for Micro OpticsOrmocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics
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for Micro OpticsOrmocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics
R R Ormocer ：革新的テクノロジー Ormocomp 硬化マテリアルの特性 熱安定性 Ormostamp Ormocore トランスペアレントスタンプ製造 ・シリカスタンプに代わる高いコスト効率 重量減量< 5 %（270 ℃ (5 K min-1)まで） ・マスタースタンプの高度な忠実性 硬化マテリアルの特性 ・可視光に対して高度なトランスペアレンシー（最低350nmまで） デュロメリック ・100nm未満のライン幅という高度な解像度 収縮（硬化中） 容量で5 - 7 % 容量で3 – 5 % CTE (20 - 100 ℃) 6 0 p p m K -1 100 - 130 ppm K -1 ・標準リソグラフィー装置による便利な処理 ・機械的安定性 1.518 1.513 屈折率 @ 635 nm @ 800 nm ・優れた熱安定性 Ormostampで作成したスタンプで複 製されたマイクロ構造 ・1ステップまたは2ステップでの生成が可能 1.553 1.543 接着促進剤 ガラス／水晶 glass / quartz 6μm硬化Ormocompの ガラス基板 master stamp マスタースタンプ UV光 1.基盤準備 2.スタンプ生成 Ormostamp ガラス基板 A.Ormostamp沈着 B.Ormostampプロセス 吸光度 固着防止層 波長 光透過性Ormocomp Ormocomp複製 10x10マイクロレンズアレイ ウェハー基盤での複製ゾル・ ゲル屈折マイクロレンズ （Avalon提供） 光格子 （FSU-Jena提供） ready to use 作業用スタンプの使用可能 working stamp Ormocomp 直接プロトタイプ化およびマイクロパターン化 * テクノロジー：3Dの層別UV直接プロトタイプ化および2光子ポリメリゼーション インプリント、モールド、従来リソグラフィー 用UV硬化マテリアル ・最低350nmまでの高いトランスペアレンシー ・UVパターン化可能（リソグラフィー／モール ド） ・100nm以下のライン幅の高い解像度 ・露光：i-line、h-line、広帯域 ・高速硬化 ・吸水度< 0.5 % ・表面粗度2 – 4 nm ・6か月保存期間 ・270 ℃までの熱安定性 ・無溶液 主用途 ・ 成形格子 ・ マイクロレンズ ・ マイクロレンズアレイ ・ 光カプラーおよびコネクター ・ プリズム ・ スキャナ：100nm焦点距離、スキャニングエ スタンプ リア50x50mm 微小機械、マイクロセンサー、マイクロフルイディクス • • ・ 解像度：10 μm 垂直5 μm側面 ・ 圧電アクチュエータでのポジショニング UV ビーム拡大器 原理設定 3D層別UV直接 プロトタイプ化 減衰器 プロセスフロー UVモールド 不透明スタンプ 微小光学部品&マイクロシステム用ハイブリッド ポリマー ・UVパターン化可能 ・データコムおよびテレコム用波長での高度な トランスペアレンシー ・270 ℃までの熱安定性 ・高速硬化 ・無溶剤 主要技術応用 ・ レーザ：355nm、20mW、100Mhz プロセスフロー UVモールド トランスペアレントスタンプ HRミラー @ 355 nm Ormocore 直流スキャナ+焦点目標 スタンプ 主用途 ・ 光センサーおよびセンサーシス テム ・ ディスプレイ ・ 光測定システム ・ 単一エレメントまたはウェハー スケール 2光子ポリメリゼーショ ンで作成された光子クリ スタル 2光子ポリメリゼーショ ンで作成された光子クリ スタル 3D層別UV直接プロタイプ 化で作成された微小アイ テム（チェスタワー） 3D層別UV直接プロタイプ 化で作成された風車（歯 車接続のフルイディクメ AOモジュレータ 樹脂処理チャンバ+ローラコースター UV 圧電アクチュエータ 準cwUVレーザ源 @ 355 nm, 10 ps, 100 MHz * 2 モールドでインプリントされた mr-UVCur06ナノ構造 3.固着防止層 in collaboration with Laser Zentrum Hannover e. V. www.microresist.com Ormocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics 微小光学用途のOrmocer (Courtesy of Laser Zentrum Hannover e.V.) 3 Ormoclad 重量減量< 5 %（270 ℃ (5 K min-1)まで） 熱安定性 膜品質 優れた平坦化特性 吸水性 < 0.5 % CTE (20 - 100 ℃) 100 - 130 ppm K -1 Rms粗度 2 - 4 nm 2 - 5 % by volume 収縮（硬化中） 1 .5 3 4 シリコン上でのマルチモー ド導波路のアンダークラッ ディング／コア （ACREO提供） Gesellschaft für chemische Materialien spezieller Photoresistsysteme mbH 微小光学用Ormocer （ハイブリッドポリマー） Ormocomp、Ormocore、Ormoclad、Ormostamp、 ダイレクトプロトタイプ化用マテリアルの特徴 ・ 優れたトランスペアレンシー ・ 優れた機械的特性 ・ 高い化学的／物理的安定性 ・ 優れたパターン転写忠実性 ・ すぐに使用可能なソルーション ・ 無溶剤 R R 1 .5 5 3 屈折率 @ 635 nm 複層光ファンアウト （FHG-OIF/Jena提供） ® Ormocore and Ormoclad 光パターン化可能な無機／有機ハイブリッドポリマー ・ UVパターン化可能（リソグラフィー／モールド） 主用途 〒590-0023 大阪府堺市堺区南三国ケ丘町2-2-74 ・ 単一モード導波路 ・ 調節可能屈折率（コア／クラッド） ・ マルチモード導波路 ・ データコム波長での少ない光損失 日本総代理店 ・ ビームスプリッタ ・ 270 ℃までの熱安定性 株式会社オーエステック ・ 熱光学スイッチ ・ 6か月保存期間 1.555 Ormoclad 基盤 Ormocladのコーティング、プリベ ーク 1.550 1.545 Ormoclad フラッド露光、禁止層のPEB除去 1.540 Ormocore Ormocoreのコーティング、プリベ ーク 1.535 導波路パターン化、PEB 1.530 635 nm 830 nm 1310 nm 1550 nm 1.525 1.520 0.0 Ormocore 0.2 生成 0.4 0.6 Ormocladの重量分立 0.8 1.0 Ormoclad 上位クラッディングのコーティン グ、プリベーク、フラッド露光 PEB,禁止層の除去、ハードベーク 屈折率調節 © micro resist technology GmbH | design by MANATEA mediendesign | 23 June 2008 Ormocer® - Registered trademark of the Fraunhofergesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung in Deutschland e. V. TEL : 072-221-2778 FAX : 072-221-2779 http://www.ostech.co.jp Mail : [email protected] www.microresist.com ・ 露光：i-line、h-line、広帯域 光導波路用プロセスフロー 4 s Ormocer s (Hybrid Polymers) for Micro Optics Ormocore 硬化ポリマーの特性 www.microresist.com Ormocers(Hybrid Polymers) for Micro Optics ® ® 平面光導波路用のOrmocer