パルス発振全固体レーザ (フェムト秒/ピコ秒/ナノ秒)

全固体パルス発振レーザを用いた微細加工応用例
All-Solid-State（PULSE）
fs
ns ナノ秒発振レーザによる加工 ピコ秒発振レーザによる加工 フェムト秒発振レーザによる加工
ps
マーキング ns
全固体レーザ
優れたパルス安定性により、より繊細なマーキングを実現。半導体のソフトマーキングからIDカードまで幅広い応用に適応。
パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
Qスイッチ全固体パルスレーザは、従来のランプの代わりに高出力LDを励起光に採用し、長期メンテナンスフ
リーを実現します。コンパクトで省電力でありながら高ピークパワー、高品質ビームモード等の特長により、従来
のランプ励起タイプに比べ、より高速で精密な加工を実現します。UVからIRまでの豊富な波長、またナノ秒から
フェムト秒までの広範囲なパルス幅ラインアップから最適なモデルをご選択ください。
フェムト秒
発振レーザ fs
1
MHz
p 27
フリップチップ
太陽電池（ソーラーセル）加工 ns ps
Talisker 1000
25W @ 1064 nm
15W @ 532 nm
10W @ 355 nm
p 31
眼鏡レンズ
IDカード
ガラス基板上の導電膜除去 ns ps
薄膜太陽電池のスクライブや結晶セルのエッジアイソレーション、
孔あけ加工に最適。
ピコ秒発振レーザ ps
Monaco
40W @ 1035 nm
Monaco
20W @ 517 nm
Siウエハ（ソフトマーク）
HyperRapid NX
100W @ 1064 nm
50W @ 532 nm
30W @ 355 nm
p 29
RAPID NX
7W @ 1064 nm
（除去幅：30 µm）
結晶シリコン太陽電池のエッジアイソレーション
p 30
シリコンウェハの孔あけ ps
PETフィルム上の導電膜除去 ps
1：DST=43.67 µm
500
kHz
ナノ秒発振レーザ ns
Talisker Ultra
16W @ 1064 nm
8W @ 532 nm
4W @ 355 nm
RAPID FX
100 µJ @ 1030 nm
p 31
p 28
AVIA NX 355
∼ 40W @ 355 nm
p 35
サブナノ秒
発振レーザ sub
ns
MATRIX 355
1 ∼ 8W @ 355 nm
Helios
4W @ 532 nm
p 34
p 33
繰返周波数
Talisker HE
10W @ 1064 nm
6W @ 532 nm
2W @ 355 nm
p 31
SEMでの画像
p 35
ステンレス合金の孔あけ fs
Helios
6W @ 1064 nm
100
kHz
AVIA NX 532
∼ 65W @ 532 nm
サファイアの孔あけ ps
ポリイミド孔あけ ns ps
MATRIX 532
7 ∼ 14W @ 532 nm
p 34
MATRIX 355-M1
0.5W @ 355 nm
MATRIX 1064
1 ∼ 10W @ 1064 nm
p 34
p 34
200 µm
FLARE NX
500 µJ @ 1030 nm
FLARE NX
300 µJ @ 515 nm
ホウケイ酸ガラスの任意形状加工 ps
1 mm
ウェハドリリング／ダイシング ns ps
無アルカリガラスのスクライビング ps
REVOLUTION
15 ∼ 80W @ 527 nm
FLARE NX
100 µJ @ 343 nm
p 59
p 33
1
kHz
（除去幅：30 µm）
7 µm
2 mm
fs
ps
ns
レーザでシリコンウェハを高速で切断したり、小径孔
を作成する手法が注目されています。
パ ル ス 幅（秒）
25
http://www.coherent.co.jp/
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
26
2017
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
Monaco
RAPID FX
産業用 高出力フェムト秒発振レーザ
産業用 高エネルギーフェムト秒発振レーザ
Monacoは、堅牢性の高いLD励起MOPAデザイン、オシレータ部とアンプ部が
一体化されたワンボックス構造で、24時間稼働の生産用途に最適なモデルで
す。40 µJ（1035 nm）、20 µJ（517 nm）を1 MHzという高い繰返周波数で発振し､
