林慶規、平田浩一、 佐藤公法、鈴木良一、大平俊行, 平成１６年度弥生研究会, Feb.21 (2005), 東京. （４）その他の発表（プレス発表など） 1. 「次世代 LSI 用 low-k 膜のサブナノ～ナノ空孔評価技術」，鈴木良一，大平俊行，日経ナノテクフェア， 平成１５年１０月８日－１０日，東京ビッグサイト 2. 「材料ナノテクノロジープログラム・ナノ計測基盤技術・空孔の計測基盤」，第２４回 INCHEM TOKYO 2003 および NEDO 実用化開発助成事業成果展示会 2003 in TOKYO，平成１５年１１月４日－７ 日，東京ビックサイト 3. 陽電子消滅法による薄膜中のナノ空孔評価, 伊藤 賢志, MATERIAL STAGE, Vol. 4, pp.35-41 (2004). 4. 「陽電子・ポジトロニウムの物質中での挙動とナノ空孔構造評価への応用」, 伊藤 賢志, 放射線と産 別紙-27 業, No. 105, pp.32-36 (2005). 5. 「先端ナノ空孔分析－陽電子ビームによる高信頼性普及型技術の開発－」，nano tech 2005 国際ナ ノテクノロジー総合点・技術会議，平成１７年２月２３日－２５日，東京ビックサイト 表面構造 （１）論文発表 1. N. Matsubayashi、Brahm Pal Singh、M. Imamura、T. Tanaka、Y. Sato、T. Ogiwara、M. Suzuki、 S. Kiyota，Surface Characterization of Tungsten and Tungsten Carbide-Cobalt probe Materials for a Fine-Pitch Four-Point Probe by Variable Excitation XPS using Synchrotron Radiation， SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS，36-8，pp.853-856、2004/08 （２）特許 なし （３）口頭発表 1.今村元泰, 松林信行,小林英一放射光励起光電子分光法による Al/Si(111)の深さ方向分析、 第 18 回 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム 、2005 年 01 月 09 日 2.福本 夏生、城 昌利、小島 勇夫：「XPS 分光器透過関数補正を用いた異機種装置で取得したデー タの定量的比較」，日本分析化学会 第 53 年会 2004.9.1 千葉 3.Natsuo Fukumoto, Masatoshi Jo and Isao Kojima, “Calibration of Energy and Intensity Scales for Standardization of Electron Spectroscopy Spectra Database”, 3rd International Symposium on Practical Surface Analysis (PSA ’04), Jeju, Korea, 2004/10/5. 4.M. Jo, Arbitrariness Remained in The Background Optimization, 3rd International Symposium on Practical Surface Analysis (PSA04), Jeju, Korea, 2004/10/5. 5.M. Jo, HOW MUCH CAN WE KNOW FROM THE INELASTIC BACKGROUNDS IN ELECTRON SPECTROSCOPIES OF SOLIDS?, 2nd International Symposium on Technologies and Applications of Photoelectron Micro-Spectroscopy with Laser-based VUV Sources, Tsukuba, Japan, 2005/2/2. （４）その他の発表 1. Non-destructive chemical depth-profiling by variable excitation energy XPS: TFAA derivatized allyl alcohol-ethylene plasma polymer films ， Iris Retzko （ Bundesanstalt für Materialforschung und –prüfung）、Renate Mix（Bundesanstalt fur Materialforschung un -prufung）、Sufal Swaraj、Wolfgang Unger（Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung）、N. Matsubayashi、M. Imamura、T. Tanaka、H. Shimada，Photon Factory Activity Report 2003 B，21-，pp.76-76、2004/11 2. M. Imamura, E. Kobayashi, N. Matsubayashi, Experimental Determination of Electron Effective 別紙-28 Attenuation Length in Au Thin Films , Photon Factory Activity Report 2003 B，21，pp.76-76、2004/11 熱物性 （１）論文発表 1. N. Taketoshi、E. Schaub、T. Baba、and A. Ono，Homodyne detection technique using spontaneously generated reference signal in picosecond thermoreflectance measurements， Review of Scientific Instruments，Vol.74, pp.5226-5230, (2003/12) 2. N. Taketoshi and T. Baba, A new picosecond thermoreflectance technique for thermal diffusivity measurements of Nanoscale metal thin films, Proceedings of 10th International Workshop on Thermal Investigation of ICs and Systems (Sophia Antipolice, France, 2004) pp.15-18 3. T. Baba, General Needs on nanoscale thermal Metrology and the Japanese Program on the subject, Proceedings of 10th International Workshop on Thermal Investigation of ICs and Systems (Sophia Antipolice, France, 2004) pp.241-248 4. 竹歳 尚之、八木貴志（青山学院大）、馬場 哲也、小野 晃、Thermophysical Property Measurements of Submicrometer Thin Films by Means of a Picosecond Thermoreflectance Technique， Proceedings of First International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, pp.175-177, 2005/01 5. 市原勝太郎（東芝）、都鳥顕司（東芝）、中居司（東芝）、立田真一（東芝）、芦田純生（東芝 研 究 開 発 セ ン タ ー ）、 竹 歳 尚 之 、 馬 場 哲 也 、 柚 須 圭 一 郎 （ 東 芝 ） , Application of Thermo-Reflectance Analysis for Thermal Design of Next Generation ReWritable DVD Media , Proceedings of First International Symposium on Standard Materials and Metrology, for Nanotechnology, pp. 42-47、2005/01 6. Y. Shimizu, J. Ishii, K. Shinzato, and T. Baba, A Novel Method for Determination of the Thermal Diffusivity of Thin Films Using a Modulated CO2 Laser, Int. J. Thermophysics., 26, 2005, pp.203-211. 7. J. Ishii, Y. Shimizu, K. Shinzato, and T. Baba, High-Speed Infrared Radiation Thermometry For Micro-Scale Thermophysical Property Measurements, Int. J. Thermophysics., to be published. (２) 特許等 1. 高速パルス高速時間応答測定方法並びに装置，竹歳 尚之、馬場 哲也，10/424933（米国）、 2003/04/29 2. 高速パルス高速時間応答測定方法並びに装置，竹歳 尚之、馬場 哲也，0305321（フランス）、 2003/04/30 3. 薄膜熱物性測定方法及び測定装置，竹歳 尚之、馬場 哲也，特願 2003-128738、2003/05/07 4. 薄膜熱物性測定方法及び測定装置，竹歳 尚之、馬場 哲也，10/839214（米国出願）、2004/05/06 (３) 口頭発表 別紙-29 1. N. Taketoshi, T. Baba, and A. Ono, Thermal Diffusivity Measurements Across Submicrometer Metal Thin Films by the Picosecond Thermoreflectance Method ， FIFTEENTH SYMPOSIUM ON THERMOPHYSICAL PROPERTIES，米国コロラド州、2003/06/26 2. 竹歳 尚之、八木 貴志、馬場 哲也、小野 晃，ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱拡散率 計測システムの開発(9)- モリブデン薄膜の熱拡散率と構造との相関，第 24 回日本熱物性シンポジウ ム，岡山、2003/10/08 3. 小川光恵，向井一夫，大川元，大熊英夫，馬場哲也、熱物性計測用コーティング標準物質の 開発、第24回日本熱物性シンポジウム、岡山、2003年10月 4. N. Taketoshi、T. Yagi, T. Baba, and A. Ono，Thermophysical Property Measurements of Submicrometer Metal Thin Films with a Picosecond Thermoreflectance Technique， SMAM-1 (the first international symposium focused on standard materials and metrology used in nanotechnology)，東京、2004/03/15 5. Mitsue OGAWA, Kazuo MUKAI, Hideo OKUMA, Tetsuya BABA, Development of a reference material for evaluating the thermophysical properties of coatings, SMAM-1 (the first international symposium focused on standard materials and metrology used i n nanotechnology)，東京、2004年3月 6. