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Search: Si および Ge からなる新規クラスレート化合物の合成とラマン分光法
ゲート絶縁膜/Ge 界面の反応機構の 解明と電子物性の
Ge を蒸着した Si(110)-16×2 表面での特異な表面再構成構造
Si - 奈良先端科学技術大学院大学附属図書館
鳥海 明 Ge High-k CMOS に向けた固相界面の理解と制御技術の開発
Passeur d`échantillons GE - GE Analytical Instruments
Si および Ge からなる新規クラスレート化合物の合成とラマン分光法
第 2 章 Si 原子層エピタキシー
GEヘルスケア・ジャパン メンテナンスサポート期間一覧
非Si 系薄膜中の金属不純物分析
フォトダイオード:Si フォトダイオード:Ge フ才トダイオード:GaP
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