微細加工における生産スループットの向上に、将来にわたって貢献します。
Monacoの持つ400 fsという超短パルスは、樹脂や薄膜の切断、シリコンウェハ
のスクライビング、モバイル機器用の強化ガラスの切断などにおいても高品位
加工を実現し、また10 psまでのパルス幅調整が可能なオプションモデル（IRモ
デル）も揃えています。
⃝ フェムト秒高出力：400 fs, 40W（40 µJ @ 1035 nm）, 20W（20 µJ @ 517 nm）
⃝ 幅広い繰返周波数：シングルショット ∼ 1 MHz、∼ 4 MHz
⃝ パルス幅可変オプション可能（400 fs ∼ 10 ps）
⃝ 優れたビーム質（M２＜1.2）
⃝ 完全密閉筐体のワンボックス設計
⃝ 高加速寿命試験（HALT）、加速ストレス性能試験（HASS）を採用
⃝ イーサネット接続によるリモートアクセスが可能
RAPID FXは、既存のRAPIDシリーズの極短パルスモデルとして登場したフェムト
秒発振レーザです。波長1030 nm、平均出力＞10W@100 kHzまたは200 kHzで、
様々なアプリケーションに対応すべく、内蔵AOMプロセスシャッターや外部トリ
ガー制御により、シングルショットからのパルス選択も可能です。
ファイバーシードレーザと安定性の高い増幅部の組み合わせにより、優れた
ビームクオリティを長期にわたり実現します。さらに、パルス間エネルギー安定
性、ビーム位置安定性ともに、微細加工用フェムト秒レーザの中で最高レベル
のパフォーマンスを提供します。
アプリケーション
■ 薄膜アブレーション
ガラス切断、ドリリング
■ 多層膜の加工
ウェハスクライビング
■ 高精細な金属へのマーキング、
切断
■ ステント等の医療用インプラントの精密形成
■ 眼科応用
■
■
⃝ フェムト秒高パルスエネルギー：∼100 µJ @ 100 kHz（10W @ 1030 nm, 900 fs）
⃝ 高繰返周波数：∼ 200 kHz
⃝ パルスオンデマンド機能
⃝ 優れたビーム質（M2 ＜1.3）
⃝ AOMプロセスシャッター内蔵
⃝ 産業用要件をみたす高い安定性と高信頼性設計
アプリケーション
自動車などの燃料噴射用インジェクションノズルの穴あけ
ステント等の医療用インプラントの精密形成
■ Low-kスクライビング
■ ガラス、
サファイア基板の微細加工
■
■
パルス時間波形の参考（オプションモデルによるパルス幅可変、400fs ∼ 10 ps）
環境温度に対する出力安定性
コマンド通信およびGUIソフトによるリモート制御・診断
RAPID FX
仕様
GUIインタフェース画面
（過去のログデータ閲覧管理が可能）
中心波長
nm
1030±5
平均出力
W
＞10
最大パルスエネルギー
µJ
パルス制御機能
Monaco 1035-40-1
仕様
中心波長
Monaco 1035-6-1
1035±5
nm
517±5
平均出力
W
40
6
20
出力エネルギー
µJ
40 @ 1 MHz
30（最大）
20 @ 1 MHz
シングルショット ∼ 1 MHz
繰返周波数
パルス幅
＜400
fs
400 fs ∼ 10 ps
オプションモデルにおけるパルス幅調整範囲
ビーム径（出射口）
非点収差
パルスピッカーでのダイナミックパルス制御（標準搭載）
fs
２
モード品質
ビーム径（出射口より1mの位置）
M ＜1.3
mm
偏光
5.0±0.5
垂直、＞100:1
パルスエネルギー安定性
% rms
平均出力安定性（＞8h）
% rms
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
＜900
mm
＜2（100 kHz, シングルショット）
＜2
692 x 302 x 275.5 / 49.5 kg
TEM 00（M ＜1.2）
mm, 1/e
2
3.0±0.3
2.0±0.2
±25
%
偏光
垂直、＞100:1
パルスエネルギー安定性
% rms
出力安定性（2σ）
% rms
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
─
パルス幅
２
モード品質
27
Monaco 517-20-1
100 @ 100 kHz
100 kHz（標準）, 200 kHz（オプション）
繰返周波数
mm
＜2
＜2
635 x 340 x 168 / 32 kg
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
