製品カタログ2014-2015

国産プラズマ装置メーカー
2014製品カタログ
エレクトロニクス
【半導体】
ワイヤーボンディングの接着強化
コンデンサーのコーティング前処理
LSIの洗浄・表面改質
LEDの接着強化
ウエハーの洗浄・接着強化
有機物のエッチング
金属表面のDLC膜を除去
【光学関連】
カメラレンズの洗浄
コンタクトレンズの親水性向上
電子顕微鏡など分析測定前の洗浄
光ファイバーの親水処理
【ディスプレイ】
液晶パネル貼り合せ強度向上
タッチパネルや多層フィルムの接着力を強化
有機ELや太陽電池など薄膜形成のムラを防止
【マテリアル】
PDMS/ガラスの接着前処理
マイクロ流路などの微細溝の親水性向上
ポリマー包装材の表面改質
プリンターヘッドの洗浄
電線チューブなどのコーティング力を強化
【自動車】
自動車エンジン部品に付着する有機物の除去
自動車外装品・複合材料の表面改質
-1-
表面加工
【粉体の表面改質】
炭素粉体を使った材料開発の表面改質
ダイヤモンド粉体の表面改質
フィラーやスラリーに用いる粉体の表面改質
水溶性インクを生成する粉体の親水処理
廃材を利用した粉体の表面改質
リチウムイオン電池の電極材に用いる炭素粉体の親水処理
各種粉体の微粒子化
カーボンナノチューブの表面改質
【塗工の前処理】
メッキの密着力を強化
樹脂フィルム(PET、PP、PCなど)の印刷・コーティング力を強化
ガラスや金属の洗浄・コーティング力を強化
プリント配線の濡れ性向上
ネジのコーティング密着力を強化
Oリングのコーティング力を強化
飲料水容器の印刷力を強化
【繊維への前処理】
中空糸膜フィルターなどろ過膜の親水性向上
羊毛など繊維の染色力を強化
【その他】
PPやPCなどの樹脂成型品の接着強化
CDやDVDスタンパーの表面洗浄
医療・バイオ
シャーレーなどの細胞培養の活性効果
歯科用合金の接着強化
カテーテルの接着強化
チューブ内壁の洗浄
マイクロプレートに抗体の密着を強化
バイオチップの密着強化
不織布の親水性向上
医療用器具の滅菌処理
-2-
大気圧
真空
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
【特徴】
◇親水性が向上
◇接着性・密着力が向上
◇有機物の除去
◇低温でサンプルへの熱ダメージフリー
プラズマを直接手で触れても熱くないです。
(40℃程度の照射温度)
◇コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではないため
電荷ダメージフリー
◇高密度のプラズマ放電で強力な処理が可能
→コロナ処理と比べて処理ムラが少なく、高い処理効果
◇インラインでの処理が可能
金属薄膜へもダメージ無く親水化
(コロナ放電では不可能)
◇窒素をプラズマ化可能でランニングコストが安価
※別仕様でアルゴン・ヘリウムにも対応
塗装
【用途】
◇表面改質
各種貼り合わせ塗装の前処理
プラズマ処理
ボンディング性能の向上
before
ガラス、フィルム、樹脂の濡れ性向上など
after
塗装の前処理で劇的にぬれ性が向上
◇クリーニング
ワイヤーボンディング
ガラス、フィルム、樹脂、セラミックス、
無機材の洗浄、メッキの前処理
IC
電子デバイス基板の洗浄 など
基 板
ピール強度が3倍以上の実績！
【オプション】
◇POWERコントロール
◇高周波電源
100mm幅トーチ
◇ガス種の変更
◇照射幅の変更
2軸ロボット
混合ガス流量計
ペントーチ架台
コンベアを組み合わせたインラインシステム例
搬送方向
◇1軸、2軸、3軸ロボット
プラズマ照射接着剤塗布 接着 ワーク2
◇ディップ スプレー ロールコーターとの組合せ
◇風防ボックス、無塵ボックス、局所排気など
ワーク1
その他お気軽にご相談願います。
排気ダクト
接着不良による歩留りを改善！
-3-
大気圧
真空
用途別
受託
石英
ガラス
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
スリット型大気圧プラズマ： S5000-BM
生産対応：パワー調整・ガス流量の調整可能
【仕様】
・照射エリア約20mm ※照射幅拡張可
・使用ガス：窒素 ※別途アルゴン・ヘリウム対応トーチ有り
・出力：約170W ・電源：AC100V 50/60Hz
・機能：ガス流量調整・パワー調整・放電タイマー・リセットスイッチ
