FEDエミッタ成膜装置 アルバック

﹂
早
第
1
FEDエ ミッタ成膜装置
アルバ ック
アルバ ックの グラファイ トナ ノフアイバー
(GNF)成 長実験装置 「CN Cヽ D3001は その名
後 、図 1の よ うに ラ ンプで 450∼ 550℃ に基板
を力1熱 しHガ ス とCOガ スを熱分解 す る ことに
の通 り同社独 自の銀Fエ ミッタを成膜する装置,
CNFエ ミッタは CNT(カ ーボ ンナ ノチュープ)の
一種で、Cヽ Tと 違 い、グラフ ェンシー トがフア
イバー状 になっていることか ら名 づけられた。
よ りGNF膜 を選択 的 にCVD成 膜す る。この結果 、
ノー グ ライ ム ガラ スや ノンア ル カ リガ ラス と
い つたFPD用 ガラス基板 をサ プス トレー トに使
大型イ
ヒ対応 も容易だ とい う。
用す ることが で き、
CN CVD 300は 最 大 294× 210鰤 基板 に対 応
550℃ 以 下 で 成 膜 可 能
従来 アル バ ックはク ラズマ CVD法 でCNTエ
ミッタを形 成す る こ とを提 案 していたが、この
場 合 プ ラ ズマ に よつて基板 温度 が600℃ 以 上
になる こと また大型基板 に対応 しに くい こと
か ら 最 近 ではCN「 エ ミッタを リコメ ン ドして
,ヽ
準備 室 か ら成 膜成長室 へ は ロボ ッ トで
可能 で 、
搬送す る仕組み とな ってい る。
参 考 文献
￨)ヽ :川 はか :Cヽ Fを 月 た FEDの よ14と 評lr u、 AC
T,CIヽ lCAI JOtRヽ
'い
Al Scptember/2002
る.
形成 フロー
tF・ な どの1虫 媒 パ ター ンを スパ ッ
タ リング成膜 +フ ォ トエ ッチ ング法 で形成 した
表l
GN― CVD
300の 標準仕様
?91× 210mm
対応 来 板 サ イ ズ
VCR 6 35mm
ー
5. -xl0
冷 И,水
1[結
/r・
umrmin
(0.3I!!4L
気
ベン ト
な表 ガス
外 形 十法
に空 希釈 月
l
11()0(い × 1300(D)X1750(H)mm
200V 3'1
ACt源
約 50kVA
ラ ンプ ヒー ター
●●●●●●Q
● ●● ● ● ● ●
ラ ンプ し― ター
ジ
▲ GN― CVD-300
―
ドPDと ￨ノ テ クノ ロ ジー
…
187
第 1章 FEDエ ミッタ成膜装置
時田シー ブイディー システムズ
時 ロ シー ブィデ ィー シ ステム ズは 人気開放
型Cヽ D法 の開 発で知 られ る長 同技術 科学 大学 か
t,誕 生 した ベ ンチ ャー 企業,Rヽ Dや 試 作 用大気
開放型 σD装 置 を製 品 化す る とと て
,に 、大気開
放型C"法 で作製 した成膜 ビジネ ス (,手 が ￨す る
主 力は卓 上型 人気 開 llkttC,D装 置‐有機 金属
錯体 ガ スを気化 させて大気中の酸素 と反応 させ
て酸化膜 を成膜す る仕 組みで
MgO Zi:0、
si10:、
cm、 lnp,、
A10T10 znO
MnO、 N10、 HFOせ La‐ 0
、
.0. 蛍光1莫 、Bario.
