SEMATECH

経 営 論 集
62巻 第 1.2号
201 5 年 3 月
SEMATECHの分析
ーアメリカ産業政策の研究ー
安部悦生
目 次
1.課題
2
. 半導体産業・半導体製造装置産業の動向
3
. 半導体需要の変化
4
. 半導体産業・半導体製造装置産業の構造
5
. 産業政策に関わる立法の変化と S
I
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6
. セマテックの設立とその意義
7
. 結び
1.課題
本稿は，
1
9
8
0年代のアメリカで設立された，ある意味最初の「半官半民」の半導体コンソー
シアムである
SEMATECH(セマテック)の評価を行なおうとするものである。
もとよりセマテックの評価に関しては，これまでにもさまざまな評価が下されている。本稿
はそれらを踏まえ，セマテックの歴史的意義を論じることにしたい。
1
9
8
7年に設立されたセマテックは， 1
9
8
0年代のアメリカにおける「産業政策ブーム」とも
呼べるプロビジネス的な政治環境を背景に
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省 (
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) の合作によって誕生した研究開発コンソーシアムである。
それが，当時奈落の底に沈んでいた米国半導体産業の復活に貢献したのか否か，貢献したとす
ればそれはどの程度であり，質的な貢献にはどのようなものがあったのか。こうした課題を，
当時の状況に即して，解明することが本稿の狙いである。
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一 一 経 営 論 集
2
. 半導体産業の動向
半導体は，かつての鉄に代わって，
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1
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7
1年)が発明され，半導体の重要度はいや
がうえにも高まった。安全保障の観点からも，近代的な兵器を装備するためには半導体が不可
欠となり，半導体産業の発展なくしては国の安全も保てない状況が生まれた。米ソ冷戦の中で.
ソ連が劣位に置かれたのは.計画経済の弱きもきることながら，半導体産業の発展が不十分で
あったことも一因である。
〔半導体産業の興亡〕
9
6
0年代(ミニットマン・ミサイル計画のような軍需)， 7
0年代(コンピュー
しかしながら， 1
ター需要などの民需)によって，世界に君臨したアメリカ半導体産業は 1
9
8
0年代， 日本の追
撃を受け，青息吐息の状況に陥った。図 lからわかるように. 1
9
8
6年に日米の半導体生産の
世界市場シェアは逆転し，以後 1
9
9
2年までの 6年間，日本の半導体産業が世界を席巻した。
9
9
0年ごろから差を縮めつつあったアメリカに. 1
9
9
3年
， 日本の半導体産業は再逆転
だが. 1
され， 1
9
9
5年ごろまでの措抗時期を経て， 1
9
9
6年から再び圧倒的な差をつけられるにいたった。
現在では，韓国，台湾，中国の追い上げと最先進国アメリカの挟撃を受け，日本の半導体産
業は見る影もないことは言うまでもない。
図 1 半導体メーカの地域別マーケット・シェア
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一一-SEMATECHの分析一一
これを企業レベルで見るならば， 1
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0年には半導体企業の上位 1
0社のうちには，アメリカ
が 5社入り
(TI，
Motorola，
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，
1
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，l Fairchild)，日本企業は N E C，Toshiba，Hitachi
の 3社にすぎなかった(表 l参照)。しかし， 1
9
9
0年には， 日本企業は 6社
目立，富士通，三菱，松下)がランキングに入り，アメリカ企業は 2社
に後退した。(ただし，
(NEC，東芝，
(Motorola，
Intel
)
I B M，A T & Tなどの自社消費企業 captivefirmを除く。)
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注 1
:merchantは外販企業， captiveは自社消費企業を意味する。
注 2
:1
9
8
4年の IBMの半導体生産額は 2
8億ドル， AT&T4億ドル， NECは1
7億ドルであった。 Thornberry，
p
.6
6
6
さらに詳細にセマテック設立前の状況 (
1
9
8
4-1
9
8
6
) を見ると(表 2参照)， 日本企業 5
社がトップ 1
0入りし，アメリカ企業は 4社
(Motorola，
TI，
Intel
，Nationa1)となり，僅差で