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、コーティング材料の熱拡散率測定用標準試料、（財）ファイン セラミックスセンター研究発表会、2004年7月7日･14日 7. N. Taketoshi and T. Baba, A new picosecond thermoreflectance technique for thermal diffusivity measurements of Nanoscale metal thin films, 10th International Workshop on Thermal Investigation of ICs and Systems (Sophia Antipolice, France, 2004.9) 8. T. Baba, [招待講演] General Needs on nanoscale thermal Metrology and the Japanese Program on the subject, Proceedings of 10th International Workshop on Thermal Investigation of ICs and Systems (Sophia Antipolice, France, 2004.9) 9. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、馬場哲也、熱物性に関するコーティング標準物質の開発、日 本セラミックス協会・第17回秋期シンポジウム、2004年9月17日 10. 竹歳 尚之、馬場 哲也、小野 晃，ピコ秒サーモリフレクタンス法を用いた薄膜熱物性計測技術の開 発(10)-薄膜熱物性標準整備に向けた装置の不確かさ評価-，第 25 回日本熱物性シンポジウム，長 野、2004/10/20 11. 竹歳 尚之、小林 謙一、久住 陽子、佐々木緑、馬場 哲也，データベースで見る薄膜熱物性・界面 熱抵抗研究の進展（レビュー），第 25 回日本熱物性シンポジウム，長野、2004/10/20 12. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、馬場哲也、熱物性に関するコーティング標準物質の開発、第 25回日本熱物性シンポジウム、長野、2004年10月22日 13. 山田 修史、加藤 英幸、馬場 哲也、固体材料の熱膨張率および nL 積の高精度計測技術の開発 (2)、第 25 回日本熱物性シンポジウム，長野、2004/10/22 (4) その他の発表（プレス発表等） 1. ファインセラミックスセンター，ナノ計 測 基 盤 技 術の研 究 標 準 物 質 および熱 物 性 均 質 性 評 価 装置の開発、JFCCニュース No.70 (2003年4月) 別紙-30 2. フ ァイン セラミックスセンタ ー 、産 総 研 、熱 拡 散 率 計 測 用 コー ティン グ標 準 物 質 、nano tech 2004 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議（2004年3月，東京） 3. ファインセラミックスセンター，産総研 、コーティング膜の熱拡散率計測用標準試料、nano tech 2005 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議（2005年2月23日～25日，東京） 別紙-31 平成１７年度 微小要素物理特性 （１）論文発表 1. Kayori Shimada, Haruhisa Kato, Takseshi Saito, Shigetomo Matsuyama, and Shinichi Kinugsa, “Presice mesurement of the self-diffusion coefficient for poly(ethylene glycol) in aqueous solution using uniform oligomers”, J. Chem. Phys., 122, 044914-1-044914-7 (2005). （２）特許 なし （３）口頭発表 招待講演 1. 榎原研正，微粒子の質量分布測定技術の発展と応用，日本機械学会，電気通信大学、2005/09/20 2. K. Ehara, K. Takahata, Nanoparticle Measurement by Electrical Mobility Analysis and Related Methods，Nanoscale Measurement Technology Forum，Taipei、2005/09/23. 3. K. Ehara, H. Sakurai, and K. J. Coakley, Development and Applications of a Method of Measuring Mass Distributions of Aerosol Particles，International Symposium on Smart Processing Techology， Suita, 2005/11/14. 4. Kayori Shimada, ”Precise Measurement of Hydrodynamic Radius for Nanoparticle by DLS”, APEC Workshop on Nanoscale Characterization of Advanced Materials, ITRI (Tiwan), 2005/6/13． 一般講演 1. 高畑圭二，榎原研正，電気移動度分析による 30 ~ 100 nm 粒径域での粒径測定の不確かさ，第 22 回エアロゾル科学・技術研究討論会，2005/07/28. 2. Keiji Takahata and K. Ehara, Evaluation of uncertainty in relative size measurement of monodisperse particles smaller than 100 nm with the DMA-moment method, European Aerosol Conference 2005, 2005/08/29. 3. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, The evaluation of particle counting efficacy of the new optical scattering method detecting the fluorescence for the particle number concentration standard in liquid、SPIE International Symposium Optical Metrology、２００５年６月１４日 4. 衣 笠 晋 一 ， 板 倉 正 尚 ， 岸 根 加 奈 ， 松 山 重 倫 ， 齋 藤 剛 ， 島 田 か よ り ， 大 原 倫 世 ， 寺 町 信 哉 ， “SEC-MALS による高分子のキャラクタリゼーション”， 第５３回高分子学会年会，2005/5/26. 5. 衣笠 晋一，絹川明男，道津邦彦，松井昭，若林淳，中村繁夫，” 光散乱検出器付きサイズ排除ク ロマトグラフィー(SEC-LS)の精度に関する共同研究”，第 54 回高分子討論会，2005/09/21. 6. 衣笠 晋一，絹川明男，道津邦彦，松井昭，若林淳，中村繁夫，” 光散乱検出器付きサイズ排除ク 別紙-32 ロマトグラフィー(SEC-LS)の精度に関する共同研究”，第 10 回高分子分析討論会，2005/10/28. （４）その他の発表 1. 榎原研正，エアロゾル粒子の質量分布測定と応用，空気清浄，43-1，pp.24-30、2005/05 2. Takayuki SAKAGUCHI, Kensei EHARA, " The evaluation of particle counting efficacy of the new optical scattering method detecting the fluorescence for the particle number concentration standard in liquid "、Proceedings of SPIE、 vol.5856 p994-1002 (2005). （５）受賞 なし 空孔 （１） 論文発表 1. M. Muramatsu, T.Ohdaira, R.Suzuki, "Reemission of Positrons from Mesh and Powder Moderators", Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 44, No. 8, p. 6283-6286 (2005). 2. K. Ito and Y. Kobayashi, "Variable-energy positron annihilation as highly sensitive nanoporosimetry for porous thin films", Acta Physica Polonica A, Vol. 107, No. 5, p. 717-723 (2005). 3. K. Ito, R. S. Yu, K. Sato, K. Hirata, Y. Kobayashi, M. Egami, H. Arao, A Nakashima, M. Komatsu, “Pore interconnecitivty of nanoclustering silica porous films as studied by positronium time-of-flight spectroscopy”, J. Appl. Phys., Vol. 98, 094307 (2006). 4. 大平俊行, “薄膜対応・ナノ空孔計測装置「PALS-1」”, 電子材料, Vol. 44, No. 6, pp. 48-52 (2005). 5. Y. Kobayashi, K. Ito, K. Hirata, K. Sato, R. S. Yu, T. Kurihara, "Positronium time-of flight spectroscopy from a porous dielectric film", Photon Factory Activity Report, 22-A, p. 28-29 (2005). （２） 特許など なし 口頭発表 「招待講演」 （３） 1. Y. Kobayashi, “Positronium chemistry in porous materials - developments in the past and future prospects -”, 8th International Workshop on Positron and Positronium Chemistry (PPC-8), 2005/9/4-9, Coimbra, Portugal. 「一般講演」 1. 大平俊行, 村松誠, 鈴木良一,「陽電子減速材の研究」, 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電 子科学とその理工学への応用」, 2005/11/23、京都大学原子炉実験所 別紙-33 2. 伊藤賢志, 岡 壽崇, 小林慶規, 「多孔質酸化硅素薄膜中のポジトロニウム消滅挙動 (III) 」, 第 48 回 放射線化学討論会, 2005/10/12-14, 大阪大学 3. 伊藤賢志, 岡 壽崇, 平田浩一, 富樫 寿, 小林慶規, 「PECVD による多孔質薄膜作製とその構造 (I) 」, 第 48 回放射線化学討論会, 2005/10/12-14, 大阪大学 4. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 平田浩一, 富樫 寿, 小林慶規, 「PECVD による多孔質薄膜作製とその構造 (II) 」, 第 48 回放射線化学討論会, 2005/10/12-14, 大阪大学 5. 