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半導体製造プロセスケミカルサーキュレータ 半導体製造装置用温度制御

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半導体製造プロセスケミカルサーキュレータ 半導体製造装置用温度制御
10.恒温水循環装置
科学・産業機器
半導体製造プロセスケミカルサーキュレータ
Chemical Circulator
NES-333-7/GRT-63,NES-363-7/GRT-66,NES-3123-7/GRT-612
金属イオンの溶出汚染がないインライン型冷却加熱方式による、直接循環式薬液恒温装置
●冷却加熱部の伝熱接液部材は高純度のガラス状炭素を使用しており、
溶出金属イオンによる汚染の心配がなく、また表面保護膜が不要なた
めその剥離による能力低下もありません。
●ゴムOリングが液に直接触れないシール構造のため、酸性液、アルカリ
性液など薬液ごとのシール材質の選定が不要です。
●電子冷熱方式のため、室温付近の温度コントロールに適し、かつ高精
度です。
NES-363-7/GRT-66型
■仕様
型 式
冷却加熱ユニット NES-333-7
電源制御ユニット GRT-63-R-UL
NES-363-7
GRT-66-R-UL
NES-3123-7
GRT-612-R-UL
方式
設定温度範囲
温度制御精度
性 冷却能力※1
能
加熱能力※1
※2
循環系圧力損失
(20L/min時)
外形寸法・重さ 冷却加熱ユニット
規 電源制御ユニット
格
電源
(50/60Hz)
水冷式電子冷熱方式、処理槽とのインライン配管による直接循環方式
15〜50℃(ただし薬液の種類、循環系の全熱容量、熱収支バランス等の使用条件により異なる)
±0.1℃(使用条件により異なる)
約230W
約450W
約810W
約580W
約1,160W
約1,980W
0.01MPa以下
0.02MPa以下
幅136×奥行300×高さ226mm・約10kg 幅156×奥行300×高さ226mm・約12kg 幅280×奥行300×高さ226mm・約25kg
幅150×奥行400×高さ180mm・約7kg 幅185×奥行420×高さ267mm・約12kg 幅220×奥行405×高さ250mm・約18kg
AC200〜240V/8A
AC200〜240V/8.5A
AC200〜240V/17A
価 格
¥1,300,000
¥2,000,000
¥3,400,000
(注)
上記の価格には、消費税は含まれておりません。●荷造・運送・搬入・据付費は別途申し受けます。
※1.条件:設定温度25℃、周囲温度25℃、放熱水温25℃、循環流量15L/min。ポンプ循環による発熱負荷を含まず。
※2.ポンプは内蔵しておりません。
半導体製造装置用温度制御装置群
製品大分類
冷熱・加熱方式 製品の主な用途分野
用途とする
主要製品名 サーモ・
半導体 半導体 科学
主な対象物
ヒータ
製造
検査
計測
モジュール
インライン
薬液
冷却加熱型
薬液
ケミカル
●
サーキュレータ
ケミカルヒータ
インライン 薬液
加熱型
純水
◎
○
●
◎
○
CSヒータ
●
◎
○
超純水加
熱装置
●
◎
○
インライン除湿型 サンプリングガス 電子除湿器 ●
CSヒータ
理科学・ 光通信・ その他
生化学 光学
分野
超純水加熱装置
◎
○
摘 要
金属イオンの溶出汚染がないインライン型冷却加熱器であ
り、ウエットプロセスに欠かせない直接循環式薬液恒温装置
金属イオンの溶出汚染がないインライン型薬液加熱装置
各種薬液の高温処理用にクリーン、安全、小型、高効率の近
赤外線光放射方式インライン型加熱器
ハイパワー近赤外線光放射方式によるインライン加熱型のウエハ洗浄
用HOT-DI供給システムであり、超純水のユースポイントで使用される
環境汚染ガス分析装置のサンプルガス前処理部で必須の電子冷却式除湿器
電子除湿器
●仕様および外観は改良のため予告なく変更することがありますのでご了承下さい。製品カラーは、撮影・印刷インキの関係で実際の色と異なって見えることがあります。
337
ヤマト科学
NES + GRT・半導体製造装置用温度制御装置群
www.yamato-net.co.jp
0120-405-525
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