、FeJO.、
I■ )な どほ
とん どの酸 化物 を成 膜 す る こ とが で きる.い う
まで ヽ
,な く、FED向 け ξは 2no系 ゥ ィ
スカー エ ミッタ、Y=o蛍 光 膜 ITo、
SnO」
、PDP向 け で 1よ
▲大 気開放型 CVD
表 1卓 上 型大 気開放型 CVD装 置 の仕 様
Mgo ITo Sn()を
l..=i‖ ￨￨
600C=oC
成 膜 す る こ とが 可能 、大 気 開 放 型 cVD
加 IIA■
装置 に共通 す る ことだが 、成膜速度 が
真空 スバ ッタ リング法 に1ヒ ベ速 く l
キ ャリア ガ ス加lⅢ
μ似 上の厚膜 も高速成膜 できるのが
特
気イ
レ米
僣
“ 板
女t化 器加熱
yk(,ち
ろん 、大気 開放型 なの で真
空チ ャ ン バ ホ ンフ 冷却 水が不要
r・
したZnOウ ィスカー
配
Ⅲ
310℃
:300(,
=00C
250C
eぅ
''加
oc
I・
′
イ!リ カ‖夕A4i`ル 1∼
,,11,流 it51 1mi n,キ
エネたll月
1
連:統 lt‖ 11,
“
tl続 lt川 11
tttlt月 111
■
で メンテナ ンス も容 易だ
基板 サ イ ズは 50× 50m田 にヽ1応 .表
1の よ うに力
嶼 温度 はマ ックス600℃
で 上 loで とぃ ぅ温度 ユ ニ フ ￨ミ
テ ィを誇 る.本 体サイ ズ t,9oo(I)×
560(し )×
95(H)mと 超 コン バ ク トな
た め、名前 の通 リデ ス ク トッフ上 に
設置す る こ とが できる .価 格 t,68o万
PIと リー ズナブルで すでにPDPメ ー
カー をは じめ とす る FPDメ ー カー ´
、
出荷 した実績がある
▲卓 上型 大 気開放型 CVD装 置
138
ドPDと す ノテ クノ Llジ ー
FEDエ ミッタ成膜装置
トッキ
第 1章
1常 大学 斎藤 研究室 が
トッキは 長同技術 イ
中 ことなって進 めて いる経 済産業 省の 1陽 光柱
ワー クの力1熱 温度 は最高 700C ガ ス流量
'
レ1個 当た り)で バ
最 大 5oリ ッ トルlmin(ノ ズ′
‖加 工設備 の開 発 フ
型 省エ ネル ギー 画素 微 ネ
「
パ
ー
01年 度 か ら 03年 度 姜
ジェ ク ト」ソ)メ ン
での 3年 間 0'フ ロジ :=ク トで PDPの バ リア リ
ンチン グに よ つ て穴 を開けた05Ш 嗣享フ レー ト
フ レー ト面
1● 膜 を成膜十 る こ :を 試
1■ ハ
プを ロー コス トで製造す る技lrを FIn発 中
50型 対 応 の 試 作 機 を完 成
具体 的 こは ウ :・ ッ トエ ッチ ン グ法 でマ トリ
クス状 に バ ツー ニ ン グ した メクル フレー トに 失
気開 放型 CVD法 で絶縁 膜 を成 膜 す る こ ヒに トラ
イ.02年 12月 に 50型 クラ ス 対応 ″,大 気開 放 型
(VD装 置 Slヽ Aヽ 01Jを 試 作 した
図 1の よ う ■ロー ダー 千 備
ヵn熱 室 成 1,室 ■、成 1党 室 2 除 冷 室 ア ン ロー
ダー とい う構 造 で 外形 寸 法 よ11350(ヽ )X
SlNANO l i
3100(D)X250000皿 .ワ ー クを 重直 に セ
'た
内 の9か 所 σ,温 度 を測 定 した ところ、中 央割
'1
11=設 ,ビ 温度 でル,る 600C前 後 だ ったが 上部 、
そ して :く 1下 部 (t(,´ ,と も低 t｀ 部分 が350(:
程度 と温度 Jニ フ ,ミ テ ィが低か った これ は、
装 置の 下部 r隙 間が あ り、ここか ら熱ん■■11る
た め 1考 え
る こ′)結 果 膜厚 コ ==フ ォ ミ
',れ
テ ィ1,低 か った こυ)た Il 加熱機 構 をを改善
上￢ る予定 で これか
し温度分布 を ■30 CtiⅢ 〕