伊藤賢志, 岡 壽崇, 小林慶規, 鈴木良一, 大平俊行, 「低速陽電子消滅法による酸化ケイ素系プ ラズマ CVD 薄膜のナノ空孔解析」, 第 49 回放射化学討論会, 2005/9/28-30, 金沢大学 6. K. Ito, T. Oka, Y. Kobayashi, R. Suzuki, T. Ohdaira, “Variable-energy Positron Annihilation Study of Subnanopore in SiOCH-based PECVD Films”, 8th Workshop on Positron and Positronium Chemistry (PPC-8), 2005/9/4-9, Coimbra, Portugal. 7. 伊藤賢志, 岡 壽崇, 小林慶規, 鈴木良一, 大平俊行, 「低速陽電子消滅法による酸化ケイ素系プ ラズマ CVD 薄膜のサブナノ空孔解析」, 平成 17 年度 弥生研究会, 2006/2/21, 東京大学 8. 大平俊行, 村松誠, 鈴木良一, 上殿明良, 高輪正夫, 平田浩一, 小林慶規, 「小型・低速陽電子 ビーム寿命測定装置の開発」, 応用物理学会, 2005/4/1, 埼玉大学 （４） 1. その他の発表 「先端ナノ空孔分析：陽電子ビームによる高信頼性普及型技術の開発」, nano tech 2006 国際ナノ テクノロジー総合展・技術会議, 2006/2/21-23, 東京ビックサイト 2. 「空孔の計測基盤 先端ナノ空孔分析：陽電子ビームによる高信頼性普及型技術の開発」, nano tech 2007 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議, 2006/2/21-23, 東京ビックサイト （５） 1. 受賞 鈴木良一, 大平俊行, 第３７回市村学術賞 貢献賞「エネルギー可変短パルス陽電子ビームの形成 とそれを用いた材料評価技術の研究」2005/4/28 表面構造 （１）論文発表 なし （２）特許 なし （３） 口頭発表 1. M. Imamura, N. Matsubayashi, E. Kobayashi, “Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Al in Low Energy Region”, 1１th European Conference on Applications of 別紙-34 Surface and Interface Analysis，Wien, 2005/9/27 2. N. Matsubayashi, K. Tsukuma, S. Yamauchi, M. Imamura, “Depth profiling surface analysis study on Ce-Zr-Y oxide nanoparticule catalysts by variable excitation XPS using synchrotron radiation”, 1 １th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Wien, 2005/9/27 3. M. Jo, “Possibility of determining the background component which is irrelevant to the analyzed peak”, 1１th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Wien, 2005/9/27 4. W. Unger, S. Swaraj, U.Oran, A. Lippitz, I. Retzko, J. Friedrich, N. Matsubayashi, “R.F. Plasma-polymerized Polymer and Co-polymer Films: Comprehensive Surface and in depth Chemical Characterization by XAS, XPS and ToF-SIMS ”, 1 １ th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Wien, 2005/9/29 5. 福本 夏生・新 重光・城 昌利・小島 勇夫:「ＷＥＢベースプログラムによる電子分光スペクトルデ ータベース開発」，日本分析化学会 第 54 年会, 名古屋, 2005/9/16 6. 城 昌利, 「スペクトル中の注目するピークに無関係な強度成分の推定｣, 第 26 回表面分析研究 会, 軽井沢, 2005/6/21 （４）その他の発表 1. M. Imamura, N. Matsubayashi, E. Kobayashi, “Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Al Thin Films”, Photon Factory Activity Report Part B, 22, 85, (2005), 2005/11 2. N. Matsubayashi, K. Tsukuma, M. Imamura, “Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Al Thin Films”, Photon Factory Activity Report Part B, 22, 47, (2005), 2005/11 3. N. Matsubayashi, M. Imamura, “Development and evaluation of uncertainty of precise quantitative analysis by XAS for a primary standard”, Photon Factory Activity Report Part B, 22, 46, (2005), 2005/11 熱物性 (１) 論文発表 1. N. Taketoshi, T. Baba, and A. Ono, Electrical delay technique in the picosecond thermoreflectance method for thermophysical property measurements of thin films, Rev. Sci. Instrum 76 (2005) 094903. 2. 池内朗明、八木貴志、加藤英幸、局所熱浸透率測定装置を用いた YBCO 薄膜の熱 別紙-35 浸透率の分布測定, 低温工学 40（2005）335～339 (２) 特許 なし (３) 口頭発表 1. 山田修史,加藤英幸,馬場哲也, 固体材料の熱・光学特性の高精度計測技術の開発(3), 第 26 回日 本熱物性シンポジウム，つくば，2005/11 2. 小川光恵、熱遮蔽コーティング(TBC)の熱特性評価用標準試料の開発、(財)ファインセラミックスセン ター研究発表会、名古屋・東京、2005/7/8・2005/7/15 3. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、馬場哲也、コーティング膜の熱物性計測用標準試料の開発、日 本セラミックス協会第 18 回秋季シンポジウム、大阪、2005/9/27 4. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、馬場哲也，コーティング膜の熱物性計測用標準物質の開発，第 26 回日本熱物性シンポジウム，つくば，2005/11/9 5. 竹歳尚之 馬場哲也 小野晃、薄膜熱物性分野における知的基盤整備の展望、第 26 回日本熱物 性シンポジウム, つくば, 2005 年 11 月, Proceedings of the 26th Japan symposium on thermophysical properties，pp.53-55 6. 竹歳尚之 八木貴志 加藤英幸 馬場哲也、フェムト秒パルスレーザを用いた薄膜熱物性計測シス テムの開発(1)、第 26 回日本熱物性シンポジウム, つくば, 2005 年 11 月, Proceedings of the 26th Japan symposium on thermophysical properties，pp.182-184 7. 八木貴志 竹歳尚之 加藤英幸 馬場哲也、高速レーザーフラッシュ法による薄膜熱拡散率計測シ ステムの開発（1）-厚膜領域における熱拡散率標準の整備-、第 26 回日本熱物性シンポジウム, つ くば, 2005/11, Proceedings of the 26th Japan symposium on thermophysical properties， pp.56-58 8. 池内朗明、八木貴志、加藤英幸、熱浸透率分布測定技術の開発と YBCO 超電導薄膜への応用、 第 26 回日本熱物性シンポジウム、つくば、2005/11/10 9. 松井源蔵、大槻哲也、池内 賢朗、八木 貴志、加藤英幸、局所熱浸透率測定装置の校正技術、第 26 回熱物性シンポジウム、つくば、2005/11/11 10. (その他参考：本研究開発と関連して推進した外部プロジェクトにおける発表等) 武市，西山，山田, EUVL 低膨張材料用光ヘテロダイン干渉式膨張計の性能報告, 秋季応用物理 学会、徳島 11. 武市，西山，山田, EUVL 用低膨張材料における CTE 絶対測定のための光へテロダイン方式熱膨 張計の開発, NGL ワークショップ(日本未来科学館、東京） 12. 武市，西山，山田, Performance of optical heterodyne interferometric dilatometer for determining absolute CTE of EUVL low-thermal-expansion materials, 31th International Conference on Microand Nano-Engineering 2005 @Vienna in Austria(MNE2005) 武市，西山，山田, Reproducibility of the absolute CTE measured values by means of optical 別紙-36 heterodyne interferometric dilatometer for EUVL LTEMs, 4th International Extreme Ultra Violet Lithography（EUVL）Symposium@ San Diego, California, USA 13. 武市，西山，山田, High-precision (<1ppb/℃) optical heterodyne interferometric dilatometer for determining absolute CTE of EUVL materials, SPIE Microlithograpy 2006, San Jose, California, USA (４) その他の発表（プレス発表等） 1. ファインセラミックスセンター、産総研、nanotech 2006 国際ナノテクノロジー総合展・技術 会議（2006 年 3 月, 東京） 別紙-37 平成１８年度 微小要素物理特性 （１） 論文発表 1. K. Ehara, K. Takahata, M. Koike: Absolute Mass and Size Measurement of Monodisperse Particles Using a Modified Millikan’s Method. I: Theoretical Framework of the Electro-Gravitational Aerosol Balance, Aerosol Sci. Technol., 40, 514–520 (2006). 