サンプルの概要 想定される用途 プロジェクトの目的 事業概要と成果

G1
砥粒を有効に使用することで、
研磨時間と砥粒使用量を低減する高性能研磨工具
Development of High-Performance Finishing Tool Making Effective Use of Abrasive Grains
プロジェクトの目的
■
■
研磨能率（μm/min）
以下の研究開発により工作物の除去能率を大幅に増加し
研磨時間を低減します。
各種ガラス、サファイアウェーハ、SiCウェーハの研磨に
用いられる砥粒の研磨工具上の動きに着目しました。
砥粒の保持性（動きにくさ）を向上するために高性能研
磨工具（ラップ工具、研磨パッド）を開発しました。
サンプル説明
1.2
エポキシパッド
サンプルの概要
2倍以上UP
工作物：ソーダガラス
砥粒：酸化セリウム
0.3
0
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
1.2
工作物：ソーダガラス 砥粒：酸化セリウム
0.6
0.9
0.4
0.6
0.2
0.3
0
0
下面
ウレタンパッド
上面
下面
エポキシパッド
金属繊維工具
プロジェクト参画機関
樹脂
250
1200mm
鋳鉄工具
親水性が高く、柔軟性が
高い研磨パッドです。
[μm]
750
ドレッシング作業が不要
工具表面に凹凸が維持でき、高研磨能率・
長工具寿命を実現します。
20
10
0
500
日本機械学会論文賞と
精密工学会技術賞を受賞
30
想定される用途
工作物：ソーダガラス
砥粒：GC #2000
0
エポキシ研磨パッドの両面研磨特性
プロジェクト名称
金属短繊維
（世界初）
40
研磨能率
（μm/min）
仕上げ面粗さ
仕上げ面粗さ
（nmRa）
研磨能率
（μm/min）
1.5
上面
粗研磨用
0
1
0.8
鏡面研磨用
10
砥粒の保持性の高い研磨工具（エポキシ研磨パッド、金属繊維ラップ工具）を開発することで、砥粒の使用量を
大幅に低減し、研磨コストの低下に成功しました。
研磨能率
提供企業名 ：（株）クリスタル光学
「エポキシ樹脂研磨パッド」 「金属繊維ラップ工具」
砥粒濃度
（wt%）
事業概要と成果
サンプル名 ： 金属繊維ラップ工具
ウレタンパッド
0.9
0.6
サンプル名 ： エポキシ樹脂研磨パッド 提供企業名 ： 九重電気（株）
希少金属代替材料開発プロジェクト/
4BODY研磨技術の概念を活用したセリウム使用量低減技術の開発
立命館大学、
（ 株）アドマテックス、九重電気（株）、
（ 株）クリスタル光学
30
60
90
120
150
定盤回転数
（rpm）
金属繊維ラップ工具の研磨特性
研 究 期 間
平成２1年度∼２4年度
主任研究員
谷 泰弘 （立命館大学）
金属繊維ラップ工具とエポキシ樹脂研磨パッドは、砥粒の保持性が高く、低砥粒濃度でも高い研磨能率かつ優れ
た仕上げ面粗さが得られるという特徴があります。
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LCD、LED、パワーデバイスなどの基板材料の粗研磨から
鏡面研磨までに使用される高性能研磨工具を提供致します。
研磨工程の時間を大幅に短縮し、かつ砥粒の使用量を低減
することができ、コスト削減につながります。
問い合わせ先
研磨パッド： 九重電気（株） 伊勢原事業所
TEL：0463-94-5231 FAX：0463-96-5772
ラップ工具：（株）クリスタル光学 本社工場
TEL：077-573-2288 FAX：077-573-0281