http://www.coherent.co.jp/
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※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
28
2017
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
HyperRapid NX シリーズ
RAPID NX
高出力、産業用ピコ秒レーザの次世代モデル
産業用小型ピコ秒発振レーザ
HyperRapid NXは、従来のHyperRapidシリーズが持つ機能性を持ちながら、
RAPID NXシリーズで実績のあるモジュラー構造およびエレクトロニクス内蔵一
体型というコンセプトを備えた最新プラットフォームのレーザです。世界に誇る
産業用ピコ秒レーザの設計、製造技術と10年以上にわたる経験を活かし、アッ
プタイムやパフォーマンス、信頼性のあらゆる従来性能を向上させた次世代モ
デルです。
⃝ 発振波長： 1064 nm, 532 nm, 355 nm
⃝ 最大出力： 100W（IR）、50W（グリーン）、30W（UV）
⃝ 最大パルスエネルギー： 250 µJ（パルス幅典型値10 ps）
⃝ 最新のパルス制御機能
⃝ 25 ns間隔のパルス群を、任意のパルス数や周波数で設定が可能
⃝ 高繰返周波数（*2 MHzモデルは特注にて対応）
⃝ トリガーモードによるパルスごとの時間やエネルギー制御
⃝ 長寿命設計（UVモデル含む）
RAPID NXシリーズは、多くの精密加工市場で要求される品質とコストの両立
を見据え、コストダウンをも実現した次世代産業用ピコ秒レーザです。
既存RAPIDシリーズのパルスコントロール機能やバーストパルス機能を継承し
ながらも、装置搭載に留意した小型・軽量化を実現し、また産業用レーザの
コンセプトとして24時間稼働を前提とした設計になっています。本製品の誕
生により、加工用超短パルスレーザの高価なイメージを一掃し、産業用途へ
の更なる導入の可能性を拡げます。
アプリケーション
強化ガラス、サファイア、セラミックなどの難加工材料の
切断や穴あけ加工
■ 分岐されたマルチビームによる広範囲な表面加工や
微細加工
■
⃝ コンパクトで経済的な設計
⃝ 小型ヘッドサイズ（460 x 330 x 180 mm, 28 kg）
⃝ 平均出力（@ 1000 kHz）：7W（@ 1064 nm）
⃝ 繰返周波数： 50 kHz ∼ 1 MHz
⃝ 最大パルスエネルギー： 50 µJ
⃝ パルス数の任意設定可能
⃝ レーザパルス制御機能（Seeder Burst）搭載
⃝ 高ビーム品質：M２＜1.3
アプリケーション
各種精密微細加工
太陽電池加工
■ 特殊マーキング
ガラス加工
金属加工
■ LEDダイシング
■
■
■
■
RAPID NXシリーズの特長：「レーザパルス制御」
レーザパルス制御機能
Seeder Burst機能
加工工程を自動化するための様々なパルスコントロール機能により、繰返周波数やパルス数を、個別に任意設定することが出来ます。
また、材料依存の高い加工を可能にするレーザパルス制御機能（Seeder Burst）を兼ね備えています。
パルスコントロール機能の概念図
パルスをスプリットすることにより25 nsec間隔のパルス群を形成
（最大6パルスまで）
繰返周波数やパルス数、またパルス強度の任意設定が可能
Seeder Burst機能における出力推移
Seeder Burst機能
25 ns間隔のバーストパルス群を、
レーザ繰返周波数 1 MHzで出力した図
12
10
出力
8
Pulse
picker
Seed
Power
Amplifier
Pulse
modulator
Gate/Trigger
Energy control
Pulse phase control
Total
Pulse
Control
Pulse rate division
Clock out
Seeder burst control
Process burst
control
6
4
1000 kHz
500 kHz
200 kHz
2
0
1
2
HyperRapid NX
最大出力
W
7W @ 1 MHz
最大パルスエネルギー
µJ
50 @ 50 kHz
532
355
1064
532
355
平均出力
W
＞50
＞25
＞15
＞100
＞50
＞30
繰返周波数
µJ