・サイズ：コントロール部/320(W)×430(D)×177(H)
S5000-BM
コントロール部
プラズマガン部/60×20×約100mm
スリット型
トーチ
・重量：コントロール部/約12Kg プラズマガン部/約1Kg
簡易型大気圧プラズマ：A1000
研究開発用：軽量・ワンタッチの操作性
【仕様】
・照射エリア約20mm ※照射幅拡張可
・使用ガス：窒素 ※別途アルゴン・ヘリウム対応トーチ有り
・出力：約45W
・電源：AC100V 50/60Hz
・機能：放電タイマー・リセットスイッチ
・サイズ：コントロール部/320(W)×252(D)×150(H)
プラズマガン部/60×約100×20 mm（突起部含まず）
・重量：コントロール部/約4Kg プラズマガン部/約1Kg
A1000コントロール部
スリット型
トーチ
PEN型大気圧プラズマ：P500-SM
研究開発用：スポット処理・持ちやすいペン型トーチ
【仕様】
・照射エリア約5mm ※照射幅縮小可
・使用ガス：窒素・アルゴン・ヘリウム
・出力：約45W ・電源：AC100V 50/60Hz
・機能：放電タイマー・リセットスイッチ
・4サイズ：コントロール部/243×160×110mm
ペン/φ20×95mm(本体)
・重量：コントロール部/約3Kg ペン/700ｇ
P500-SMコントロール部
ペン型トーチ
魁半導体
※ You Tubeにて動画配信中
-4-
検索
大気圧
真空
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
様々なガス種による放電の様子（RIE.S-200A)
【特徴】
◇親水性が向上
◇接着性・密着力が向上
Air
◇有機物の除去
Ar
◇均一性が高く、ムラが少ない処理可能
◇酸素・アルゴン・窒素など様々なガス導入が可能
◇一括でバッチ処理が可能
He
◇コンパクト・簡易な操作性
O2
※実際の放電色は使用条件により異なる場合がございます。
【用途】
接着強化
ポリカーボネイト
◇貼り合わせの前処理
接着剤
1cm
シリコン/シリコン、シリコン/ガラス、PDMS
固定治具
とガラスの張り合わせの前処理として
表面処理面
◇マイクロナノシステムへの適用）
ポリカーボネイト
無接着から4.9kg/cm2接着に成功
細胞培養の前処理
微細溝の濡れ性向上のための処理として
◇細胞培養の前処理
細胞培養に適した表面状態のシャーレを実現
◇医療用の接着前処理
before
歯科医療などに用いられる接着の際の前処理
after
120時間後の細胞数の評価：プラズマ処理後は増殖
資料提供：株式会社マテリアルデザイン
【オプション】
【真空プラズマの作業工程例】
① 真 空 引 き
3分
φ100
② ガ ス 導 入 *
φ250
15秒
③ 親 水 化 処 理
15秒
④ 大 気 開 放
1分
ご希望のステージサイズに変更可能
◇チャンバーの高さ
◇高周波電源・タッチパネル
◇クリーンボックス・デジタル表示
◇冷却機構・保管容器 など
＊機種によりガス導入工程がないものもございます。
-5-
φ400
真空
大気圧
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
大容量真空プラズマ装置：YHS-MS
大きなサンプルや大量のサンプルを一括処理
【仕様】
・機能：大容量チャンバー・独立平行平板(0～10段/差替可)
ガス導入可・圧力調整・パワー調整・オートリーク
OPEN
放電タイマー・非常停止スイッチ
・出力：13.56MHｚ MAX300W
広々の0段
・サイズ：本体/760(W)×600(D)×610(H)
電極（棚）：400×400
YHS-MS装置外観
・重量：約120Kg
10段棚
3段棚
・電源：AC100V 50/60Hz
卓上真空プラズマ装置ガス導入：YHS-GZA
ステージサイズφ250のガス導入型タイプ
【仕様】
・機能：ガス導入可・圧力調整・パワー調整・オートリーク
放電タイマー・非常停止スイッチ
・出力：約170W ・電源：AC100V 50/60Hz
・サイズ：本体/380(W)×434(D)×446(H)
ステージ部/φ250mm
・重量：約20Kg
YHS-GZA装置外観
卓上真空プラズマ装置：YHS-R
ワンタッチ操作の卓上真空プラズマ処理装置
【仕様】
・機能：ワンタッチフルオート・オートリーク・放電タイマー・
・出力：約45W ・電源：AC100V 50/60Hz
