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GENTLE MILL IV8 仕様書

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GENTLE MILL IV8 仕様書
2010年7月
日本フィジテック
GENTLE MILL IV8 仕様書
《低エネルギーイオンソース》
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イオン銃
加速電圧
イオンビーム電流
イオンビーム電流密度
ビーム径(FWHM)
¥ レート(Si、入射角:30°)*
冷陰極式
100V~2kV
MAX 90µA
10mA/cm2
750〜1200µm
2.5µm/h 500V
28µm/h 2kV
《試料ステージ》
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試料サイズ
試料回転機能
試料反復機能
試料反転機能
ビーム入射角度
試料出し入れ
3mmΦメッシュ & FIB各種メッシュ
スピード可変
0~120°、スピード可変
180°反転(表・裏)
0~45°
ロードロックシステム
《制御系》
¥ ビルトインPC
¥ 専用制御ソフトウェア
¥
高精度自動操作法
Windows XP
Gentle Mill Control Software (Gemics)® ver. 5
(1) 試料ステージ動作設定
(2) イオンソース操作設定
※手動
※自動
(3) Arガス自動流量調整
(4) 真空システム制御
(5) 作業進行モニタリングシステム
プリセットファイル式
《観察系》
¥ CCDカメラ
×50-400 ズームCCDカメラ
《真空系》
¥ 真空ポンプ
¥ 真空計
¥ 到達真空度
ダイヤフラムポンプ(粗引き:外置き)、ターボ分子ポンプ
全圧計 (ピラニ、ペニング)
5x10-6Torr以下
《寸法・重量》
¥ 寸法
¥ 重量
520(W)×720(D)×650(H)mm
約60kg
《ユーティリティ》
¥ 温度
¥ 湿度
¥ 電源
¥ Arガス
15℃~25℃
60% RH以下
単相AC100V、3A(3Pコンセント)、50/60Hz
※コード長: 2m以内
純度:99.999%
絶対圧力:0.13-0.17MPa
※二次圧:0.1~0.5MPaのレギュレータをご準備願います。
継手:スエジロック(外径6mm)
装置側接続:スエジロック(外径6mm)
¥ N2ガス
電子制御式ニードル・バルブ
絶対圧力:0.1-0.15MPa
※二次圧:0.1~0.5MPaのレギュレータをご準備願います。
継手:スエジロック(外径6mm)
装置側接続:スエジロック(外径6mm)
《インターロック》
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停電時装置は自動停止します。通電後は真空系のみ自動排気作業を行います。
高圧(~2kV)真空度5×10-4Torr以下にならなければ高圧が入りません。
装置内温度冷却水不足等により装置内温度が40℃以上になった場合、警告ブザーがなります。
警報システム
ブザー式の警報 (冷却水システム)
LED式の警報 (電源系・ガス等)
画面上の警報 (全機能)
* 検収対象外項目
以上
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