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ものつくり フォトリソ・マニュアル

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ものつくり フォトリソ・マニュアル
ものつくり フォトリソ・マニュアル
2006/6/12
ver.2
[立ち上げ及び使用法]
1. 靴を履き替えて入室
2. 蛍光灯他、部屋の電灯スイッチを ON(3 カ所)
3. 換気扇が回っていることを確認する(ノートに記帳)
。
4. ブレーカーを確認する(通常はついている)
5. 圧縮空気コンプレッサ(大)を ON、自動で止まるまで待機する
6. 窒素ボンベOPEN、(残圧が1MPaをきっていたら使用不可とする、ものつくりセンタ
ーのスタッフに連絡:竹内さん、塚田さん、横小路さん)
窒素ボンベの開け方
A. 2 次側バルブ閉を確認。B. 元栓を開く。C. 2 次側バルブを開く。D. 1 次側圧力と 2
次側圧力をノートに記帳する。
2 次圧
1次圧
元栓
2 次側バルブ
これは動かさない
写真(N2 ボンベ)
7. フォトリソ本体右下のコンプレッサ(小)ON
8. ランプメインスイッチ ON(本体奥の左側)
9. 本体電源 ON(左右2つある。左、右の順番で)。マスクをセットするまでブザーが鳴る
が気にしない。
10. 顕微鏡用ランプ ON
○で OFF,
―で ON
光源ランプスイッチ、(本体の奥のほう)
本体電源(右)
本体電源(左)
顕微鏡ランプ
写真(電源スイッチ周辺)
11. 液晶パネルが点灯する。
【→】を押せばメニューが出る。
12. マスクをセット、液晶パネルのマスクバキューム ON(長押し)
。ブザーが消えること
を確認する。
13. レジストを塗布したサンプルをセット。(レジスト塗布法は別項参照)
14. サンプルステージ上下用(Z 方向)のダイヤルを十分下ろす(時計回り、down の方向)。
写真(サンプルステージ上下運動用ダイアル)
15. 液晶パネル上【setting】を選択【WECsetting】画面で選択
16. コンタクトレバー上げる(up)
。
17. サンプルステージ用のダイヤルを上げる(up)。
18. 液晶パネルに「move~」と表示されるまでサンプルステージ用のダイヤルを回し(up、
目盛りで 4 位を指す)
、表示されたら 2 回転戻す(down)
。
19. コンタクトレバーを戻す(down)
。
20. 【←】を押して、メインメニューに戻る。
21. 【setting】
【exposure setting】の順に押し、露光法を選択
写真(コンタクトレバー)
写真(液晶部分)
・マスク合わせが必要無いとき
1.
【flood exposure】を選択、露光時間入力後(例えば 20s)
【←】を押してメインに戻る。
2.
コンタクトレバーを上げる(up)と露光が自動的に開始する。
3.
コンタクトレバーを戻す(down)
。サンプルステージ用のダイヤルを十分下げる(down、
15 位まで)
。
4.
サンプルを取り出す。
・マスク合わせが必要なとき
1.
【Align and exposure】を選択、【Exposure time】で露光時間入力後(例えば 20s)【←】
を押してメインに戻る。
2.
コンタクトレバーを上げる(up)。
3.
セパレーションレバーを下げる(down)。
写真(セパレーションレバー)
4.
マスク合わせを行う。サンプルステージを X,Y,回転の 3 つの調整ねじを用いてあわせる。
ステージ X 方向
ステージ Y 方向
ステージ回転
顕微鏡 X 方向
顕微鏡 Z 方向
顕微鏡 Y 方向
顕微鏡、回転
顕微鏡、X 方向(細かく動く)
顕微鏡フォーカス
写真(フォーカス、ステージ X,Y, Z のバーニア)
5.
マスク合わせが完了したら、セパレーションレバーを上げる(up)。
6.
【Alignment Check】を押す。
7.
【Exposure】を押し露光開始。
8.
YES を押すと、露光が開始する。
9.
露光が完了したら、コンタクトレバーを戻す(down)。サンプルステージ用のダイヤル
を十分下げる(down、15 位まで)
。
10. サンプルを取り出す。
[たち下げ]
1. マスクを外す。液晶パネルのマスクバキューム ON 長押し。OFF に変わると外れる
2. メイン画面に戻る。
3. ランプのメイン電源 OFF(本体奥の左側)
4. 【←】を押して、SUSS Microtech の画面まで戻る。
5. 本体右側の電源を OFF、10 分待機する。
6. 10 分後、自動的に液晶画面が消える。
7. コンプレッサー(小)を OFF
8. 顕微鏡用ランプを OFF
9. 本体左側のメイン電源 OFF
10. 窒素ボンベ CLOSE。2 次側バルブと元栓を閉める。1 次側圧力を記帳する。
11. コンプレッサー(大)を OFF
12. 終了記録をつける。(最終確認をきちんとすること!!)
[レジストの塗布および現像方法(一例)]
[立ち上げ]
1. ドラフト A を ON
2. ホットプレート A, B の電源 ON、温度を設定し、ヒータ運転にする。
(例えば:A 110℃、B 120℃)
3. スピナーの電源および机の下にあるコンプレッサ ON
4. スピナー内部にベンコットを敷く
5. スピナーヘッドをアセトンで拭く
[塗布]
6. サンプルをホットプレート A 上に置き水分を飛ばす。
(5~20 分が目安)
7. 回転数と時間を合わせる。
(例えば、1st 1000rpm, 10s, 2nd 5000rpm, 50s)
8. スピナーを使いサンプルにレジストをスピンコートする
9. ホットプレート A 上にサンプルを置きプリベークを行う。
(例えば、110℃、90s)
10. 終了後、ホットプレート A, スピナー、コンプレッサ OFF
11. スピナーヘッドは、アセトンで拭き、綺麗にする。
12. ドラフト A を OFF
13. 露光装置を用いて、露光を行う。
14. ドラフト B を ON
15. 現像液を用いて現像する。
16. ホットプレート B 上に基板を置き、ポストベークを行う。
(例えば、120℃、300s)
17. 終了後、ホットプレート B を OFF
18. ドラフト B を OFF
※レジストの塗布に関してはレジストにより条件が異なるので、各自スピンナー回転
数、露光時間、現像条件などを確認して使用すること。
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