ものつくり フォトリソ・マニュアル

ものつくり フォトリソ・マニュアル
2006/6/12
ver.2
[立ち上げ及び使用法]
1． 靴を履き替えて入室
2． 蛍光灯他、部屋の電灯スイッチを ON（3 カ所）
3． 換気扇が回っていることを確認する（ノートに記帳）
。
4． ブレーカーを確認する（通常はついている）
5． 圧縮空気コンプレッサ（大）を ON、自動で止まるまで待機する
6． 窒素ボンベOPEN、（残圧が１MPaをきっていたら使用不可とする、ものつくりセンタ
ーのスタッフに連絡：竹内さん、塚田さん、横小路さん）
窒素ボンベの開け方
A. 2 次側バルブ閉を確認。B. 元栓を開く。C. 2 次側バルブを開く。D. 1 次側圧力と 2
次側圧力をノートに記帳する。
2 次圧
１次圧
元栓
2 次側バルブ
これは動かさない
写真（N2 ボンベ）
7． フォトリソ本体右下のコンプレッサ（小）ON
8． ランプメインスイッチ ON（本体奥の左側）
9． 本体電源 ON（左右２つある。左、右の順番で）。マスクをセットするまでブザーが鳴る
が気にしない。
10． 顕微鏡用ランプ ON
○で OFF,
―で ON
光源ランプスイッチ、(本体の奥のほう)
本体電源（右）
本体電源（左）
顕微鏡ランプ
写真(電源スイッチ周辺)
11． 液晶パネルが点灯する。
【→】を押せばメニューが出る。
12． マスクをセット、液晶パネルのマスクバキューム ON（長押し）
。ブザーが消えること
を確認する。
13． レジストを塗布したサンプルをセット。（レジスト塗布法は別項参照）
14． サンプルステージ上下用(Z 方向)のダイヤルを十分下ろす（時計回り、down の方向）。
写真（サンプルステージ上下運動用ダイアル）
15． 液晶パネル上【setting】を選択【WECsetting】画面で選択
16． コンタクトレバー上げる（up）
。
17． サンプルステージ用のダイヤルを上げる（up）。
18． 液晶パネルに「move～」と表示されるまでサンプルステージ用のダイヤルを回し（up、
目盛りで 4 位を指す）
、表示されたら 2 回転戻す（down）
。
19． コンタクトレバーを戻す（down）
。
20． 【←】を押して、メインメニューに戻る。
21． 【setting】
【exposure setting】の順に押し、露光法を選択
写真（コンタクトレバー）
写真（液晶部分）
･マスク合わせが必要無いとき
1.
【flood exposure】を選択、露光時間入力後（例えば 20s）
【←】を押してメインに戻る。
2.
コンタクトレバーを上げる（up）と露光が自動的に開始する。
3.
コンタクトレバーを戻す（down）
。サンプルステージ用のダイヤルを十分下げる（down、
15 位まで）
。
4.
サンプルを取り出す。
･マスク合わせが必要なとき
1.
【Align and exposure】を選択、【Exposure time】で露光時間入力後（例えば 20s）【←】
を押してメインに戻る。
2.
コンタクトレバーを上げる（up）。
3.
セパレーションレバーを下げる（down）。
写真（セパレーションレバー）
4.
マスク合わせを行う。サンプルステージを X,Y,回転の 3 つの調整ねじを用いてあわせる。
ステージ X 方向
ステージ Y 方向
ステージ回転
顕微鏡 X 方向
顕微鏡 Z 方向
顕微鏡 Y 方向
顕微鏡、回転
顕微鏡、X 方向(細かく動く)
顕微鏡フォーカス
写真（フォーカス、ステージ X,Y, Z のバーニア）
5.
マスク合わせが完了したら、セパレーションレバーを上げる（up）。
6.
【Alignment Check】を押す。
7.
【Exposure】を押し露光開始。
8.
YES を押すと、露光が開始する。
9.
露光が完了したら、コンタクトレバーを戻す（down）。サンプルステージ用のダイヤル
を十分下げる（down、15 位まで）
。
10. サンプルを取り出す。
[たち下げ]
1. マスクを外す。液晶パネルのマスクバキューム ON 長押し。OFF に変わると外れる
2. メイン画面に戻る。
3. ランプのメイン電源 OFF（本体奥の左側）
4. 【←】を押して、SUSS Microtech の画面まで戻る。
5. 本体右側の電源を OFF、10 分待機する。
6. 10 分後、自動的に液晶画面が消える。
7. コンプレッサー（小）を OFF
8. 顕微鏡用ランプを OFF
9. 本体左側のメイン電源 OFF
10. 窒素ボンベ CLOSE。2 次側バルブと元栓を閉める。1 次側圧力を記帳する。
11. コンプレッサー（大）を OFF
12. 終了記録をつける。（最終確認をきちんとすること!!）
[レジストの塗布および現像方法（一例）]
[立ち上げ]
1. ドラフト A を ON
2. ホットプレート A, B の電源 ON、温度を設定し、ヒータ運転にする。
（例えば：A 110℃、B 120℃）
3. スピナーの電源および机の下にあるコンプレッサ ON
4. スピナー内部にベンコットを敷く
5. スピナーヘッドをアセトンで拭く
[塗布]
6. サンプルをホットプレート A 上に置き水分を飛ばす。
（5～20 分が目安）
7. 回転数と時間を合わせる。
（例えば、1st 1000rpm, 10s, 2nd 5000rpm, 50s）
8. スピナーを使いサンプルにレジストをスピンコートする
9. ホットプレート A 上にサンプルを置きプリベークを行う。
（例えば、110℃、90s）
10. 終了後、ホットプレート A, スピナー、コンプレッサ OFF
11. スピナーヘッドは、アセトンで拭き、綺麗にする。
12. ドラフト A を OFF
13. 露光装置を用いて、露光を行う。
14. ドラフト B を ON
15. 現像液を用いて現像する。
16. ホットプレート B 上に基板を置き、ポストベークを行う。
（例えば、120℃、300s）
17. 終了後、ホットプレート B を OFF
18. ドラフト B を OFF
※レジストの塗布に関してはレジストにより条件が異なるので、各自スピンナー回転
数、露光時間、現像条件などを確認して使用すること。