2. K. Ehara, K. Takahata, M. Koike: Absolute Mass and Size Measurement of Monodisperse Particles Using a Modified Millikan’s Method. II: Application of Electro-Gravitational Aerosol Balance to Polystyrene Latex Particles of 100 nm to 1μm in Average Diameter, Aerosol Sci. Technol., 40, 521–535 (2006). 3. Haruhisa Kato, Takeshi Saito, Mami Nabeshima, Kayori Shimada, and Shinichi Kinugasa, “Assessment of diffusion coefficients of general solvents by PFGNMR: Investigation of the sources error”, J. Magnetic Reson, 180(2), 266-273 (2006). （２）特許 なし （３） 口頭発表 招待講演 1. 榎原研正、高畑圭二、櫻井博、佐藤佳宏, ナノ粒子の計測・校正と標準化，エアロゾルシンポジウム， 東工大、2006/11/28. 2. 榎原研正，微粒子の計測と標準－現状と課題，日本粉体工業技術協会計装測定分科会第２６回講 演会，虎ノ門パストラル、2007/01/24 一般講演 1. 榎原研正、櫻井 博、高畑圭二，作業環境における工業ナノ粒子のキャラクタリゼーション －現状と 課題，エアロゾル科学技術研究討論会，福岡大学、2006/08/09. 2. 高畑圭二，榎原研正，30 nm ポリスチレンラテックス粒子の個数平均径，重み付け平均径および最 頻径の比較，第 23 回エアロゾル科学・技術研究討論会，2006/08/10. 3. Keiji Takahata and Kensei Ehara, Accurate Particle Size Measurements for Development of Particle Size Standards in the Range of 30 to 100 nm，7th International Aerosol Conference, 2006/09/11. 4. K. Ehara, H. Sakurai, A. Yabe, K. J. Coakley, Scanning Mode Operation of the Aerosol Particle Mass Analyzer，International Aerosol Conference，St. Paul, MN, USA、2006/09/14 5. 榎原研正、櫻井 博、矢部 明、ケビンコークリー, エアロゾル粒子の質量分級における走査モード 運転での分級特性，日本粉体工学会秋季大会，幕張、2006/11/07. 6. SAKAGUCHI Takayuki、EHARA Kensei, “Development and Uncertainty Evaluation of an Accurate Method for Counting Liquidborne Particles for Establishment of Particle Number Concentration 別紙-38 Standards”, the World Congress on Particle Technology Conference - 5, 2006 年 4 月 25 日 7. SAKAGUCHI Takayuki、EHARA Kensei, “Development and uncertainty evaluation of counting liquidborne particles for establishment of particle number concentration standards ” , Second International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology, 2006 年 5 月 25 日 8. Kayori Shimada, Shinichi Kinugasa, Keiji Takahata, and Kensei Ehara, “Estimation of Precision in Determination of the Size of Fine Particles by Dynamic Light Scattering ”, SMAM-2, 2006/5/25. 9. Haruhisa Kato, Kayori Shimada, Takeshi Saito, Mami Nabeshima, and Shinichi Kinugasa, “Size Determination of Nano-Sphere with hydration layer in aqueous solution by the Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance ”, SMAM-2, 2006/5/25.. 10. 加藤晴久，島田かより，齋藤剛，鍋島真美，衣笠晋一，“PFG-NMR 法を用いた水溶液中におけるナ ノ粒子の高精度粒径計測 ”，第 55 回高分子討論会, 2006/9/21. 11. Kayori Takahashi, Haruhisa Kato, Shigetomo Matsuyama, Takeshi Saito, and Shinichi Kinugasa, “Precise measurement for the size of nano particles by dynamic light scattering”, Symposium on High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing, 2007/2/21. （４）その他の発表 1. 榎原研正，ナノパーティクルテクノロジーハンドブック, 1.4 粒子密度，日刊工業新聞社、2006/04 2. SAKAGUCHI Takayuki、EHARA Kensei, “Development and Uncertainty Evaluation of an Accurate Method for Counting Liquidborne Particles for Establishment of Particle Number Concentration Standards ” , 2006 Spring National Meeting and the World Congress on Particle Technology Conference Proceedings, vol.2, 70du, (2006） 3. 榎原 研正、高畑 圭二、櫻井 博、坂口 孝幸，微粒子計測と標準 －現状と課題，空気清浄，44-1， pp.19-28、2006/05 （５）受賞 1. 榎原研正、エアロゾル粒子の質量・粒径に係る新測定法の開発および PSL 標準粒子の絶対評価法 の確立に関する研究、エアロゾル計測賞、日本エアロゾル学会、2006/08/09. 空孔 （１） 論文発表 1. T. Oka, K. Ito, M. Muramatsu, T Ohdaira, R. Suzuki, Y. Kobayashi, “Porogen approach for the fabrication of plasma-polymerized nanoporous polysiloxane films”, J. Phys. Chem. B, Vol. 110, 20172 (2006). 2. Y. Kobayashi, K. Ito, T. Oka and K. Hirata, “Positronium chemistry in porous materials”, Radiat. Phys. 別紙-39 Chem., Vol. 76, p. 224 (2007). 3. K. Ito, T. Oka, Y. Kobayashi, R. Suzuki and T. Ohdaira, “Variable-energy positron annihilation study of subnanopores in SiOCH-based PECVD films”, Radiat. Phys. Chem., Vol. 76, p. 213 (2007). 4. C. He, R. Suzuki, T. Ohdaira, N. Oshima, A. Kinomura, M. Muramatsu and Y. Kobayashi, “Study of mesoporosu silica films by positron annihilation based on a slow positron beam: effects of preparation conditions on pore size and open porosity”, Chem. Phys., 33/2-3, p. 213 (2007). 5. 大平俊行, “深さ可変・陽電子寿命測定法による原子～ナノ空孔の分析事例”, 電子材料, Vol. 45, No. 6, pp. 69-72 (2006). 6. 伊藤賢志, 于潤升, 佐藤公法, 平田浩一, 小林慶規, 栗原俊一, 「高強度陽電子ビームを利用し たポジトロニウム飛行時間分光法による先端材料ナノ空孔分析」, Photon Factory News, Vol. 24 (3), p. 19 (2006). 特許など なし （２） （３） 口頭発表 「招待講演」 1. Y. Kobayashi, “Application of positron annihilation to the study of defects in dielectric films”, 210th Meeting of The Electrochemical Society, 2006/10/29-11/3, Cancun, Mexico. 2. 伊藤賢志, 「陽電子・ナノ空孔相互作用の定式化と先端材料分析への展開」, 第 49 回放射線化学 討論会, 2006/10/12-14, 高崎シティギャラリー 「一般講演」 1. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, A. Kinomura, T. Ohdaira, R. Suzuki, “Fabrication of nanoporous sol-gel silica films by triblock copolymer templates as candidates for standard samples for positron porosimetry”, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing”, 2007/2/21, Tokyo, Japan. 2. T. Oka, K. Ito, C. He, T. Ohdaira, R. Suzuki, Y. Kobayashi, “Fabrication of Subnanoporous Polysiloxane Films as Candidates for Standard Samples for Positron Porosimetry”, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing”, 2007/2/21, Tokyo, Japan. 3. C. He, T. Oka, Y. Kobayashi, N. Oshima, A. Kinomura, T. Ohdaira and R. Suzuki, “Positronium thermalization in mesoporous films investigated by positronium time-of-flight (PS-TOF) method”, 京 都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子科学とその理工学への応用」, 2006/11/17-18, 京都大 学原子炉実験所 4. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, 大平俊行, 鈴木良一, 小林慶規, 「プラズマ重合ポリシロキサン薄 膜への空孔導入」, 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子科学とその理工学への応用」, 2006/11/17-18, 京都大学原子炉実験所 5. 大平俊行, 村松誠, 鈴木良一, 和泉亮, 「陽電子減速材の研究」, 京都大学原子炉実験所専門研 究会「陽電子科学とその理工学への応用」, 2006/11/17-18, 京都大学原子炉実験所 別紙-40 6. T. Oka, K. Ito, C. He, T. Ohdaira, R. Suzuki, Y. Kobayashi, “Porogen Approach for the Fabrication of Carbon-Containing Nanoporous Silicon Oxide Films”, 210th Meeting of The Electrochemical Society, 2006/10/29-11/3, Cancun, Mexico. 7. 伊藤賢志, 岡 壽崇, 何 春清, 小林慶規, 鈴木良一, 大平俊行, 「低速陽電子消滅による有機シ リカ複合膜でのサブナノ空孔形成の追跡」, 第 49 回放射線化学討論会, 2006/10/12-14, 高崎シテ ィギャラリー 8. 何 春清, 岡 壽崇, 伊藤賢志, 小林慶規, 大島永康, 大平俊行, 鈴木良一, “Positron annihilation study in nanoporous silica films”, 第 49 回放射線化学討論会, 2006/10/12-14, 高崎シティギャラリ ー 9. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, 大平俊行, 鈴木良一, 小林慶規, 「PECVD ポリシロキサン薄膜へ の空孔形成と構造制御」, 第 49 回放射線化学討論会, 2006/10/12-14, 高崎シティギャラリー 10. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, 大平俊行, 鈴木良一, 小林慶規, 「ポロジェン法によるポリシロキ サンプラズマ重合膜への空孔導入」, 第 55 回高分子討論会, 2006/9/20-22, 富山大学 11. 大平俊行, 鈴木良一, 清野豊, 「EB 処理 SiOCH low-k 膜の PALS 分析」、2006 年秋季応用物理学 会, 2006/8/30, 立命館大学 12. K. Ito, T. Oka, Y. Kobayashi, “Nanopore formation in silica PECVD films”, The XIVth International Conference on Positron Annihilation (ICPA-14), 2006/7/23-28, Hamilton, Canada. 13. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, R. Suzuki, “Nanopores in mesoporous silica films as studied by positron annihilation spectroscopy based on a pulsed slow positron beam”, The XIVth International Conference on Positron Annihilation (ICPA-14), 2006/7/23-28, Hamilton, Canada. 14. T. Ohdaira, M. Muramatsu, R. Suzuki, Y. Kobayashi, M. Takanawa, N. Hashimoto, K. Takao, and Y. Kobayashi, "Development of Na-22 based pulsed slow positron beam for depth-selective PALS", The XIVth International Conference on Positron Annihilation (ICPA-14), 2006/7/23-28, Hamilton, Canada. 15. 伊藤賢志, 小林慶規, 「陽電子消滅寿命測定用標準物質の開発」, 第 43 回アイソトープ・放射線究 発表会, 2006/7/6, 日本青年館, 東京 16. T. Oka, K. Ito, M. Muramatsu, T. Ohdaira, R. Suzuki, Y. Kobayashi, “Control of the subnanopore size of plasma-polymerized HMDSO/cyclohexane porous films”, Second International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology (SMAM-2), 2006/5/25-26, Tokyo, Japan. 17. T. Ohdaira, M. Muramatsu, R. Suzuki, “Positron moderator for depth-selective PALS system”, Second International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology (SMAM-2), 2006/5/25-26, Tokyo, Japan. （４） 1. その他の発表 大平俊行, 「薄膜対応・ナノ空孔計測装置」, 2007 年つくばテクノロジーショーケース 2007/1/30, つくば国際会議場 （５） 受賞 1. 伊藤賢志, 平成１７年度日本放射線化学会 奨励賞 「陽電子・ナノ空孔相互作用の定式化と先端 材料分析への展開」 2006/10/13 別紙-41 表面 （１）論文発表 なし （２）特許 なし （３） 口頭発表 1. M. Imamura, N. Matsubayashi, “Refining and Calibration for depth profiling analysis at nano scale II. Experimental Determination of Electron Effective Attenuation Length in Al in Low Kinetic Energy Region ”, Second International Symposium on Standard Materials and Metrology for Nanotechnology ， Tokyo, 2006/5/25 2. M. Imamura, N. Matsubayashi, “Experimental Determination of the Effective Attenuation Lengths of Photoelectrons in Au of Au/SiO2/Si thin films”, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing”，Tokyo, 2007/2/21 3. N. Matsubayashi, M. Imamura, F. Jiangwei, I. Kojima, “Study of Quantitative Analysis Technique for Thin Films Using XAS”, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing”， Tokyo, 2007/2/21 4. 松林 信行, 今村 元泰, Fan Jiangwei, 小島 勇夫,「放射光を用いた透過 X 線吸収端測定による元 素別定量分析法の研究」、日本分析化学会第 55 年会, 大阪, 2006/9/20 5. 福本 夏生、城 昌利、ティティ レイ、新 重光、松林 信行, 「ＷＥＢベースアプリケーション環境上 での電子分光標準スペクトルデータベースの開発」, ２００６年度 実用表面分析講演会, 宇都宮, 2006/10/18 6. 城 昌利、 「XPS・AES のピークに無関係なバックグラウンド成分の推定」, ２００６年度 実用表面分 析講演会, 宇都宮, 2006/10/18 7. Natsuo FUKUMOTO, Shigemitsu SHIN, Masatoshi JO and ThiThi Lay, “Development of a Photoelectron Spectra Database for Characterization of Nano-materials”, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing” ，Tokyo, 2007/2/21 8. Masatoshi JO, An Inelastic Background Subtraction Method for Electron Spectroscopies, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing” ，Tokyo, 2007/2/21 （４）その他発表 1. N. Matsubayashi, M. Imamura, F. Jiangwei, I. Kojima, “Study on Quantitative Analysis Technique for thin films using XAS ”, Photon Factory Activity Report Part B, 23, 41, 別紙-42 (2006), 2006/12 熱物性 (１)論文発表 1. 平成 18 年度標準化調査委託事業「ナノ計測基盤プロジェクト成果の標準化に関する調査」報告書 2. (その他参考：本研究開発と関連して推進した外部プロジェクトにおける発表等) 武市，西山，山田, Performance of dilatometer for determining absolute CTE of EUVL LTEMs, Miciroelectronic Engineering 83(4-9) 2006,p1617-1620. (２) 特許 1. 米国特許出願特許査定、出願番号 10/424933「高速パルス高速時間応答測定方法並びに装置」 2. 熱物性値測定用試料表面処理方法および熱物性測定方法、阿子島めぐみ、根田雅美、馬場哲也、 特願 2006-159100、2006/06/07 （３）口頭発表 1. M. Ogawa, M. Akoshima, T. Baba, Development of a candidate coating reference material for thermal diffusivity Measurement using differential laser flash method, SMAM-2 (the 2nd international symposium focused on standard materials and metrology used in nanotechnology), 東 京 , 2006/05/26 2. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、コーティング膜の熱物性評価用標準試料の開発、(財)ファインセ ラミックスセンター研究発表会、東京・名古屋、2006/7/5・2006/7/25 3. 小川光恵、向井一夫、水野峰男、阿子島、馬場哲也、多孔質ジルコニアをコーティングした熱物性 標準物質の開発、日本セラミックス協会第 19 回秋季シンポジウム、山梨、2006/9/20 4. 阿子島めぐみ、根田雅美、小川光恵、馬場哲也、加藤英幸，示差方式レーザフラッシュ法によるコ ーティング材料の熱拡散率測定，第 27 回日本熱物性シンポジウム，京都，2006/10/9 5. 