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MEMS トータルソリューション のご紹介

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MEMS トータルソリューション のご紹介
MEMS
トータルソリューション
のご紹介
∼お客様のニーズ・ご予算に応じた、
最適なMEMS開発ソリューション
のご提案∼
MEMSの現状
●半導体
■研究・開発者にとっては…
■センサー・パワーデバイス・実装関係・NIL、etc.
→関連する技術が多岐にわたり
●光学デバイス
開発環境(設備・ノウハウ)が満足に整備されていない
■光リレースイッチ・マイクロレンズアレイ・3D加工、etc.
●医療・バイオ
■μTAS・ラボ・オン・ア・チップ、etc.
●燃料電池
■経営者にとっては…
→市場動向が見えないため思い切った設備投資が難しい
将来有望な分野への応用が期待される技術である!
といった問題点を抱えている
がしかし・・・
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成膜・微細パターン・MEMS・マイクロチップ
トータル受託加工サービス
受託加工のパイオニアとして長年培ったノウハウを活かし
お客様へ最適な加工サービスを提供致します!
プロセスフロー
プロセスフロー
基板入手
基板入手
・Siウエハ
・Siウエハ
・ガラス
薄膜加工
・ガラス
薄膜加工
・etc
・スパッタリング ・メッキ
・etc
・スパッタリング ・メッキ
・蒸着 (ダマシン&実装)
Si深掘り加工例
・蒸着 (ダマシン&実装)
・熱酸化 ・CMP研磨
・熱酸化 ・CMP研磨
・CVD
・CVD
フォトマスク作製
フォトマスク作製
Si金型/樹脂チップ加工例(ホットエンボス法)
・CAD作成
・CAD作成
・3Dグレースケールマスク
・3Dグレースケールマスク フォトリソプロセス
フォトリソプロセス
・コンタクト露光
・コンタクト露光
・i線/g線/KrF/ArFステッパー露光
・i線/g線/KrF/ArFステッパー露光
マイクロチップ加工例
・3Dパターン加工
・3Dパターン加工 エッチングプロセス
エッチングプロセス
Siウエハ
・RIEエッチング
・RIEエッチング
・ICPエッチング(Si/石英深堀り加工)
グレースケールマスク
・ICPエッチング(Si/石英深堀り加工)
マイクロレンズアレイ加工例
・ウエットエッチング
・ウエットエッチング
その他
その他
・ナノインプリント加工
・ナノインプリント加工
・ガラス貼り合わせ
・ガラス貼り合わせ
・ダイシング加工
・ダイシング加工
・穴あけ加工
・穴あけ加工
・熱処理 etc
・熱処理 etc
ArFパターン(100nm)加工例
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協同インターナショナルの
MEMSファウンドリーサービスの特徴
特徴1.試作∼中量生産対応
■永年培った受託加工のノウハウを活かして、お客様のご要望に
お応えする、最適なサービスをご提供します。
特徴2.量産対応
■スウェーデンSilex社との提携によりMEMS量産にも対応。
MEMS専用φ6“フルライン工場(処理能力:10万枚以上/年)
特徴3.MEMSツールおよび周辺機器のご提案
■MEMS製品に関係するMEMSツールやMEMS周辺機器
もご要望内容に応じて提案します。
試作から量産まで
“一貫したMEMSファウンドリーサービス“
をご提供!
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特徴1:ファウンドリーサービス例
■ナノインプリント:微細モールド&成型
■微細モールド作製(材質Si、Ni、石英etc.)∼
樹脂成型まで一貫したサービスを展開!
■微細モールドはナノ∼マイクロオーダーまで
提供可能。基礎評価に適した標準モールドも準備
しております!