実現で きれ t■ 10｀ ,と い う瞑厚均―性が確保 で
きる とい う
今後の ス レジュー ル 1103年 度中 にSIヽ ヽN01
を改造 し 01年 度か らR&D用 装置 を出荷 した い
考えだ
ント
予 備加 熱 室 で「′レ し― 卜 続 い て 成
膜 室 ￨)で 片面 か ら気 化 させ たヽ1(ac ac).カ スを
し ま
,大
き付 すて ツー クにAl,0、 膜 を青
'に
リ ブ以 外に 1,M101莫 蛍光体層 、誘 電 体層 そ
してFED′ )蛍 光体層 ウ ィスカーユ ミッタな ど
に も応 用 可育ヒで、同社 に とつて有機 ELデ イス
フ レイ用ネ 着 封止装 置 に次 く■力製 ..に な る
膜す る 成
'L成
1に 設 :た ノズ
膜禦 ,で は 成膜室■￨1反 対 方に
ルか ,,Al● (ac)'ス を吹き付けて一方の面 ■
可能性
A101受 を成 1莫 す る
I
ト
喜
ニ
o覇蔽
IP,￨■
l'1,'11^11:
誦 散型CI¨
ノテ ク ノ::ジ ー
I
￨
「
ス
￨111■ミ
] 'LI:L
lklⅢ I1 1,
,,1羹 11‐ ●
-
liイ ,11
,
シ
ロー グー
∃
品
￨
￨
︱
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￨
︱
︲
￨
ー ク
￨,力 ,ろ
′ズル ‖
し― ター
`ソ
人気開放型 Cヽ D法 は PDP υ)バ リア
=,な
1｀
フ→ こ 両 柔 場訂 ―
1 3tJ
第 2章
ナ ノ クラス ター 生成装置
日立造船
日立造船のナ ノ構造薄膜生成プ ロセスシステ
ムはクラスター ビーム を用 いた装置で 産業総
合技術研 究所 (産 総研 )、 東京大学 、甲子園金属
と共同開発 した t,の .
持 つ.図 1の よ うに クラ スター粒 子 は 着地 後
表面を拡散 し 安定な ナ /ブ ロ ック単位 と して
秩序構造 を形成す る。
従来の分子線 エ ビタキシー な どが平面方向に
ナ ノ構造 秩序 を形成す るの に対 し、クラス ター
SCCSで クラスター ピームを
ビーム を利用 したナ ′プ ロ ック秩序構造 は平面
一般 的に、クラ ス ター ビー ムに よるナ ノ構 造
秩序の形成 では 、ク ラ スター粒子 自身 は蒸着下
地材料の表面に着地す る前に安定な結 晶構造 を
方向に 1,立 体 方向に も拡 が る.こ のた め ナ ノ
プ ロ ック単位 で立体的秩序構 造 を形成 し ナ ノ
スケールで意 の ままの機 能性材料 を構築す るこ
●Ю
分 r練 ,ビ タキシー
クラ ス ター ヒ ー1、
に
次 It代 機 能性材 ￨￨
エ ネル ギーェ ミンタ
''こ
超 ,市 密 It磁 女、
記録
次 III代 デ ィスプ レィ
ト
レ薄 容 ￨ヽ キ ャ ′ヽシタ
1支
ヵ: r `〉
術
4′
沢
ナ ノプ ロ ック
平面n,秩 序精進
“
クラス ター ビーム 技術の材 料開発 における利点
140
「 PDと す ノテ クノロジー
イ ズな どの内部構造 を持 つ粒子 ビームであ り、
ナ ノ構 造秩序形成 には内部構造の揃 った クラス
る.SCCSで 生成 したサ イ ズの揃 つた シ リコン ク
ラス ター ビー ムを真空中 でアモル ファス炭素薄
‐
模 に蒸 着。そ の結果 、薄膜表 面上 で 径 2∼ 3nm
の シ リコン粒子が蒸若密度 の上昇 に したがって
ター ビー ムが 必要 にな る しか し 従 来 内部
構造を揃 えて クラスター ビームを生成す る こと
規則性 を増 して配コlす る過程を走査型透過電子
頭微鏡 でFt認 した (図 2).ク ラ ス ター粒子 で薄
は極 めて 困難 とされ て きた。また クラ スター
ビームの粒子 サイズを弁別す る とビー タ、
強度が
膜表面が 単層被覆 され た状 態 では 、
結晶固体の
とが期待 され ていた.