小川光恵、向井一夫、水野峰男，熱物性に関する標準物質の開発，第 27 回日本熱物性シンポジウ ム，京都，2006/10/7 6. M. Akoshima, M. Ogawa, K. Hata, F. Don, K. Mizuno, T. Baba, M. Yumura, Thermal diffusivity measurement of the coatings and the carbon nanotubes, 第 5 回ナノテクノロジー総合シンポジウ ム，東京，2007/01/20 7. T. Yagi, F. Nakamura, N. Taketoshi and T. Baba, Thermal diffusivity measurement of thin films using Femto, Pico and Nanosecond thermoreflectance technique, Symposium on “High-Precision Nano-Metrology for Nano-Manufacturing”, Odaiba, Tokyo, 2007/2 8. 中村文滋、八木貴志、竹歳尚之、加藤英幸、馬場哲也、フェムト秒パルスレーザを用いた薄膜熱物 性計測システムの開発(2) 、第 27 回日本熱物性シンポジウム, 京都大学, 2006 年 10 月 , Proceedings of the 27th Japan symposium on thermophysical properties，pp.48-50 別紙-43 9. 八木貴志、中村文滋 竹歳尚之、加藤英幸、馬場哲也、高速レーザーフラッシュ法による薄膜熱拡 散率計測システムの開発(2)、第 27 回日本熱物性シンポジウム, 京都大学, 2006 年 10 月, Proceedings of the 27th Japan symposium on thermophysical properties，pp.45-47 10. 池内朗明、加藤英幸、伝熱シミュレーションに基づいた局所加熱局所検出計熱物性測定装置の評 価、第 27 回日本熱物性シンポジウム，京都，2006/10/8 11. N. Yamada, H. Kato and T. Baba, Development of a measurement apparatus for thermal expansion coefficient of solid materials around room temperature, Sixteenth Symposium on Thermophysical Properties, Boulder, Colorado, 2006/8 12. T. Yagi, F. Nakamura, N. Taketoshi and T. Baba, Development of a high speed laser flash method using a sub-nanosecond thermoreflectance technique, Sixteenth Symposium on Thermophysical Properties, Boulder, Colorado, 2006/8 13. S. Ikeuchi, T. Yagi, N. Taketoshi and T. Baba, Finite element simulation for thermal effusivity measurements in a local area by thermal microscope, Sixteenth Symposium on Thermophysical Properties, Boulder, Colorado, 2006/8 (４) その他の公表（プレス発表等） 1. ファインセラミックスセンター、産総研、nanotech 2007 国際ナノテクノロジー総合展・技術 会議（2007 年 3 月, 東京） 別紙-44 平成１９年度 微小要素物理特性 （１）論文発表 1. Kayori Shimada, Shinichi Kinugasa, Keiji Takahata, and Kensei Ehara, “Estimation of Precision in Determination of the Size of Fine Particles by Dynamic Light Scattering”, SMAM-2 Proceedings, 109-110 (2007). 2. Kayori Takahashi, Haruhisa Kato, Shigetomo Matsuyama, Takeshi Saito, and Shinichi Kinugasa, Precise Measurement for the Size of Nanoparticles by Dynamic Light Scattering Techniques, Particle & Particle Systems Characterization, (2007) accepted. (２)特許 なし （３）口頭発表 招待講演 1. K. Ehara, Measurement of Mass Distribution of Aerosol Particles; Applications to Nanoparticle Characterization, IEEE Nano-2007，Taipei, Taiwan、2007/08/04 2. Keiji Takahata, Development of Traceable Particle Size Standards in NMIJ/AIST, 2007 APEC Nanoscale Measurement Technology Fourm, 2007/09/06. 一般講演 1. 田島奈穂子、榎原研正、櫻井 博、福嶋信彦, Kevin J. Coakley,エアロゾル粒子質量分析装置の実 用化，第 25 回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会，東京、2007/04/12. 2. 榎原研正、櫻井 博、矢部明、田島奈穂子、ケビンコークリー, エアロゾル粒子質量分析器による粒 子質量測定の不確かさ解析，エアロゾル科学技術研究討論会，国立保健医療科学院（和光市）、 2007/08/09. 3. 高畑圭二，榎原研正，上下反転可能なミリカンセルの開発，第 24 回エアロゾル科学・技術研究討論 会，2007/08/10. 4. Keiji Takahata and Kensei Ehara, ABSOLUTE SIZE MEASUREMENT OF NIST SRM 1963 BY THE ELECTRO-GRAVITATIONAL AEROSOL BALANCE: INVESTIGATION ON THE INFLUENCE OF STAIN ON THE MILLIKAN-TYPE PLATE ELECTRODE，5th Asian Aerosol Conference， 2007/08/27. 5. Keiji Takahata and Kensei Ehara, Influence of the stains on the Millikan-type plate electrodes in the absolute size measurement of particle size standards by the electro-gravitational aerosol balance， European Aerosol Conference 2007，2007/09/11. 6. K. Ehara1, H. Sakurai, A. Yabe, N. Tajima, and K. J. Coakley, Analysis of uncertainty in particle mass 別紙-45 measurement using an aerosol particle mass analyzer, European Aerosol Conference 2007, Salzburg， 2007/09/14. 7. 高橋かより、松山重倫，齋藤剛,衣笠晋一，”動的光散乱法によるポリスチレンラテックス粒子の溶液 物性計測”， 高分子学会年次大会, 007/5/29. 8. Haruhisa Kato, Kayori Takahashi, Takeshi Saito, Mie Suzuki, Shigetomo Matsuyama, and Shinchi Kinugasa, “Size Determination of Nano-Sphere by Field-Flow Fractionation and Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance”, 13th International Symposium on Field- and Flow- based Separations (FFF 2007), 2007/6/28. 9. Kayori Takahashi, Haruhisa Kato, Shigetomo Matsuyama, Takeshi Saito, and Shinichi Kinugasa, “Precise Measurement for the Size of Nanoparticles by Dynamic Light Scattering Techniques”, 8th International Congress on Optical Particle Characterization, 2007/7/9. 10. 加藤晴久，高橋かより，齋藤剛，鈴木美絵，松山重倫，衣笠晋一，“FFF 法と PFG-NMR 法による水 溶液中ナノ粒子の高精度粒径・粒径分布計測”， 第 56 回高分子討論会，2007/9/20. 11. Haruhisa Kato, Kayori Takahashi, Takeshi Saito, Mie Suzuki, Shigetomo Matsuyama, and Shinchi Kinugasa, “Precise Size Determination of Nano-Sphere by Field-Flow Fractionation and Pulsed Field Gradient Nuclear Magnetic Resonance”, BERM11, 2007/10/30. 12. 加藤晴久，高橋かより，齋藤剛，衣笠晋一，“PFG-NMR 法を用いた液中分散粒子のサイズ計測”， ナノ学会第 6 回大会 ，2008/05/08. （４）その他発表 1. 榎原研正, Nanoparticle Technology Handbook，1. 4 Particle density，Elsevier、2007/11 2. 榎原研正, ナノカーボンハンドブック, 工業ナノ粒子の気中測定技術の現状と課題，(株)エヌ・ティ ー・エス、2007/07 3. 高畑圭二，粒径標準－単分散球形標準粒子の粒径値づけ技術－，計測標準と計量管理，57-4， pp.25-30，2008/02 （５）受賞 1. 榎原研正、気体中浮遊粒子の質量分析法の研究、文部科学大臣表彰 科学技術賞（研究部門）、 2007/04/17. 2. 田島奈穂子、榎原研正、櫻井博、福嶋信彦, Kevin J. Coakley, エアロゾル粒子質量分析装置の実 用化，空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会会長賞、日本空気清浄協会、2008/04/05. 別紙-46 空孔の計測基盤 （１） 論文発表 1. C. He, M. Muramatsu, T. Ohdaira, A. Kinomura, R. Suzuki, Y. Kobayashi, “Tunable pores in mesoporous silica films studied using a pulsed slow positron beam”, Radiation Physics and Chemistry, 76/2, p. 204 (2007). 