・サイズ：本体/220×250×300mm
・重量：6.8Kg
YHS-R装置外観
魁半導体
※ You Tubeにて動画配信中
-6-
検索
ステージ部/φ100mm
大気圧
真空
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
小型回転式真空プラズマ装置『MUG-80』
少量の粉体や微小な部材の表面改質に
【用途】
・リチウムイオン電池の電極材に用いる炭素粉体の表面改質
・カーボンナノチューブの親水化
・水溶性インクを生成する粉体の表面改質
・SiO2粉体の親水処理 など・・・
【特徴】
・小型チャンバーφ80を搭載
・回転チャンバー搭載で全面を一括処理が可能
・一括処理で処理時間の短縮！コスト削減
・サンプル間の接触部もムラ無く処理
・脱着式チャンバーでサンプルの取り出しも容易
・回転速度と印加電力の調整機構を保有
小型回転式真空プラズマ装置外観
【仕様】
・機能：電力調整・回転数調整・放電タイマー
脱着式チャンバー
・出力：約160W・電源：AC100V 50/60Hz 15A
・サイズ：本体/440(W)×353(D)×340(H)
・回転部外寸：φ80×H42
・回転部材質：PEEK(他の材質にアレンジ可能です)
プラズマ
回転方向
チャンバー
回転筒
被処理物
チャンバー模式図
チャンバー脱着可能！
チャンバー蓋開放時
-7-
真空
大気圧
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
回転式卓上真空プラズマ装置：YHS-DΦS
コンデンサーやOリングなどの樹脂成型品・各種紛体の表面活性に
【特徴】
・回転チャンバー搭載で全面を一括処理が可能
・一括処理で処理時間の短縮！コスト削減
・サンプル間の接触部もムラ無く処理
・粉体や小さなサンプルへの表面改質！
・脱着式チャンバー・回転速度・パワー調整
【仕様】
・機能：電力調整・圧力調整・回転数調整・放電タイマー・ガス導入
脱着式チャンバー・チャンバーの角度調整
・出力：約170W ・電源：AC100V 50/60Hz 5A
・サイズ：本体/720(W)×450(D)×450(H)
チャンバーサイズ ：φ210×H200
YHS-DΦS装置外観
被処理物
チャンバー
取り外し可能!!
回転速度調整も
簡単操作でOK!!
角度調整可能
プラズマ
チャンバー
筒状電極
対向電極
チャンバー模式図
プラズマエッチャー：RIE.S-200A
SiO2 やSiのエッチングが可能
【特徴】
・コンパクトサイズ・簡易な操作性
・タッチパネル操作(オート、マニュアル)
・高精度で無機物のエッチングが可能
低価格・短納期
【仕様】
・出力：13.56MHｚ MAX300W
OPEN
・機能：電力調整・放電タイマー
自動整合装置・ガス流量制御・真空度モニター
自動圧力制御・タッチパネルによる操作
・サイズ：本体/510(W)×760(D)×850(H)
ステージ部/φ200
チャンバーオープン時
RIE.S-200A装置外観図
・電源：AC100V 50/60Hz 15A
-8-
大気圧
用途別
真空
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
大気圧粉体プラズマ処理装置：ASS-400
溶剤不要で粉体を混合できる新技術
関西フロントランナー大賞2010受賞
平成22年度京都中小企業優秀技術賞受賞
平成24年度中小企業優秀新技術・新製品賞受賞
未処理
実施例
プラズマ処理後
写
真
ポ
ン
チ
絵
炭
素
粉
体
ビ
ー
カ
ー
水
プラズマ処理で溶剤なしで混合
【用途】
・カーボンナノチューブなどの炭素粉体
ASS-400装置外観
・水溶性インクの塗料
・フィラーの前処理
【 粉体プラズマ処理の優れた特徴 】
・焼成粉体の前処理
・その他、ハイブリッドマテリアルの開発
大掛りな
真空排気ユニット
が不要！
表面処理と
分散を同時に！
【仕様】
・出力：約170W ・電源：AC100V 50/60Hz
・サイズ：コントロール部：450（W）×300（D）×630（H）
・重量：約12Kg
処理時間、コスト面の
課題を大きく改善！
処理した粉体の再分散も容易
複数電極
界面活性剤が不要で
環境問題にも貢献
NEW 【処理能力UP!!】
新製品SKIp-ZKBにて今までの
大面積
プラズマ
◇オプション対応致します。
約10倍の処理面積を実現!!
