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細菌汚染チタンインプラントに対する炭 酸ガスレーザー
学 学 位 研 究 紹 位 研 究 介 53 紹 介 微鏡および SEM にて表面構造の変化を観察。2.St r e p- 細菌汚染チタンインプラントに対する炭 酸ガスレーザーの殺菌効果と照射領域へ の細胞付着 Bact e ri c i dale f f i c acyofc arbon di oxi del as e ragai ns tbac t er i acomt ami nat e dt i t ani um i mpl ant ands ubs eque ntc e l l ul aradhes i on t oi rradi at e dar ea 0 55 6 ,Por t oc oc c us s angui s ATCC1 phyr omonas gi n8 1の1×10個の洗菌を純チタンディスク表面に gi val i s3 塗布し,CO レーザーをスポットサイズ直径3 .9 5 mm,エ ネルギー1 5 ∼4 0J ,フルエンス12 2 ∼3 2 7J / ㎠で照射後,細 菌を回収し CFU を算定。またその際のディスクの温度 上昇を照射終了直後から4 0秒後までサーモグラフィーに て測定。3.P.gi ×1 0個の洗菌をチタンディ ngi val i s1 スクに塗布後,2と同条件にてレーザーを照射した後, マウス線維芽細胞様細胞(L9 29 )およびマウス骨芽細胞 様細胞(MC3T3 8時間培養後の照射領域での生 E1)の 4 細 胞 率 を,ま た MC3T3 E1に つ い て は ALP活 性 を Lowr y法および共焦点レーザー顕微鏡(CLSM)にて測 定。4.ディスク上の培養細胞に2と同条件で照射を行 新潟大学歯学部歯科補綴学第二講座 口腔細菌学講座 加藤 拓 ,草刈 玄 ,星野悦郎 Depar t me ntofFi xe dPr os t hodont i cs, De par t mentofOr alMi c r obi ol ogy, Ni i gat aUni ver s i t ySc hoolofDent i s t r y い, 照射スポット外側の細胞を対象として生存率を測定, ま た Pr opi di um I odi deお よ び c al ce i n-AM 染 色 後, CLSM にて観察。 TakuKat o,HarukaKus akari ,Es t ur oHos hi no 結 果 と 歯科用インプラントは歯牙欠損の補綴治療の一つとし 察 て広く臨床に応用され,良好な咬合機能の回復が享受さ チタン表面は本実験条件における高フルエンスの れ,多くの成功例を見る。しかしインプラントが細菌の 存在する口腔と顎骨とを連絡させる構造である宿命とし CO レーザー照射によって変色や構造変化を起こさず, CO レーザーのエネルギーはチタンには吸収されにくい て,インプラント周辺の細菌感染が 慮される必要があ と り,その良好な長期的成果により現在のインプラント治 えられた。S.s angui sに対する殺菌率はフルエンス 16 3 ㎠で9 0%,2 86 /㎠では10 0 %,P.gi J/ J ngi val i s殺菌率 療の主流となっているオッセオインテグレーテッドチタ は1 63 /㎠でほぼ1 00 %であり,より少ないエネルギーで J ンインプラントにおいても細菌感染により炎症を起こす 殺菌された。またチタンの表面構造の違いにより殺菌率 症例が見られる。インプラント周囲炎は臨床的,細菌学 に差はなく,レーザー光は微細構造間での反射により凹 的,組織学的に歯周炎に極めて類似した状態を示すこと 凸微細構造内へ入り込んだ細菌に対しても到達している から歯周治療に準じ治療が行われているが,インプラン ものと えられた(Tabl ) .チタンディスク表面の温 e1 ト表面には骨接触面積を増大させる目的で複雑な凹凸微 細構造が付与されているものも多く,感染がその部位ま 度上昇は3 5 ℃ J照射において最高でも照射中心部で約14 であり,4 0 秒後には照射前の温度に低下したことから, で進行すると付着した細菌等の起炎物質の完全な除去が レーザーの殺菌効果は光熱効果による菌体内の瞬間的な 行いにくい。そこで本研究ではインプラント周囲炎治療 水分の蒸発と細胞膜の変性によると えられた。チタン の臨床的手法確立の基礎的研究として,CO レーザーを 利用したチタンインプラント表面の殺菌とその際のチタ ディスクのスポット外部での温度上昇はスポット内部の ン表面構造の変化,温度上昇,周囲細胞への傷害性およ 熱傷害は及ぼさないと思われた。実際に2 0 Jの照射にお ける照射スポット外の培養細胞の生存率は約8 5 -9 0 %で び照射領域への歯周組織性細胞の付着について検討し た。 1/ 3 程度であり,熱伝導によって照射領域外の周囲組織に あり,CLSM では細胞の生死がスポット内外で明確に分 かれている像が観察され(Fi ) ,レーザーの側方散乱 g.2 材 料 と 方 法 による影響も少ないものと えられた。レーザーにより 殺菌された細菌あるいは菌体成分の残留している領域へ 1.純チタンディスク(表面サンドブラスト処理,削 の L9 2 9,MC3 -E1 の付着,増殖,ALP活性は低エネ T3 りだし表面の2種)に CO レーザーをスポットサイズ ルギーの照射でやや低下したもののコントロール群とほ 1. 1 フルエンス 2 63 ∼26 3 2J / ㎠で照射後,落射型顕 mmφ, ぼ同様であった。これらの結果から,CO レーザーをチタ 5 3 新潟歯学会誌 5 4 2 9 ( 1 ): 1 9 9 9 Tabl e1.Bact er i ci dale f f i cacyofCO l as e rf oror albac t e r i aont i t ani um di s c s Bact e r i als t r ai n 0 5 5 6 S.s angui sATCC 1 Mac hi ne dTi Sandbl as t e dT 8 1 P.gi ngi val i s3 Mac hi ne dTi Sandbl as t e dTi Ener gy Fl uence (J) (J /cm ) 1 5 2 0 2 5 3 0 1 22 1 63 2 04 2 45 7 4 . 2 ±8. 2 8 8 . 4 ±6. 8 9 6 . 1 ±2. 9 9 9 . 6 ±0. 3 8 0 . 2 ±7 . 8 8 9 . 5 ±7 . 3 9 4 . 9 ±5 . 7 9 9 . 6 ±0 . 6 9 8 . 6 ±0. 6 9 9 . 9 ±0. 1 9 9 . 9 ±0. 0 1 0 0 ±0 9 8 . 7 ±0 . 8 9 9 . 8 ±0 . 1 9 9 . 9 ±0 . 0 1 0 0 ±0 3 5 4 0 2 86 3 27 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 1 0 0 ±0 (%) Me anki l l± S.D. (n=5;S.s ) angui sor3;P.gi ngi val i s ンインプラント体にスポットを広げて直接照射した場 合,照射範囲外の付着組織に及ぼす影響は比較的少なく 効率良く殺菌ができ,またその後の細胞付着にも影響が 少ないと思われた。このことからインプラント周囲炎治 療への CO レーザーの応用の可能性が示唆された。 .Fl Fi g.1 uor e s cenc ephot omi c r ogr aphsofos t e obl as t i c cel l sonMac hi ne dTidi s c s .Li vi nganddead cel l s wer es t ai ned by cal c ei nAM and PI , 63J /㎠,b:2 4 5J / ㎠. r e s pe ct i ve l y.a:1 5 4