＞250
＞125
＞75
＞250
＞125
＞75
パルス幅
繰返周波数
kHz
パルス幅
200 ∼ 1000
400 ∼ 1000
ビーム径（2m先で計測）
mm
パルス間安定性（1σ）
% rms
レーザヘッド寸法（LxWxH）
mm
ps
M ＜1.3
パルス間安定性
5.0±0.5
平均出力安定性（＞8h）
垂直
水平
垂直
水平
＜1
＜2
＜1
＜2
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
10 ∼ 15
２
M ＜1.3
mm
偏光（垂直）
２
偏光方向
29
ビーム径
＜15
モード品質
50 kHz ∼ 1 MHz
モード品質
0 ∼ 1000
ps
RAPID NX
1064.5±0.5
1064
kHz
6
nm
nm
繰返周波数（Amplifier部分）
5
仕様
発振波長
最大パルスエネルギー
4
バーストパルス数
中心波長
仕様
3
100 kHz
50 kHz
1±0.2
＞100:1
% rms
%
mm
＜1 ＠ 1 MHz
＜±1
460 x 330 x 180 / 28 kg
845 x 600 x 244.5
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
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2017
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
温度ドリフト時の出力安定性
Talisker シリーズ
パルスエネルギー
Talisker Ultra 355-4
Talisker 1000
高繰返し、高出力産業用全固体ピコ秒発振レーザ（UV/グリーン/IR）
Taliskerシリーズは、短パルス（＜15 ps）かつ、高繰返周波数（最大1000 kHz）発
振がマイクロジュールレベルのパルスエネルギーのもとに得られ、かつ産業組
込用途に耐えうる高信頼性を同時に実現した次世代精密微細加工用に最適な
全固体ピコ秒発振レーザです。
ファイバーレーザ（オシレータ）とフリースペース共振器（アンプ）を組み合わ
せた独自の設計コンセプトにより、コンパクトかつ戻り光に強く、長期にわたり
完全メンテナンスフリー動作を実現します。マイクロエレクトロニクスやその他
の産業応用で求められる、熱影響を最小限に抑えた精密微細加工が高スルー
プットのもとに実現出来る産業用全固体ピコ秒レーザです。
⃝ ファイバーレーザをベースにした最先端技術
ビーム位置安定性（X軸及びY軸）
優れたビームクオリティ
Talisker Ultra 532-8
532 nm SHG （典型）
355 nm THG （典型） アプリケーション
⃝ 優れた空間モード（M２＜1.3）
⃝ パルス幅：＜15 ps
ピコ秒レーザによる微細加工
非金属加工 （樹脂・半導体）
■ インクジェットノズル穴加工
⃝ パルス間安定性（1σ）：＜5% rms（355 nm発振の場合）
■
■
■
■
ガラス加工
金属加工
⃝ ソフトウェアからの切替で発振波長選択が可能（Ultraのみ）
⃝ 内部搭載AOMによる繰返周波数制御
Typical SHG 532 nm M2 ∼ 1.1
⃝ 高信頼性（ファイバーレーザ＋フリースペースアンプ採用）
⃝ 完全シールド構造で高信頼性、フィールドモジュール交換可能
Typical THG 355 nm
⃝ 過酷な出荷前検査を全ユニットに実施
⃝ GUI及びRS-232インタフェースを標準装備
⃝ AAA（アルミニウムフリー）レーザダイオード使用により長寿命
Talisker HE
高繰返しモデル
Talisker HE：単波長発振・高エネルギーモデル
仕様
⃝ パルスエネルギー：＞180 µJ（@ 1064 nm）、＞100 µJ（@ 532 nm）
⃝ ピコ秒パルス発振による高ピークパワー
Talisker 1000：単波長発振・高繰返し・高スループットモデル
Talisker 1000
⃝ 繰返周波数：1000 kHz
⃝ ピコ秒パルス発振による高ピークパワー
1064-25
発振波長
nm
平均出力
W
パルス幅
ps
最大パルスエネルギー
µJ
繰返周波数注1 ）注2 ）
Talisker Ultra：3波長（UV/グリーン/IR）発振モデル
Talisker 1000
1064
% rms
平均出力安定性（＞8 h）
% rms
355-10
1064-10
15
10
10