2. C. He, T. Oka, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, R. Suzuki. “Positron annihilation and pore surface chemsitry in mesoporous silica films” Appl. Phys. Lett, Vol. 91, 024102 (2007). 3. C. He, T. Ohdaira, N. Oshima, M. Muramatsu, A. Kinomura, R. Suzuki, T. Oka, Y. Kobayashi, “Evidence for pore surface dependent positronium thermalization in mesoporous silica/hybrid silica films”, Phys. Rev. B, Vol. 75, 195404 (2007). 4. T. Ohdaira, M. Muramatsu, R. Suzuki, Y. Kobayashi, M. Takanawa, Y. Kobayashi, “Development of a Na-22 based pulsed slow positron beam for depth-selective PALS”, Physica Status Solidi C, Vol. 4, No. 10, p. 4020 (2007). （２） 特許など 出願 (国内) 1. 2. 薄膜の物性評価方法および評価装置, 伊藤賢志, 小林慶規, 岡壽崇, 特願 2007-206667, 2007/8/8 光学的測定室, 伊藤賢志, 小林慶規, 駒場勝浩, 特願 2007-206125, 2007/8/8 公開 (国内) 3. シリカ薄膜及びその製造方法, 伊藤賢志, 小林慶規, 岡壽崇, 鈴木良一, 大平俊行, 特開 2007-266462, 2007/10/11 （３） 口頭発表 「招待講演」 1. Y. Kobayashi, “Application of Positron Beams to the Study of Positronium-forming Solids”, The eleventh international workshop on Slow Positron Beam Techniques for Solids and Surfaces (SLOPOS-11), 2007/7/9-13, Orleans, France. 2. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, R. Suzuki, “Positronium behaviors in mesoporous films: on the roles of pore architecture and pore surface chemistry”, The 37th Polish Seminar on Positron Annihilation, 2007/09/03-07, Lądek Zdrój, Poland. 3. K. Ito, “Positron hole size measurements for functional materials and its standardization”, The 37th Polish Seminar on Positron Annihilation, 2007/09/03-07, Lądek Zdrój, Poland. 4. 伊藤賢志, 「陽電子ナノ空孔プローブ法の標準化への取り組み」, 第 44 回アイソトープ・放射線研究 発表会, 2007/7/4-6, 日本青年館, 東京 別紙-47 5. 小林慶規、「ポジトロニウム化学及びその高分子分析への応用に関する研究」, 第 50 回放射線化学 討論会, 2007/10/10-12, 京都大学 「一般講演」 1. 小林慶規, 伊藤賢志, 岡 壽崇, 榊 浩司, 白井泰治, 誉田義英, 島津 彰, 藤浪眞紀, 平出哲也, 斉藤晴雄, 上殿明良, 永井康介, 佐藤公法, 細見博之, 「石英ガラスとポリカーボネートの陽電子 寿命比較測定」, 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子科学とその理工学への応用」, 2007/11/16-17, 京都大学原子炉実験所 2. 何 春清, 岡 壽崇, 伊藤賢志, 小林慶規, 大島永康, 木野村淳, 大平俊行, 鈴木良一, “Pore Surface chemistry dependent Ps thermalization and annihilation in mesoporous silica films”, 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子科学とその理工学への応用」, 2007/11/16-17, 京都大学原子炉実験所 3. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, デュトリー・セドリック, 横山英明, 小林慶規, 「超臨界二酸化炭素 処理ポリスチレンの自由体積の緩和」, 京都大学原子炉実験所専門研究会「陽電子科学とその理工 学への応用」, 2007/11/16-17, 京都大学原子炉実験所 4. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, and R. Suzuki, “Effect of Pore Surface Chemistry on Positronium Emission and Annihilation in Mesoporous Silica Films”, International symposium on “Charged Particle and Photon Interactions with Matter” (ASR2007), 2007/11/6-9, Ibaraki, Japan. 5. K. Ito, T. Oka, Y. Kobayashi, R. Suzuki and T. Ohdaira, “Nanopore characterization for PECVD films by variable-energy positron annihilation”, International symposium on “Charged Particle and Photon Interactions with Matter” (ASR2007), 2007/11/6-9, Ibaraki, Japan. 6. T. Oka, K. Ito, C. He, C. Dutriez, H. Yokoyama, Y. Kobayashi, “Relaxation Of Free Volume In Supercritical Carbon Dioxide Treated Polystyrene”, International symposium on “Charged Particle and Photon Interactions with Matter” (ASR2007), 2007/11/6-9, Ibaraki, Japan. 7. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, R. Suzuki, “Positronium emission and annhilation in mesorpous silica films: Effect of pore surface chemistry”, 第 50 回放射線 化学討論会, 2007/10/10-12, 京都大学 8. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, デュトリー・セドリック, 横山英明, 小林慶規, 「超臨界 CO2 処理ポリ スチレンの自由体積の緩和」, 第 50 回放射線化学討論会, 2007/10/10-12, 京都大学 9. 伊藤賢志, 岡壽崇, 小林慶規, 鈴木良一, 大平俊行, 「TEOS 系有機複合プラズマ重合膜のナノ空 孔形成と形状制御」, 第 50 回放射線化学討論会, 2007/10/10-12, 京都大学 10. 岡 壽崇, 「高分子のサブナノ空孔と自由体積に関する研究」, 産業技術総合研究所 計測フロンテ ィア研究部門 第 11 回公開セミナー「陽電子ビーム利用材料評価研究の新展開」, 2007/10/5, 産業 技術総合研究所 11. 岡 壽崇, 伊藤賢志, 何 春清, デュトリー・セドリック, 横山英明, 小林慶規, 「陽電子消滅寿命測 定 に よ る 超 臨 界 CO2 処 理 ポ リ ス チ レ ン の 自 由 体 積 の 緩 和 測 定 」 , 第 56 回 高 分 子 討 論 会 , 2007/9/19-21, 名古屋工業大学 12. C. He, T. Oka, K. Ito, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, R. Suzuki, “Positronium emission from and annihilation in mesoporous films”, The eleventh international workshop on Slow Positron Beam Techniques for Solids and Surfaces (SLOPOS-11), 2007/7/9-13, Orleans, France. 別紙-48 13. T. Oka, K. Ito, C. He, C. Dutriez, H. Yokoyama, Y. Kobayashi, “Expansion and Relaxation of Free Volumes in Supercritical Carbon Dioxide Treated polymers”, 37th Polish Seminar on Positron Annihilation, 2007/9/3-7, Lądek Zdrój, Poland. 14. 何 春清, 岡 壽崇, 伊藤賢志, 小林慶規, 大平俊行, 鈴木良一, 「メソポーラスシリカ薄膜の空孔 中オルトポジトロニウム寿命は空孔表面の化学構造に依存するか？」, 第 44 回アイソトープ・放射線 研究発表会, 2007/7/4-6, 日本青年館, 東京 （４） その他の発表 1. 「陽電子ビーム・ナノ空孔計測装置」2007 分析展, 2007/8/29-31, 幕張メッセ 2. 「空孔の計測基盤 先端ナノ空孔分析：陽電子ビームによる高信頼性普及型技術の開発」, nano tech 2008 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議, 2008/2/13-15, 東京ビックサイト 3. 伊藤賢志,「陽電子寿命法による高感度ナノ空孔構造解析」, 多孔体の精密制御と機能・物性評価, pp. 220-228, サイエンス＆テクノロジー (株), 2008/3/14 （５） 受賞 1. 