その一 方 、クラ スター ビームは クラ スターサ
弱 くな り、産業 分野 で求 め られ る スルー ブ ッ ト
には大 きく及 ばなか った.
l・
原子配列 と同様な碁盤 日格子構造 な どの規則1正
しい配
序 を自発的に形成 していた.
日立造船な ど4者 はク ラス ター ビー ムの粒子
サイ ズが クラ スターの成 長過程 にお する気相密
したナ ノ構造秩序 は下地構造 の影響 を受
確認 '1秩
けに くいアモル ファス炭素膜上に形力kさ れた も
ので、シ リコンクラス ター 粒子 向 上が 自発的 に
度や温度 条件 で決 まる こ とに着日 気相 中の衝
撃 波 を利 用 した クラス ター源 (SCCS写 真 1)を
秩序 を形 成す る ことを示す .こ れ は シ リコン ク
ラス ター粒 子が平両 方向のみ な らず 立体的 に
開発 した.SCCSに よ リクラ ス ターの成 長 条件 を
規定 し、サ イ ズの揃 った シ リコン クラ ス ター
ビー ムを生成す ることに成功 した
1,自 発的に秩序構造が形成 可能な ことを意味す
る.よ って クラ ス ター ビー ムに よる薄膜生成
の制御性 を高 めることで安定なナ ノブ ロ ックを
発見 され た 出発的 なナ ノ構造秩序形成 は 規
定 され たシ リコンクラ スター ビー ムの生成 によ
単位 とした立体的秩序構造が現実的 となる.
また 安 定な クラ ス ター粒 子 の配 夕1で は 結
クラ ス ター銃 SCCS
:41‐
￨
に ガス
scrs林 機 クラ ス ター成1に シ ステ ム
※ ‖1 サ イ ズ分 は クラ スター ビームの人 It
※衝撃l●
xを 和 した新 しい クラスター 1■ ■11御
"‖
シス テム の
「 POと ナ /テ ク ノロジー
141
晶 基板表面の清浄度や 平latの 影響 が比較的少
′は ヽ
二元成 分以上の化合物 クラスター
.さ らに 、
夕 超 高 密度 磁 気記録 、
次世 代 デ ィスブ レイ 極
薄高容 量 キャバ ンタな どへ の応 用が 見込 まれ て
粒子 が容易に生成 で きるため 二 元成分系以上
のナ ノ構造秩序 1,形
,ヽ
る.
成・T能 だ とい う
H●
蒸着機 を製作
L記 の成果を基に
日立造船が開発 した
の がナ ′構 造薄瞭生
成 フ ロセ スシステ′、
(写 真 1)で 、基板 上
ヽ H体 試料
ガス
「もi
シリコ
5m径 に シ リコン ク
ラ スター粒 子 を 1分
間 で単 層 被 覆 で き
る.こ の 結果 単 色
エ ネル ギー エ ミッ
● シ リコン妹
r
クラ ス ター ネ キス板
(ア モル ファ ス咲然 1に
)
図2シ リコンクラスター ビームによるナ ノ構造秩序の形成
EExpressォ リジナルポ ス ター 、新■
「絵 で見 る FF
TFT― LCD、
有機
PDP(プ ラ ズ マ デ ィ ス プ レ イ パ ネ ル )
ELデ ィ ス プ レ イ 、 FED(Field Emission
Display)の 製 造 フ ロー を 1枚 に凝 縮
FPD製 造 プ ロセ ス が グ ッと身 近 に
COHTE‖ TS
誰 で も わ か る よ う工 程 毎 に 断 面 図 を .L載
●a S TFT― LCD製 造 プロセス
■PDP製 遺 プロセス
・
一
一
一
一
一
一
一
〓
〓
一
一
一
一
一
一
一
T:
…
■有機ELデ ィスプレイ製造 プロセス
■FEO襲 遣 プロセス
ⅢⅢ
,
体裁 :カ ラー
サイズ :82ボ スターサイズ
発行日 12003年 3月 19曰
価格 11500曰 (消 費税込み )十 送料 (300円
販売 ￨イ ー
142
)
エ クス プ レス
「 PDと す ノテ ク ノ ロ ジー
第 3章 ナ ノパ ウダー粉砕・ 分散装置
アシザワ・ ファイ ンテック
同社の 湿式微粉砕 分散装 置 ￨ビ ー ズ ミルJti
年間 80台 前 後 とい う出荷実績 を誇 るベ ス トセ
ン ドしている.ジ ルコニア1上 耐磨お
t性 が高 く、コ
ン タ ミネー シ ョンが 起 こ りに くいた めである.
