ナノマテリアル情報提供シート

ナノマテリアル情報提供シート
材料名
カーボンナノチューブ
（試験研究用途）
事業者名
日本ゼオン株式会社
経済産業省
平成２３年３月時点
項目
概要
添付資料
備考
（測定方法等）
１〄MSDSの添付
２〄ナノマテリアルの特性
特性
々単層カーボンナノチューブ
々高強度、高柔軟性
々高熱伝導性
々高電流密度
々比表面積が大きい
添付無
有害性情報
現時点では試験研究用途にのみ使用される
ため、有害性試験は実施していない
添付無
結晶構造
黒鉛
凝集状態／分 製品中ではミクロンオーダーの凝集状態で
存在し、容易に最小構成サイズにならない
散状態
＜測定装置＞
添付無 ＳＥＭ
〆添付資料４
径〆１ｎｍ～５ｎｍ
平均一次粒径
長さ〆数μｍ～１〃０００μｍ
＜測定装置＞
ＦＴ－ＩＲ
添付有
ＴＥＭ、ＳＥＭ
〆添付資料４
製品形状
粉体
一次粒子は繊維状
比表面積
１〃０００程度
ｎｍ
μｍ
＜測定装置＞
添付有 ＴＥＭ、ＳＥＭ
〆添付資料４
m2/g
添付無 ＢＥＴ比表面積
化学組成
炭素（含有量〆９９％以上）
添付無
＜測定装置＞
ＴＧＡ
３〄ばく露情報
（１）製造々輸入に関する情報
105トン
製造々輸入量 (会員企業の平成21年度製造合計:
（年度毎）
NBCI調べ、トン未満切捨て)
製造量
（２）ばく露情報
主な用途
主な用途①
用途分類 電池（一次電池、二次電池）
試験研究用
詳細分類 電極材料（集電体、バインダー等）、減極剤
製造々加工施
研究室内でスーパーグロース法を用いて製
設及びプロセ
造している
ス
労働者のばく
露情報
作業〆ＣＮＴ合成、剥離作業
（ばく露対象者、 時間〆平均４時間／日々人
添付無
添付無
ばく露活動々時間
等）
工程からの環
境排出量
研究室のＣＮＴ製造所で使用されるＨＥＰＡフィル
ター付着物をラマン分光光度計で測定した結果、ＣＮ
Ｔは検出されなかった。
また、ＨＥＰＡフィルターを通過した排気ガスは、ス
クラバー通過後、大気に排出していることから、環境
への排出はないと判断している。
添付資料２
添付有 ＜測定装置＞
ラマン分光
添付資料２
計測技術と計 研究室のＣＮＴ製造所で使用されるＨＥＰＡフィル
ター付着物をラマン分光光度計で測定した結果、ＣＮ 添付有 ＜測定装置＞
測結果
Ｔは検出されなかった。
ラマン分光
４〄リスク管理の対策状況
ばく露々排出
抑制対策
１）ＣＮＴ取扱い
クリーンルーム内での作業であり、排気は
ＨＥＰＡフィルター、スクラバー経由で大気に
排出
２）ＣＮＴ製造装置
クリーンルーム内での作業であり、作業者とは
隔離されている
３）保護具
ウエア、手袋、マスク、ゴーグルの着用徹底
４）保管
密閉性の高い容器での保管
労働者への教 々作業従事者に対して、上記ばく露対策の説明、
保護具着用の徹底を実施
育
々関係官庁の動向説明
今後の対策等
今後大量に製造、使用する場合には、国内外の情報を
のロードマッ 調査し、ハザード評価等を実施する予定にしている。
プ
５〄ナノマテリアルの性質等に関する事業者のコメント
６〄その他
独立行政法人　新エネルギー々産業技術総合開発機構
（ＮＥＤＯ）プロジェクト（カーボンナノチューブ
キャパシタ開発プロジェクト）にて研究を実施
添付資料３
添付資料２
研究室のＣＮＴ製造所ＨＥＰＡフィルター調査
製造者
名称
近藤工業
Absolute Filter
Model 1LA-100
0.3μm粒子99.97%+捕集
使用期間
H17.2.28～H18.2.15
(353 days)
フィルタ総面積 13.0 m2
エア処理量
4080 m3/h
取り付け状態
単位面積(1m2)当たりのエア処理量総計
4080×24×353/13 = 2,658,905 m3/m2
取り外したフィルター
新品のフィルター
拡大
ラマン分光分析 ～ＨＥＰＡフィルタの直接分析～
フィルタ表面（７ヶ所測定平均）
フィルタ裏面
（バックグラウンドとして測定、
３ヶ所測定平均）
マクロ測定（測定エリア＝約5e-8 m2）
スーパーグロース法で作製した
単層ＣＮＴ
（ＨＥＰＡフィルター付着物でなく、別途単層
ＣＮＴを直接測定した結果）
ＨＥＡＰフィルターに付着した単層ＣＮＴは検出限界以下
ラマン分光分析 ～ＨＥＰＡフィルター付着ダストの測定～
フィルター片（41 cm2）からダストを抽出
（エタノールに浸して超音波処理
→孔径0.2μmのメンブレンで濾過）
抽出したダスト
フィルタ表面
フィルタ裏面
スーパーグロース法で作製
した単層ＣＮＴ
抽出したダストのラマンスペクトル（前ページの図にスペクトルを追加）
ＨＥＡＰフィルター抽出ダストを測定しても単層ＣＮＴは検出限界以下
添付資料３
単層ＣＮＴ製造（スーパーグロース法）におけ
る安全管理
＜単層ＣＮＴ製造プロセス＞
基板の準備
CNT合成
CNTの分離
保管
ＣＮＴ合成（ＣＶＤプロセス） ～合成室～
◆作業はクリーンルーム内で行われており、
作業者は粉塵から防御されています。
◆種々のガスセンサおよび酸素濃度
計が設置され、常に外部からモニタ
リングされています。
ＣＮＴ合成（ＣＶＤプロセス） ～合成装置～
◆合成装置はクリーンルーム内専用フード内に置かれ、
操縦者から隔離されています。
◆合成装置は安全機構を備え、
障害が発生した場合は緊急停
止します（上）。
◆フード内にはガス検知器が設置
され、漏えいに備えます（下）。
ＣＮＴの分離・収集
基板の回収
CNTの分離
◆基板の回収およびCNT分離の際には、ウェア、手袋、マス
ク、ゴーグルの着用とピンセットの使用によりCNTの人体へ
の暴露を防ぎます（左上）。
◆合成されたCNTはドラフト内で基板から分離収集されます
（上中央・左）。
◆CNTは容易に基板から分離できます（右上）。
◆分離後も塊状を維持し、飛散しません（右上）。
ＣＮＴ資料の保管
◆CNTは密閉性の高い容器に収容され、保管されます。
添付資料４
単層ＣＮＴ 外観、ＳＥＭ、ＴＥＭ写真
単層ＣＮＴ外観
単層ＣＮＴ ＳＥＭ写真
単層ＣＮＴ ＴＥＭ写真