水
攪拌機構、粉体供給機構、液体供給機構、グローブボックス
電極追加、真空乾燥機、加熱乾燥機などオプション料金にて
承ります。詳しくはお問い合せ願います。
魁半導体
※ You Tubeにて動画配信中
-9-
検索
大気圧
用途別
真空
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
チューブ内壁大気圧プラズマ：S5000-T
大気圧環境でチューブ内壁を表面改質！
【特徴】
・カテーテル製造時の表面処理
約1mm径の
チューブに10m放電
・医療用チューブの内壁処理
プラズマ
・チューブ内洗浄
・毛細管現象の効率向上(ヒートポンプ)
・チューブ内の空気だまり防止
チューブプラズマトーチ
(注射針や医療チューブなど)
チューブプラズマの応用例 ： 配管内の脱気処理システム
配管内ガス
水分
真空排気・水分除去
プラズマ
・配管内の脱ガスを促すことにより、真空到達の時間を早くします。
・窒素プラズマによって水分を効率的に除去し、配管の真空保持性を高めます。
ダイレクト型大気圧プラズマ：D300-TB
フィルムなどの処理に最適！
プラズマ
NEW【撥水処理に成功】
四フッ化炭素ガス導入する事で
35°
before
D300-TB電極
D300-TB放電の様子
97°
after
親水性だけではなく撥水処理も可能に！
【特徴】
・導入ガス不要、空気での表面改質が可能
・幅広のスリット300mm照射が可能
※照射幅の変更はオプションにて対応致します。
R to R300システムの一例
・リモートに比べ高速処理が可能
【用途】
プラズマ コーター 赤外ヒーター
フィルム
・FPDガラス基板の有機物除去（洗浄）
・濡れ性改善（塗布・接着前処理）
テンションコントロール
排気ダクト
・フィルム表面改質
巻き取り
※リモート型に比べサンプルに負担がございます。
R to R300システム模式図
-10-
大気圧
真空
用途別
受託
石英
ガラス
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
「エレクトロスプレー：SLEF-100」
少量の塗液で効率的なコーティング
【特徴】
・小型な装置でスプレーコーティング
・電着による塗布により塗液を効率的に塗布！
・X-Yロボットを使用した正確なコーティング
・マスク板を汚さないので簡単お手入れ
・高温・高真空下ではなく、室温・大気圧下で塗布。
【用途】
・ディスプレイ・LED・太陽電池 など・・・
【仕様】
・機能：電着によるスプレーコーティング、
・ワーク仕様：100×100(有効塗布面積：90×90)
・圧空：0.4MPa以上のCDA
・サイズ：本体/800+突起物30(扉開時1350)(W)
×600+突起物60(扉開時1050)(D)×600(H)
SLEF-100 装置外観
・使用可能塗液：非導電性で極性溶媒を使用するもの
東レエンジニアリング社にご指導を頂きながら開発致しました！
デモ処理・条件出し等は初回無償対応致します。
被処理物
コート剤
スプレーノズル
スプレー部
処理部
-11-
模式図
大気圧
真空
受託
用途別
石英
ガラス
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
スピーディーな研究開発をサポート！
ご要望に応じた処理（真空プラズマ、大気圧プラズマ、UV処理）致します。
試作・開発～量産
まで対応致します。
「プラズマ表面改質に興味はあるが･･･」
「試作をしてみたい」
「小・中ロットの生産なので、設備を導入するまでもない」
魁半導体ではこのようなニーズにお応えし、プラズマ処理等の受託加工を承っています。
【受託加工のメリット】
・短納期、小・中ロットへの柔軟な対応が可能
・設備投資、人件費が不要
・豊富な知見より最適なプラズマを選定致します。
・設備を導入するスペースが不要
・社内設備完備(接触角計・段差系・密着評価機・2軸ロボット・R to R など)
・試作加工、研究開発に最適
【受託・開発事例】
・様々な材料の洗浄・親水処理