ビー ズ ミル で使 用す る粒径 は005∼ 2,LI上 で き
1ざ まだが ナ ノバ ウダー 用 ビー ス ミル「スター
ラー マ シン
そ の メカニ ズム は 図 lσ ,よ うに溶剤 な どに
対象バ ウダー を7FL合 した スラ リー をベ ッセ ル と
名´ た容器 内にボ ンフで導入.べ セ ル内に
ミルZRSJ「 ス ター ミルAMCJ「 ス ター ミルLllZ J
では業 界最小 の50 μmriジ ル Jニ アカЧ吏用で き
￨ン
'け
■てお り、
引 今砕 メデ ィアでル)る ビー ズが充填 さ′
ロー ター を高速いlrさ せること rょ って ビー ズ
の運動エ ネルギーを
高 め そのせんLtri
｀ウダー
ネルギー で′
る
-1,的 に ′｀ウダー を微細 に粉 砕す る場 合
一
′石
ー
対
象
^ウ グ
を粉砕・分散する.そ
して 、回 1又 した スラ
リー を‐ ―ザー で あ
=―
―
て(ブ ル ‐ =・ )
ヽ
る材料 メー カー が 所
・
:・ .,
餃 ￨. 分歌 さ,し た ′ヽウ グ
定 の 粘度や 濃度 に調
整 して イ ン クベンく―
ス トなどにする仕組
み
`
ビー ズは シ リカ系
の ガ ラ ス、アル ミナ 、
酸 化 チ タンオ￨ど きま
ざ まだ が 同 社 で は
ジル コニ ア を リコ メ
表け
ヽ ′ し ,し
図 1粉 砕 ‐分散 メカ ニズム
ノパ ウダー 用 スター ミルの仕様
機 11
ス ター ミル ヽ/
ス ター ミル 州 C
粉砕機 ll・
ヒ ン ロー ター
多イLデ ィス ク
描
ビー ズイ湖
,
ン ヤ フ トシー ル
':,
述 し分離 ス クリー ン
レンー ル
メカ ニ カ′
r111′ i.t
″朽1■ HI■ 1
ベ ンセ ル 容
0 6-― lF01
'1
t:fl)
r) /-7r/ni-
ス ター ミル ‖
縦 'FII
lV'11
避′
い分離￨ス ク リー ン
メカニ カル シー ル
価 瓜 ,イ ,0
グラ ン ト六 ′キ ン
′ヽス
03ヽ 11611
,■
クリ‐´ン
亡
ニ カ ル シー ル
メ カ`}"tス
ヽス
1 5,ヽ ヽ01
ビー ズ t,微 細 な 方が 望 tし い。微 小 ビー ズを使
用す る と体 積 当た りのバ ウ′― との接 触 面積が
れ ま 粒径 が コン トロー ル しに くく、そ の 分布
1,ブ ロー ドにな りゃ す いことを意味す る
増 え るほか 、
低 エ ネル ギ ー で微細 化 が 可能 にな
微 小 ビー ズを使用す る場 合、粉砕 分散 後 の
ビー ズ と′｀ウダー υ)分 離 1,問 題 とな るが これ
,
るた め こヴ,II果 粉 砕 効 率 が 大幅 に 向 ■す る
図 2は 世 径 3oO μ m 100μ m 50μ mの ジル コ
ニ ア ビー スを 用 い てTiOを 分散 し、そ の 分散 効
につ いて も独 自の ビー ズ分離機構 に にって ビー
ズ と′｀ウグー を完 全に分 離 す る こ Lが できる
.