355
50
532-6
355-2
6
2
532
355
30
20
180
＜2
＜3
100
30
シングルショット ∼ 50
＜5
＜2
＜3
＜5
2.2±0.4
1.7±0.3
＜2
TEM00（M２＜1.3）
ビーム径（1/e ）
mm
２
Talisker Ultra
1064
シングルショット ∼ 1000
空間モード
⃝ 繰返周波数：200 kHz
⃝ コマンド通信だけでUV、グリーン、IRの出力が選択でき、
アプリケーション開発に最適
Talisker HE
＜15
kHz
パルス間安定性（1σ）
532-15
532
25
高エネルギーモデル
3.0±0.6
2.2±0.4
1.7±0.3
偏光
3.0±0.6
リニア垂直（＞100：1）
レーザヘッドの冷却
循環水冷式
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
1040 x 418 x 169 / 75 kg
mm
ピコ秒レーザ導入のメリット
⃝ マイクロクラックの低減
⃝ 再凝固したデブリの低減
⃝ 材料を蒸発させることにより優れた加工結果を実現
CWパルス
ナノ秒パルス
ピコ秒パルス
パルス幅の違いによる加工のメカニズム
ピコ秒パルス
Heat Affected Zone（HAZ）
ナノ秒パルス
バリがない
熱影響部分
熱影響を
低減
仕様
発振波長
nm
平均出力
W
パルス幅
ps
繰返周波数注2 ）
溶融物が射出
溶融プールを
形成する。
1064-16
1064
1064
16
16
% rms
平均出力安定性（＞8 h）
% rms
ビーム径（1/e２）
Time
8
16
355-4
532
8
355
4
＜5
＜2
TEM00（M２＜1.3）
mm
2.0±0.5
1.4±0.3
2.0±0.5
リニア水平（＞100：1）
レーザヘッドの冷却
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
材料の周辺に
殆ど熱的ダメージが生じない。
1064
＜2
偏光
殆ど溶融プール
が生じない。
532
シングルショット ∼ 200
空間モード
熱伝導により、材料の
周辺に熱的な損傷が生じる。
Talisker Ultra
＜15
kHz
パルス間安定性（1σ）
532-8
1.4±0.3
1.3±0.3
リニア垂直
（＞100：1）
循環水冷式
mm 743 x 393 x 169 / 68 kg
1029 x 418 x 173 / 75 kg
注１）バーストモードにも対応可能。お問い合わせください。
注２）内蔵AOMによる指定発振も可能。
ピコ秒レーザは、熱影響の少ない精密微細加工を実現します。
31
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
http://www.coherent.co.jp/
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※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
32
2017
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
Heliosシリーズ
MATRIX シリーズ
小型全固体アクティブQスイッチ短パルスレーザ
全固体Qスイッチパルスレーザ（UV/グリーン/IR）
短パルス（約600 ps）を特長とするHeliosシリーズは、非常にコンパクトな筐体
でありながら、高い平均出力と高いピークパワーを実現します。各種エレクトロ
ニクスや太陽電池産業で求められる高品位加工、高スループットを可能にする
小型全固体アクティブQスイッチ短パルスレーザです。
Type A
⃝ 平均出力： ∼ 3.75W @ 532 nm、∼ 6W @ 1064 nm
⃝ パルス繰返し周波数：シングルショット ∼ 125 kHz
⃝ 小型設計
⃝ 空冷式
仕様
波長
平均出力
パルスエネルギー（@設定 50 kHz）
動作モード
パルス繰返周波数
パルス幅（FWHM）
空間モード
ビーム径（1/e２）
偏光
レーザ・アセンブリ・タイプ
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
マイクロマシニング
■ エレクトロニクス向け微細加工
（ダイシング、スクライビング、リペア応用等）
■ 薄膜スクライビング
（太陽電池、
タッチパネル等）