小林慶規, 平成１８年度日本放射線化学会賞「ポジトロニウム化学及びその高分子分析への応用に 関する研究」 2007/10/11 表面 （１）論文発表 なし （２）特許 なし （1）口頭発表 1. N. Matsubayashi, M. Imamura, F. Jiangwei, Lay Thi Thi, I. Kojima, “Study on quantitative analysis for Au thin films using XAS”, 4th International Symposium on Practical Surface Analysis， Kanazawa, 2007/11/26 2. N. Matsubayashi, M. Imamura, F. Jiangwei, I. Kojima, Lay Thi Thi, “Quantitative analysis for thin films by x-ray absorption spectroscopy using synchrotron radiation”, 12th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Brussels, 2007/9/11 別紙-49 3. Lay Thi Thi, N. Fukumoto, M. Jo, M. Imamura, N. Matsubayashi, I. Kojima, “Study on surface properties of transition metal carbides by X-ray Photoelectron Spectroscopy”, 12th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Brussels, 2007/9/13 4. M. Jo, “Simultaneous separation of no loss, inelastic background and other parts of XPS and AES using background optimization”, 12th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis，Brussels, 2007/9/13 5. M. Jo, “A background subtraction program for photo- and Auger electron spectra”, 4th International Symposium on Practical Surface Analysis，Kanazawa, 2007/11/26 6. 城昌利, 「AES, XPS 共用のバックグラウンド処理プログラム（依頼講演）」, 第 31 回表面分析研究 会, 宇都宮, 2008/3/7 7. 今村 元泰, 松林 信行, Lay Thi Thi, Fan Jiangwei, 小島 勇夫,「放射光励起光電子分光法による SiO2 の有効減衰長測定 」、第 21 回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム, 草 津, 2008/1/13 8. 今村 元泰, 松林 信行, Lay Thi Thi, Fan Jiangwei, 小島 勇夫,「シリコン酸化膜中での光電子の 有効減衰長測定」, 第２５回 PF シンポジウム, つくば, 2008/3/19 9. Lay Thi Thi,今村 元泰, 松林 信行, 城昌利, 小島 勇夫,「Analysis of Surface and Interfacial Reactions in Ultra-thin Al2O3/SiO2/Si films by SR XPS 」, 第２５回 PF シンポジウム, つく ば, 2008/3/19 （４）その他発表 1. N. Matsubayashi, M. Imamura, F. Jiangwei, I. Kojima, “Study on quantitative analysis for Au thin films using XAS ”, Photon Factory Activity Report Part B, 24, 17, (2007), 2008/2 熱物性 (１) 論文発表 1. M. Akoshima, M. Ogawa, M. Neda, T. Baba, Evaluation of thermophysical properties for two-layer materials using the differential laser flash method, the 8th Asia Thermophysical Properties Conference, submitted to International journal of Thermophysics (2007). 2. 小川光恵，イットリア安定化ジルコニアの高温安定性，熱物性 21, 8-13(2007) 別紙-50 3. Mitsue OGAWA、High temperature stability in yttria-stabilized zirconia, Heat Transfer- Asian Research、37, 57-67 (2008). (２) 特許等 なし (３) 口頭研究 1. 小川光恵、小川秋水、向井一夫、水野峰男、阿子島めぐみ、馬場哲也、多層材料の熱物性評価用 標準物質の開発、(財)ファインセラミックスセンター研究発表会、名古屋、2007/7/11 2. M. Akoshima, M. Ogawa, M. Neda, T. Baba, Evaluation of thermophysical properties for two-layer materials using the differential laser flash method, the 8th Asia Thermophysical Properties Conference, 福岡, 2007/08/24 3. 小川光恵、イットリア安定化ジルコニアの高温安定性、日本セラミックス協会第 20 回秋季シンポジウ ム、名古屋、2007/9/13 4. 小川光恵、小川秋水、阿子島めぐみ、水野峰男、馬場哲也，セラミックスを用いた 2 層材料の熱物性 評価用標準物質の開発，第 28 回日本熱物性シンポジウム, 札幌 2007/10/24 5. 小川光恵、阿子島めぐみ、水野峰男、馬場哲也，プラズマ溶射による 2 層材料の熱物性評価用標準 物質の開発，第 28 回日本熱物性シンポジウム, 札幌 2007/10/24 6. T. Yagi, N. Taketoshi, H. Kato, T.Baba, Development of thin film reference material for thermal diffusivity, Proceedings of the 29th International Thermal Conductivity Conference, Birmingham, Alabalma, 2007/6 7. N. Taketoshi, T. Yagi, T.Baba, Establishment of the thermal diffusivity standard of thin films by ultra fast laser flash methods in Japan, Proceedings of the 29th International Thermal Conductivity Conference, Birmingham, Alabalma, 2007/6 8. F. Nakamura, T. Yagi, N. Taketoshi, H. Kato, T. Baba, Development of Thermoreflectance Measurement System with Sub-Micrometer Spatial Resolution Using a Femtosecond Thermoreflectance Technique, Proceedings of the 8th Asian Thermophysical Properties Conference, p.226, Fukuoka, Japan, 2007/8 9. N. Taketoshi, T. Yagi, T. Baba, Establishment of the Thermal Diffusivity Standard of Thin Films by Light Pulse Heating Thermoreflectance Methods in Japan, Proceedings of the 8th Asian Thermophysical Properties Conference, p.232, Fukuoka, Japan, 2007/8 10. T. Yagi, N. Taketoshi, H. Kato, T.Baba, Study of Thermophysical Properties for TiN Thin Films in Terms of Development of Thin Film Reference Material for Thermal Diffusivity, Proceedings of the 8th Asian Thermophysical Properties Conference, p.237, Fukuoka, Japan, 2007/8 11. 八木貴志 竹歳尚之 加藤英幸 馬場哲也、高速レーザーフラッシュ法による薄膜熱拡散率計測シ ステムの開発（3）薄膜標準物質の開発、第 28 回日本熱物性シンポジウム, 札幌, 2007 年 10 月, Proceedings of the 26th Japan symposium on thermophysical properties，pp.160-162 (4) その他の発表（プレス発表等） 1. ファインセラミックスセンター、産総研、nanotech 2008 国際ナノテクノロジー総合展・技術 会議（2008 年 3 月, 東京） 別紙-51 平成２０年度 空孔 （１）論文発表 1. K. Ito, T. Oka, Y. Kobayashi, Y. Shirai, K. Wada, M. Matsumoto, M. Fujinami, T. Hirade, H. Hosomi, Y. Nagai, K. Inoue, H. Saito, K. Sakaki, K. Sato, A. Shimazu, and A. Uedono, “Interlaboratory comparison of positron annihilation lifetime measurements for synthetic fused silica and polycarbonate”, J. Appl. Phys., accepted. 2. Y. Kobayashi, K. Ito, T. Oka, C. He, H. F. M. Mohamed, R. Suzuki, and T. Ohdaira, “Application of positron beams to the study of positronium-forming solids”, Appl. Surf. Sci., in press. 3. Chunqing He, T. Oka, Y. Kobayashi, N. Oshima, T. Ohdaira, A. Kinomura, and R. Suzuki, “Evolution of pores in mesoporous silica films: porogen loading effect”, Appl. Surf. Sci., in press. （２）特許 なし （３）口頭発表 1. K. Ito, T. Oka, Y Kobayashi, Y. Shirai, K. Wada, M. Matsumoto, M. Fujinami, T. Hirade, Y. Honda, H. Hosomi, Y. Nagai, K. Inoue, H. Saito, K. Sakaki, K. Sato, A. Shimazu, and A. Uedono, “Interlaboraotry comparison of positron annihilation lifetime measurements”, 9th International Workshop on Positron and Postironium Chemistry, 2008/5/15, Wuhan, China. 表面 （１）論文発表 1. M. Jo, “A background subtraction program for photo- and Auger electron spectra”, J. Surf. Anal., to be published （３）口頭発表 1. 福本 夏生・新 重光・LAY ThiThi・城 昌利：「電子分光標準スペクトルデータベースの 開発」,第 69 回分析化学討論会 2008.5.16 名古屋 熱物性 （１）論文発表 1. 阿子島めぐみ、小川光惠、馬場哲也、水野峰男 「レーザフラッシュ法によるセラミックス２層試料の熱拡散率測定」 高温学会誌 9 月号 (2008) 掲載予定 別紙-52