の で 50μ mビ ー ズ こltllF動
率 を ,ヒ 較 した ヽ
′
六
力で ウ ダー が 分散 で きる ことが わか る
ビー ス ミル シ リー スに ま大流量循環 シ ステ
ム 七1ヽ う特 徴 t,あ る.図 3の 長うに ベ ッセ
●●ｔ
ル 内 で ス ラ リー を 20ヽ 30秒 間粉 砕 分散 処
理 した 後 循環 タ ン クで 冷却 し ■び ベ ッセ
，
ル 勺で粉 ll 分散す る仕組み 容 易に想像 で ￨
きる ように ビー ター を高速回転す る と摩擦
に 1● ,て
・ .熱 す るた ′,長 時間連続 処理 を」
る とバ ウダーク)特 性 が変千
ヒした り 低沸 点,容
斉1を 用 いてい る場 合は濃度 が 変化す る これ
に対 し 大流量循環 シ ステ ムの場 合、 ス ラ
リー を 大 流 量 で ,売 す
こ 11(二 ヽ´
,・ (′ (/セ
図2ビ ーズ径 の違 いによる粉砕効率
ル ●を通 過 す る時 間
を短 く し
度「 昇 を
￨お りする さ ら ニ タ
ン クで 冷 よ‖
す るた め
“
,駐
発熱 問題 が 少 な い.こ
の 循 Fli処 理 を繰 り返
リー タン ク
十 二 Jこ kり 微 粉 砕
が容 易にな る.
(わ ′て
171砕
が連
続 的 二i[行 す るた め
(o)OF環 延 1■
',式
図1グ )1う に ,径 を ヒ
ンホ イ ン トで設 定 で
き る とい う メ リ ッ ト
が ちる
これ に 対 し
一 般 的 な パ ス 方 式 σ)
スラ リー タン ク
場 合、図 4の よ うに粒
径 11バ ス回 数 に よ つ
て決 よるた ″,ビ ンボ
イ ン トで 設 定す る こ
(b)従 来方,ヽ (六 ス遊■￨
とは 下 ￨,能 で あ る.こ
l11
/テ ク ノロ ジー
「 1,七 十
コンベ ンシ ョナ ルなギャ ッフセ
^レ
ー タ方式は
ギャ ックの 間隙 によ リビー ズ とバ ウダー を分離
す るた め 微小 ビー ズになる とその 間隙調整 が
困難 にな る。さ らに 大流量 で循環処理 を行 う
と ビー ズがセ バ レー タで密 にな り 異常摩耗や
異常発熱が発生す る.
これ に 対 し、 ス ター ミル zRSで はす ノバ ウ
ダー 向 サとして遠心分離 回転 ス クリー ン法を採
システ ムに よつて粉 砕 分散 処理 を ク ロー ズ ド
・ノ
、で数 十回繰 り返す .ト ー タル 処理時 間
シ スラ
は′｀ウダーの種類や粒径によってさまざまだが
SnOの 場 合 4時 間 もあオtは 数 卜″m′ ヽウダー
を数十 nmに フ アイン化 で きる.図 6は Snoを
粉砕 した ときの粒 径変動 で 、4kWh1lonで lonm
強のナ ノ′｀ウダーが シャーフな粒度 分布で得 ら
用.具 体的 に は 11-タ ー 内 に ビー ズ径 の 112
∼1'3程 度 の 微細 な ス リッ トを表面に設 けた円
れ ることん,力 ヽ
る.