■ 金属ブラックマーキング、
精密マーキング
532-1.5-50
1.0
＞20
1.5
＞30
532
532-3-50
3.0
＞60
シングルショット ∼ 70
kHz
Type A
1064-2.5-50
3.75
＞30
アクティブQスイッチ
2.5
＞50
＜0.85
TEM00（M２＜1.25）
2.0
mm
532-4-125
シングルショット∼ 125
＜0.69
ns
Type B
■
532-1-50
nm
W
µJ
コンパクト・高性能・高信頼性・低価格・長期保証・優れたビーム質を同時に
実現した産業用全固体パルスUV/グリーン/IRレーザです。ご用途に応じ10種類
以上のモデル、更には空冷・循環水冷タイプより最適なモデルをご選択頂けます｡
全てのモデルにおいて、コストパフォーマンスと長期保証の両立を実現し、
汎用生産用途の可能性を拡げます。
アプリケーション
Helios
Type B
リニア
Type B
1064-5-50
6.0
＞45
シングルショット ∼ 70
＜0.79
1064-6-125
1064
5.0
＞100
＜0.69
3.5
2.5
Type A
Type B
仕様
偏光
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
W
ns
% rms
-5-50
-8-50
1 @ 60 kHz
1 @ 60 kHz
5 @ 50 kHz
8 @ 50 kHz
＜25
＜25
＜30
＜25
355
シングルショット ∼ 100
＜30
＜5
2.2 mm
& ＜0.5 mrad
リニア垂直（＞100：1）
出力安定性（8 h/±3°）
発振波長
-7-30
W
kHz
ns
パルス間安定性
-14-40
7 @ 30 kHz
8 @ 100 kHz
14 @ 40 kHz
＜20
＜35
＜20
シングルショット ∼ 100
343±0.5
＞100
515±0.5
＞300
FLARE NX
1030-1.0-2
1030±1
＞500
＜±5
最大2000
1.15±0.2
TEM00（M２＜1.2）
空間モード
TEM00
リニア垂直（＞100：1）
出力安定性（8 h/±3℃）
発振波長
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
-1-LP
nm
W
kHz
パルス幅
ns
パルス間安定性
% rms
空間モード
-7-10
1064
7 @ 10 kHz
-10-30
10 @ 30 kHz
シングルショット ∼ 30
シングルショット ∼ 100
＜40
＜60
＜40
＜2
＜1.5 @ 5 kHz
＜1.5
TEM00
偏光
http://www.coherent.co.jp/
1 @ 1.4 kHz
シングルショット ∼ 10
MATRIX 1064
0.55 mm & ＜3 mrad
２
ビーム径（1/e ）
http://www.coherent.co.jp/
±2
%
仕様
繰返周波数
リニア垂直（＞100：1）
160 x 93.5 x 38.25 / ∼ 1.25 kg
シングルショット ∼ 200
0.23 mm & ＜4.2 mrad
２
ビーム径（1/e ）
平均出力
1.45±0.2
532
＜2
% rms
偏光
FLARE NX
515-0.6-2
MATRIX 532
-8-100
nm
パルス幅
MALDI-TOF ■ レーザマイクロダイセクション
レーザ誘起蛍光（LIF）
＜2
%
仕様
繰返周波数
■
0.23 mm & ＜2.8 mrad
TEM00
偏光
アプリケーション
シングルショット ∼ 150
＜2
0.23 mm & ＜2.8 mrad
出力安定性（8 h/±3℃）
33
-1-60 BE
空間モード
%
mm
0.5 @ 60 kHz
kHz
平均出力
1.0±0.2
MATRIX 355
-1-60
nm
２
FLARE NX
343-0.2-2
Hz
ns
-M1
ビーム径（1/e ）
FLARE NX は、小型で堅牢なパッケージで、デジタルドライバーをコンセプトとしており、OEM 装置へ
の組込み用途に最適です。
MALDI-TOF( マトリックス支援レーザ脱離イオン化法 - 飛行時間質量分析) やレーザマイクロダイセク
ション、レーザ誘起蛍光 (LIF) などの応用においてコスト効果の高いパフォーマンスを実現します。
パルス繰返周波数
パルス幅（FWHM)（10秒毎の平均）
空間モード
MATRIX532/1064