・異材料の接着強化実験
・細胞培養シャーレーのプラズマ処理
・CNTなどの炭素粉体の表面改質
・R to Rにてフィルムの表面改質・各種エッチング・製膜プロセス開発 など
受託処理の流れ
お問い合わせ
お打合せ
お見積り
受託処理
納品
立会い・出張OK！
デモ処理条件出し等は初回無料で対応しております。
受託処理価格
￥18,000-/1時間
サンプルにより処理効率が異なりますので、ご依頼前に処理効率確認のため、少量をデモ処理
（無償）をさせて頂いたうえで御見積致します。
受託研究・開発
別途お見積り
処理サンプル
その他
弊社で準備する場合は別途お見積り致します。
処理条件、納期、返送状態などお気軽にご相談下さい。
-12-
大気圧
真空
用途別
受託
石英
ガラス
シリコン
ウエハ
技術資
料
会社概
要
レンタル
～透明度が高く、熱に強く、高純度で、薬品に侵されにくい、優れた特徴を持つガラス～
光透過率が紫外から赤外の全波長にわたって非常に高いので、露光装置用のレンズ素材や、光ファイバ用、ランプ用材
料として用いられます。耐熱性が高く、通常の窓ガラスが80℃程度に対し、石英ガラスは1000℃と12倍以上の高温に耐え
ることが出来ます。
優れた耐熱性と極めて低い熱膨張係数を併せ持っており、半導体製造における熱処理プロセスなどの高温プロセスにお
いて、炉心管やボートなど、耐熱形状安定性の高い部材として、広く用いられています。
石英管、石英板、石英ウールなどの素材から、各種加工品、修復など承っております。
《石英製品例》
化学実験器具（ビーカー・試験管など）、半導体洗浄処理槽、光ファイバー素材
ランプ用の管材（ハロゲンランプなど）、集光レンズ、分析機器用セル、電熱ヒーターカバーなど
High
Quality!
Good
Price!
製作事例：石英炉心管
本体：外径φ180×3t×620L
枝管：外径φ10×2t×230L
フランジ：外径φ210×10t
大型石英加工品も高品質・低価格で提供致します。
炉心管：外径φ300まで対応致します。
その他、特注肉厚大型ビーカー、大型角槽など
反応管、ボート、二重管、シリンダー、摺合わせなど
特殊サイズ、標準規格品への穴あけ加工など各種加工
も対応致します。
Quick
Delivery!
◇各種素材
《石英/ガラス》
溶融石英、合成石英、不透明石英、ホウケイ酸ガラス、
BK7、ソーダガラスなど
《レアメタル/白金》
タングステン、タンタル、モリブデン、チタン、ニッケルなど
約15種類。白金も各種形状に対応します。
◇標準規格品
標準石英セル、石英ビーカー、蒸発皿、フラスコ、ボート、
石英製テーパージョイント、石英フィルター、石英ウール、
白金るつぼなど
御見積・ご注文については、ご希望のサイズ、数量、材料、仕様、概要図・図面などをご連絡願います。
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大気圧
真空
用途別
シリコン
ウエハ
石英
ガラス
受託
技術資料
会社概要
レンタル
シリコンは、英語で silicon といい、地球上では酸素に次いで2番目に多く存在する元素です。
シリコンには次のような特性があり、身近な電気・電子製品に搭載されている半導体デバイスは、
そのほとんどがシリコンウェーハを基板材料にして作られています。
【シリコンの特性】
1.資源が豊富である
2.高純度化しやすい
3.単結晶化と不純物添加量を調整して、抵抗率制御が容易である
4.安定した酸化膜ができ、集積化などの加工がしやすい
シリコンウエハ基本仕様
サイズ
2インチ
3インチ
4インチ
5インチ
6インチ
8インチ
直径［mm］
50.0±0.5
76.0±0.5
100.0±0.5
125.0±0.5
150.0±0.5
200.0±0.5
厚み［μm］
280±20
380±20
525±25
625±25
625±25
725±25
導電型
P/N
結晶方位
2～4インチの小径サイズにも対応！
<100>/<111>
抵抗［Ω・㎝］
オリフラ
1~30
17.5±2.0
数量
梱包形態例：真空パッキング