ナノインプリント加工例
Si金型/ピラー状樹脂チップ
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当社モールドの特長
独自のICPドライエッチングプロセス
(非ボッシュプロセス)により
微細モールドに適した表面平滑な深堀り加工を実現
■石英(∼100μm)
■Si(∼300μm)
Si深堀り(ICP)加工例
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モールド作製①:Siモールド
モールド作製
①:Siモールド
フォトマスク作成
露光
半導体フォトリソ技術を使用した、Siモールド作製
半導体フォトリソ技術を使用し
た、Siモールド作製
エッチング(RIE、ICP)
ウェットエッチ
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モールド作製②:Ni電鋳
モールド作製
②:Ni電鋳
Ni電鋳品
Ni
電鋳品
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モールド作製③:
モールド作製
③:
ダイヤモンドモールド
名称:ダイヤモンドモールド(PAT・P)
名称:ダイヤモンドモールド(PAT・P)
用途:ガラスインプリント用モールド
用途:ガラスインプリント用モールド
特徴:①テンパックス・パイレックスなど、
耐熱ガラスの
特徴:①テンパックス・パイレックスなど、耐熱ガラスの
インプリントが可能
インプリントが可能
②微細加工が可能
②微細加工が可能
③硬度が高く、耐久性・耐熱性・離型性に優れている
③硬度が高く、耐久性・耐熱性・離型性に優れている
独自新技術
独自新技術
ダイヤモンドモールド
の写真
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「お試しモールド」
標準モールド「
お試しモールド」
ニーズに応じて
最適なパターンを選択可能
①1∼50µm (材料:Si)
②0.5∼2µm (材料:Si)
③100∼250nm(材料:Ni)
実験用モールドを安価に提供
実験用モールドを安価
に提供
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インプリント加工:プロセス①
インプリント加工:
プロセス①
モールド・基板材料の選定
モールド材質
基板材質
Si
Ni
W
PMMA
COC
PDMS
石英
etc.
ガラス
フィルム
etc.
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インプリント例①:樹脂
インプリント例①
:樹脂
Siモールド
Siモールド
インプリント
COC樹脂
COC樹脂
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インプリント例②:ガラス
インプリント例②
:ガラス
ダイヤモンドモー
ルド
ダイヤモンド
モールド
インプリント
ガラス
ガラス
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様々なパターンに対応いたします。
ご相談ください!
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特徴2:MEMS量産ファウンドリー
スウェーデンSilex社との提携により
高品質・高性能のMEMS量産サービスを
ご提供します!
■生産設備
→MEMS専用のφ6“フルライン工場(処理能力:10万枚以上/年)
■製品群および特徴
→MEMS製品全般に対して対応可能。
→特に実装用VIAウェハに関しては、独自技術『Si一体型構造』により、
高性能・高信頼性を実現!
arrays of micro
arrays of micro
mirrors
mirrors
silicon-VIA wafer
silicon-VIA wafer
cantilevers&beams
cantilevers&beams
micro needles
micro needles
Lab-on-a-chip
Lab-on-a-chip
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■Silexの“Si一体型構造VIAウェハ”
Silex Silicon VIA Substrate Wafers
Via pitch down to
50 µ m
Wafer thickness from
300 to 600 µ m
Distribution network
(fan out)
Isolation dielectric resistance
>10 MΩ
Flip-chip
bumping
Low resistivity via
connection
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特徴3:MEMSツール
■品名:Silicetウエハホルダ
■特徴:ウェットプロセス時に基板裏面を簡単に保護でき、
煩わしい手間から解放されます!
■適用:ウェットプロセス:エッチング・めっき・LIGA
<BASICタイプ>
<PLUSタイプ>
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特徴3:MEMSツール
■品名:POLOSマルチスピンプロセッサ
■特徴:
•1台でコーティング・エッチング・洗浄・乾燥までできるマルチスピンプロセッサ
•オール樹脂ボディによるメンテナンス性向上
•使用目的により、卓上タイプ/装置組み込みタイプ、マニュアル/オート操作
タイプを準備
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特徴3:MEMSツール
■品名:MEMS用UV露光装置
■特徴:
•マニュアル∼セミ/フルオートマチック、両面露光対応機までの豊富な ラインナップ! •コンパクトでリーズナブル。MEMSの研究開発には大変便利なツールです。
・更にオプションを追加することで「マイクロ流体チップの製造」「UVナノインプリ
ント」が可能な装置へアップグレードさせることができます。
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まとめ
協同インターナショナルはMEMSファウンドリーサービスで
少しでも皆様のお役に立てるよう日々努力してまいります。
お困りのことがございましたら是非ご相談下さい。
“かゆいところに手が届く”
“かゆいところに手が届く”
協同インターナショナルの
協同インターナショナルの
MEMSファウンドリーサービス
MEMSファウンドリーサービス
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