L42 x W13 x H17 cm
発振波長
全固体パッシブQスイッチ短パルスレーザ
パルス間エネルギー安定性
（10秒後の10秒間において）
■
⃝ THGクリスタルシフト機能搭載（355-5-50 / 355-8-50モデル）
パルス幅
nm
µJ
■
・1064モデル
： 24ヶ月（動作時間無制限）
・355/532モデル ： 18ヶ月（動作時間無制限）
⃝ AAA（アルミニウムフリー）LD、製造特許技術PermAlign、および独自の
イントラキャビティ・ハーモニックにより優れたビーム位置再現性を
低ノイズ・長寿命で実現（PermAlignの詳細はp23を参照）
パルス間安定性
■
高速コールドマーキング 光造形 ■ 各種計測・非破壊検査
■
■
＜0.95
FLARE NXシリーズ
波長
パルスエネルギー（10秒後)
各種微細加工
精密トリミング
■ 薄膜ソーラーセル加工
⃝ 長期保証
繰返周波数
仕様 アプリケーション
⃝ 空冷（オプションで循環水冷も可）
平均出力
⃝ 波長：343/515/1030 nm
⃝ 最大繰返周波数：2 kHz
⃝ 最大パルスエネルギー：＞500 µJ（IRモデル）
⃝ 短パルス：∼ 1 ns
⃝ 小型設計：（L）160 x（W）93.5 x（H）38.25 mm
L50 x W20 x H17 cm
⃝ 小型設計、低価格
⃝ トータルパルスコントロール機能標準装備
⃝ 出力安定性（8 h）： ±2％
シングルショット∼ 125
（Type A）270 x 128 x 177 / 9.5 kg,（Type B） 257 x 128 x 104 / 5.6kg
mm
MATRIX355
リニア垂直（＞100：1）
%
±2
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
34
2017
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
AVIA NX 355 パフォーマンス特性
AVIA NX
高出力、小型全固体ナノ秒 UV/グリーンレーザ
AVIA NXは、電子部品パッケージング用途で実績のあるAVIAシリーズ(全固体Q
スイッチパルスレーザ)の信頼性を堅牢な設計でさらに向上させつつ、出力あ
たりのコスト低減を実現した、小型かつ軽量の新モデルです。コヒレントが特
許を持つNd:Y VO4結晶に対する独自の励起手法を採用することで、システム
全体の光変換効率の向上を行い、また、コヒレント独自の最新光学マウント技術
（PermAlign 2）の採用により、内部構造をシンプルかつ小サイズ化し、高安定
性と長期間の高信頼性を実現しています。加えて、新世代の電気コンポーネン
トを用いることで、レーザヘッド内に一体化でき、小型で信頼性の高い製品デ
ザインを可能にしました。
⃝ 多彩な出力ラインアップ：20W、25W、40W @ 355 nm
65W @ 532 nm
⃝ 幅広い繰返周波数：シングルショット ∼ 300 kHz
⃝ 小型ヘッドサイズ（586.2 mm x 192 mm x 166.4 mm）
⃝ コントローラをヘッドに内蔵し、より簡便なユーザインタフェースを実現
⃝ 高加速寿命試験（HALT）、加速ストレス性能試験（HASS）を採用
⃝ 高い信頼性によるメンテナンス周期の長期化
AVIA NX
仕様
発振波長
アプリケーション
■
■
■
■
355-40
繰返周波数 （設定）
40W,
308 µJ @ 130 kHz
パルス幅
ns
% rms
出力安定性（2σ）
% rms
＜35 @ 130 kHz
シングルショット ∼ 250
＜30 @ 100 kHz
＜30 @ 100 kHz
＜2
２
TEM00（M ＜1.2）
偏光（消光比）
従来のAVIAシリーズに比べ、レーザヘッド、電源ユニットどちらも驚くほど小さくなり、電子コンポーネントを一体化することで、より堅牢性
が向上しています。
20W,
200 µJ @ 100 kHz
＜5
空間モード
AVIA NXシリーズの製品サイズ、堅牢性
25W,
250 µJ @ 100 kHz
シングルショット ∼ 300
kHz
パルスエネルギー安定性
355-20
354.7
nm
平均出力およびエネルギー
■ フレックス基板切断
PCBビアドリリング
■ メモリパッケージ切断
3Dパッケージング
ウェハ基板スクライビング、ダイシング
太陽電池スクライビング加工
355-25
リニア垂直（＞100：1）
ビーム拡がり角