<100>
22.0±2.0
32.5±2.5
42.5±2.5
47.5±2.5
57.5±2.5
25枚入
※ご要望の仕様に合わせて製造致します。製法・口径・ドーパント・軸方位・抵抗率・厚み等
ご希望の仕様をお申し付けください。
※在庫品で端数品などもございます。お気軽にご相談願います。
アズスライスウェーハ、ラップドウェーハ、エッチングウェーハ、片面ミラーウェーハ、両面ミラーウェーハ等、
あらゆるニーズに対応致します。
また、シリコン各種加工 切り出し・座ぐり加工・穴あけ加工等、各種加工も承ります。
単結晶サファイアは、アルミナの単結晶であり、 優れた機械的・熱的特性、化学的安定性、光透過性な
どの特性を有することから、人工的に育成された不純物の少ない高純度単結晶サファイアが多くの工
業用分野で使われています。
電子デバイス用・LED用のサファイア基板から、板状、ロッド状、チューブ状など幅広く対応致します。
【単結晶サファイアの用途】
サファイア基板、半導体用基板、LED基板、プロジェクター、光デバイス用基板など
【サファイアチューブの用途】
分析器、熱電対の保護管など
御見積・ご注文については、ご希望のサイズ、数量、材料、仕様、概要図・図面などをご連絡願います。
-14-
大気圧
真空
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
～プラズマの効果～
反応性の高いプラズマ状態の分子・原子は、通常状態で
は得られない特異な化学反応を起こします。
表面改質や有機物の除去、エッチング、薄膜形成などは、
この現象を利用したプロセスです。
プラズマ処理による効果① ―表面改質―
プラズマ
O3*
H2O
O*
O2
N2
イメージ図
N*
OH*
H2O
O2
O3*
N2
OH
OH
O
OH
N
OH
O
基板
基板
基板（ステンレス・ガラス・PP・アルミ・シリコンなど）にプラズマを照射すると、
プラズマ中の電離された分子（OH基など）が表面に修飾され、水のぬれ性が
劇的に向上します。
プラズマ処理による効果② ―洗浄効果―
イメージ図
プラズマ
OH*
O3*
H2O
N2
O2
OH*
N*
O*
N2
CO
CO2
H2*
CO
H2O
O2
H2 O
O3*
有機物
基板
基板
基板に付着した有機物は、プラズマ照射することによってプラズマ中の活性な分
子と反応し気化します。
これによって洗浄剤なしで有機物の除去が可能になります。
様々な材料の親水性
樹脂（PET）
Before
XPSによる表面組成の測定
ガラス（ITO GLASS）
After
Before
After
金属（銅）
写真のように様々な材料で
プラズマ照射後、水のぬれ性
が向上します。
Before
After
赤色：未処理 青色：真空プラズマ 水色：大気圧プラズマ
※処理サンプルはポリカーボネート
未処理の表面状態と比べて大気圧プラズマ/真空プラズマ
共に酸素の組成比が向上しているのが判ります。
※上記例の素材以外にも
様々な材質に適用する事が可能です。
その他、詳しい技術資料は弊社までお問い合わせ願います。
-15-
大気圧
真空
用途別
受託
石英
ガラス
シリコン
ウエハ
技術資料
会社概要
レンタル
弊社は国の資産である研究成果を活用し会社を設立した経緯からも、社会貢献を第一
に会社経営を目指しています。お客様と社員の思いを大切にして常に新しい技術を提供
することで豊かで安全な生活しやすい社会作りに貢献します。
◇社名
◇創業
◇主な事業内容
◇所在地
◇代表者
◇主な受賞歴
株式会社魁半導体
2002年 (京都工芸繊維大学発ベンチャー企業)
・プラズマシステムの開発、及び、販売
・プラズマシステムのレンタル
・受託研究による半導体製造装置の開発、
及び、製造販売 ・堆積代行、エッチング代行
・石英・ガラス製品の販売、加工
〒600-8897 京都府京都市下京区西七条御前田町50番地
TEL：075-204-9589 FAX：050-3488-5883
http://sakigakes.co.jp
※JR 京都駅より１駅