ス ター ミル ン リー ズの価格 は 500∼ 20oo万
円。用途 ￨す LCDの カ ラー フ ィル タ顔 料 、イ ン ク
筒 金 属 (ス ク リー ン)を 設 置す る こ とに よ つ
ビー ズは ス リッ ト内を通 り抜 けられないょ うに
ジェ ッ トブ リンテ ィング用顔 十1 メ タル バ ウ
ダー 、カーボ ンナ ノチ ュー プ (cNl)な どきまざ
す る一 方 ナ ノバ ウダー ￨す ス リン ト内 を通 り抜
ま.cヽ 1の 場 合 粉 砕 ではな く フ ァイ バー が
絡み合 った状態 を ときは ぐす用途で ニー ズが増
け るよ うにす る。この際 ヒー ズの衝 突 に よる
スク リー ンの摩耗や ス リッ トの 目詰 ま りを防 ぐ
ため 図5の よ うに ロー ター を回転 させ 遠 心 力
で ス ク リー ン近傍の ビー ズを iま じき飛 ばす.
大 してい る とい う.
近 年 FPD分 野に限 ら
ナ ノパ ウダーに対
'ヽ
このため 徴小 ビー ズで大 流量の循環処理 を
行 って ヽ
,、 ビー ズによるス クリー ンの摩 ltや
ス リ ッ トの 日詰 ま り、 異 常 発 熱 の ,心 商こか な
￨、
10nmク ラ ス に フ ァ イ ン 化 可 能
メカ的な特徴は以上の通 りだが、
実際にナ
ノパ ウダーに粉砕するには t,ち ろんプ ロセ ス
パ ラメー タを最適化する必要がある.前 記の
よ うに 、まず ビー ズ
粒径 と処 理時間の関係
は径 50 μmσ )フ ァ
イ ン ビー ズ を使 用
`
ベ ッセ ル 内 の ビー
ズ 充填 ￨ヒ 率 も 80∼
90%と
で き るだ け
高 くす る。 これ は 、
ロー タ
充填 比 率 が 高 い と
― ス ラ リー
粉砕 分散 効率 が 向
上す るた め。 また 、
遠心分離 ス ク リー ン
回転 撫 ,12∼ 15m/
secと 高速 化 す る.
そ して 、
前記 の 循環
は じきlllさ れ る ビー ズの流オ
■
図5遠 心分離 ス ク リー ン法
ド1'Dと ナ /テ ク ノ ロ ジー
145
Ｆ
効率1勺 な量産体制の整備が急務 と
な っ てい る.一 般 的 に す ノ
=っ
^ウ
くは液相法 です ノ
化 され るクー スが 多t、 tヽ わ ゆる
る真空法
t,し
，
ボ トムア ックフ ロセ スで こυ)場
合 ビー ズ ミル は粉砕 て はな く
囲
二
IIl
▲二
嘱
Ｉ ︶Ｗ 〓
`ヽ
，
ガ ス中蒸発法をは じめ とす
ダー
︲
てお り そブ,
す るニー ズが高
1
￨
凝集 した2次 粒■ を とき 1く して
1次 粒 子1二 十 る分散向 ナと して有
効 だ い うまで 1,な く ナ ′′ヽウ
ダー は凝集 しやす いた″,で ある.
…
01
i: ￨
lt iイ
￨ `)
( l
m,
図 6 Sn02パ ウダーの破砕様子
こσ)た め こ うした用途 で:ヽ ル,1,
か じめ分散却Iな どを添力Πした スラ リー を用 いて
ビー ス ミル で分散 し そ の 後、粘度や 主成分 ￠
濃度 を調整 して ベ ー ス ト化 イン ク化す る と
)
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これ さえあれば、電子 ペー パー &ペ ーバー ライクデ イスプ レイの構造、表示原理、製造 プロセス
がわかる
電子 ベー バー製造プ ロセス をC卜ROMで 完全図解
ファイルはインターネッ トエクスプロー ラーなどのブラウザ形式
なのでどんなPCで も見やす い
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ボ リュームはウ ェブペー ジ換算で39ペ ー ジ
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発行 ,2000年 5月 15日
フロー図はなん と 100以 上
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定価 ,19800「 l(消 費税男
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