mrad
＜0.2
ビーム径（1/e2）
mm
3.50±0.35
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
mm
586.2 x 192 x 166.4 / 22.2 kg
586.2 x 192 x 166.4 / 21.5 kg
AVIA NX 532 パフォーマンス特性
（前）AVIA NXのレーザヘッド
（後）従来のAVIAシリーズのレーザヘッド
（上）AVIA NXの電源ユニット
（下）従来のAVIAシリーズの電源ユニット
AVIA NX
仕様
中心波長
532-36
36W,
327 µJ @ 110 kHz
平均出力およびパルスエネルギー
繰返周波数
kHz
パルス幅
ns
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
http://www.coherent.co.jp/
850 µJ @ ＜80 kHz
＜45 @ 150 kHz
% rms
＜5
% rms
＜2
２
TEM00（M ＜1.3）
ビーム拡がり角
35
532-65 HPE
シングルショット ∼ 300
出力安定性（2σ）
（＞8h）
偏光（消光比）
AVIA NXは、電子コンポーネントを
レーザヘッドと一体化し、
コンパクト設計を実現
65W,
433 µJ @ 150 kHz
パルスエネルギー安定性
空間モード
従来のAVIAシリーズでは
電源ユニット内に制御ボードを内蔵
532-65
532
nm
リニア垂直（＞100：1）
mrad
＜0.3
ビーム径（1/e ）
mm
3.50±0.35
レーザヘッド寸法（LxWxH）/ 重量
mm
609.4 x 192 x 166.4 / 22.2 kg
2
http://www.coherent.co.jp/
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
36
全固体レーザ：パルス発振（ナノ秒/サブナノ秒/ピコ秒/フェムト秒）
全固体ナノ秒発振レーザ 製品ラインアップ
AVIA NX 532
ʺʟ˃შ
60
NX 532-65
AVIA NX 355
HALT/HASS૚অɬੜᅙă
AVIAʏ˂ĜʒɈ਒࡙༑౯ɉȷɈɘɘ
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ʺʟ˃ă
ʺʟ˃შ
NX 355-40
40
平均出力（W）
NX 532-36
30
NX 355-25
NX 355-20
20
MATRIX 1064
532-14-40
1064-10-30
MATRIX 355
ழळĆऋ ᇊĆฝ ‫ ߆ ݟ‬Ɉ M AT R I X ʏ
˂Ĝʒă
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ฝʦɼʒĂᄭɦȹʫĜʸ‫ڮ‬඲‫ڤ‬ฤ౯
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10
MATRIX 532
355-8-50
532-8-100
1064-7-10
532-7-30
355-5-50
1064-1-LP
355-1-60 BE
355-1-60
355-M1
355 nm
532 nm
1064 nm
発振波長
ThermEQ-II
パルスコントロール技術
バーストモード動作時の出だしのパルスを安定化させる機能（ThermEQ）をさらに改良することにより、PulseEQとPulseTrack機能を実
現しています。特性条件によらずエネルギーを任意に制御できるこの画期的な特許技術は、従来実現できなかった理想的な加工条件
を設定できる機能です。下記にこれらの機能の特長について簡単に説明します。
PulseEQ
ThermEQ
37
PulseTrack
ThermEQ
PulseEQ
PulseTrack
バーストモード動作において待機時間に依存せ
ず出だしのパルスより安定化したエネルギーを
得ることが出来ます。
パルスの繰返に依存せずエネルギーを均一にさ
せて動作することが可能です。
(但し、最大想定繰返周波数の範囲で）
パルスのタイミングとエネルギーを制御できま
す。繰返周波数を可変してもエネルギーを一定
に抑えることが可能です。
（但し、最大想定繰返
周波数の範囲で）
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
http://www.coherent.co.jp/