代表取締役 田口 貢士
2006年 「ものづくり認定企業」に認定
本社ビル外観
2009年 「ものづくり認定企業」に認定
2010年 関西フロントランナー大賞2010受賞（粉体プラズマ処理技術）
2010KANSAIモノ作り元気企業100社に選定
京都府「知恵の経営」実践モデル企業に認証
2011年 平成23年度京都府中小企業優秀技術賞受賞（粉体プラズマ処理技術）
2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」 （大面積大気圧プラズマ装置SKIp-CBL300）
優良賞、産学官連携特別賞受賞
2012年 「中小企業優秀新技術・新製品賞」 （世界初の液体電極を用いた粉体処理技術）
奨励賞受賞
2012年 平成24年度科学技術分野の文部科学大臣表彰創意工夫功労賞受賞【山崎光生】
2012年 「関西ものづくり新撰」認定(大気圧紛体プラズマ処理装置「PPU‐800｣）
2012年 京都府中小企業応援条例に基づく「元気印認定制度」に認定
◇納入実績企業一覧（五十音順・敬称略）
【企業】
アークレイ株式会社
旭化成株式会社
株式会社カネカ
信越石英株式会社
ソニー株式会社
ダイハツ工業株式会社
TDK株式会社
東海旅客鉄道株式会社
株式会社東芝
東レ株式会社
東レエンジニアリング株式会社
凸版印刷株式会社
豊田合成株式会社
日本フッソ工業株式会社
パナソニック株式会社
日立化成工業株式会社
株式会社日立製作所
ブリヂストンスポーツ株式会社
富士フイルム株式会社
株式会社本田技術研究所
三菱鉛筆株式会社
三菱電機株式会社
株式会社村田製作所 など
【研究機関】
高輝度光科学研究センター
東京都立産業技術研究センター
独立行政法人産業技術総合研究所
独立行政法人物質・材料研究機構 など
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【大学】
大阪大学
京都大学
京都工芸繊維大学
群馬大学
静岡大学
東京大学
東京工業大学
東京理科大学
東北大学
徳島大学
名古屋大学
奈良先端科学技術大学院大学
山梨大学
立命館大学 など
大気圧
真空
用途別
石英
ガラス
受託
シリコン
ウエハ
技術資料
レンタル
会社概要
プラズマ装置はレンタル（有償）も対応しております。
【装置の一例】
S5000-BM(スリット型)
P500-SM(ペン型)
YHS-G(ガス導入)
YHS-DφS(回転式)
D300-TB(ダイレクト型)
ASS-400(粉体)
※梱包・送料は別途申し受けます。 ※据付や取扱説明が必要な場合は、別途費用が発生致します。
※X-Yステージなど周辺機器のレンタルもご相談下さい。 ※初回デモ処理等は無償で承ります。
※1週間レンタルの場合はイニシャルコストはかかりません。
1ヶ月レンタル
型式
1週間レンタル
必要設備
イニシャルコスト
レンタルフィー/月
レンタルフィー/7日間
S5000-BM
ASS-400
¥100,000
¥150,000
¥70,000
AC100V 使用ガス
（ガスはS5000-BMのみ）
D300-TB
A1000
¥100,000
¥100,000
¥60,000
AC100V 使用ガス
（ガスはA1000のみ）
P500-SM
¥50,000
¥25,000
¥25,000
AC100V 使用ガス
¥90,000
¥40,000
¥35,000
AC100V
¥100,000
¥100,000
¥60,000
AC100V/除害設備/使用ガス
YHS-DφS
¥200,000
¥250,000
¥160,000
AC100V/除害設備/使用ガス
RIE.S-200A
¥180,000
¥400,000
AC100V/除害設備/使用ガス
要相談
要相談
仕様による
(ペン型大気圧プラズマ)
YHS-R
(卓上真空プラズマ)
YHS-G φ100
(卓上真空プラズマ ガス導入タイプ)
(エッチング装置)
その他の装置
※価格は全て税抜の金額となっております。
※本カタログに記載した内容は、予告なく変更することがございますのでご了承願います。