AMDが 1
1位に入っている状況である。 1
9
8
6年には日本企業が 6社となり，アメリカ企業は
3杜に減少している。
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その地位を維持している。他方で，日本企業は
6
社と健闘しているが，
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I，モトローラも
年代以降，半導
1990
体産業総崩れと言われる状況の端緒と思われるような停滞が見受けられる。
DRAM市場におけるアメリカ企業の崩壊(マイクロン
C用の MPU
社を除く)， 日本企業の制覇，だが， DRAMなどのメモリー市場に代わって， P
市場の急成長が存在する。
年にインテルは DRAMから撤退したが，この判断は経営史
このような日米再逆転の背景には，
1985
上に残る優れた戦略転換と言われている。図 2 からわかるように，
年から
1985
年まで，
2000
MOSマイクロ=MPUは安定的かつ急成長を遂げている。インテルはこの急成長の恩恵を
Iは携帯電話用の D
S
P，モトローラは通信用デバイスでその地位を
十二分に事受した。また T
維持した。このような転換を行なえなかったフェアーチャイルド，ナショナル・セミコンダク
ターなどは，その地位を低下させた。(以上の製品構成に関しては，付図 l参照。)
一一 SEMATECHの分析一一
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図 3 半導体製品別シェア
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出所:湯之上 (
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I頁
出所.湯之上 (
なお，製品構成の用途別の構成に関しては，表 3および表 4から概略的な動向がわかる。半
導体産業が立ち上がった
1
9
6
2年にはアメリカの半導体は，政府需要(主に軍用)が 1
0
0
%で
あった。その後，コンピューター(当時はメインフレーム).産業用，消費者用が進展し，な
おアメリカが王者であった
用3
8
%
. 消費者用
1
9
7
8年には政府需要は 10%に低下し，コンビューター 3
8
%
. 産業
15%という構成であった。
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)のエンドユーザー
表 3 アメリカ半導体生産(I
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出所。 Langlois，
p
.274
こうした動向を国際的にみていくと，アメリカと日本，西ヨーロッパを比較した場合(分類
は同じではないが).圏内マーケットシェアでは，コンピューター用でアメリカが大きく，ま
た軍用・航空宇宙用でも大きいことが分かる。これに対して，日本はテレピ，計算機などの消
費者用シェアが大きく，商ヨーロッパは通信，消費者用，産業用で大きいことがわかる。
年代以降は，先述の通り， PC用の MPUの需要が増大した。
1
9
9
0
6
一一経
営
論
集一一
〔半導体製造装置産業〕
次に，半導体産業と密接に関係している半導体製造装置産業あるいは半導体製造装置業者
(
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) を見ていくと，ここでも興味深い逆転劇が見て取
れる。図 4からわかるように，半導体産業を立ち上げたアメリカが，
1
9
8
0年ごろはその製造
装置産業でも圧倒的な地位を築いていた。しかし，ここでも日本企業の躍進により，アメリ
カの地位は蚕食され，
るのは，この逆転は
1
9
9
0年には日本にその地位を明け渡した。しかし，半導体産業と異な
l年だけで， 1
9
9
1年には再び首位を奪還していることである。それ以後，
日本の半導体製造装置産業は，半導体産業ほど劇的な低下を示してはいないが，前世紀末には
アメリカと日本の聞にはかなりの差が生じている。
図 4 半導体製造装置メーカーの地域別マーケット・シェア
8
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出所:小宮 (
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また企業レベルで見ると(表 5参照)，
レマー，
キン・エ J
GCAといったアメリカ企業が衰退し，東京エレクトロン，ニコン，キヤノン，
目立などの日本企業が躍進している。
いる。しかし，
1
9
7
9年から 1
9
8
9年にかけて，フェアーチャイルド，パー
1
9
8
9年にはトップテンの中に，日本企業が 5社入って
1
9
9
2年にはアプライド・マテリアルズが，東京エレクトロンを抜いて l位と
なり，以後，この状況は今日まで変わっておらず，その差は拡大している。
年の表 5で，また 2
0
1
3年のランキング(付表1，付表
J
レズは
1
9
7
9年から 1
9
9
2
2参照)でもアプライド・マテリア
l位の地位を固め，またヨーロッパ企業である ASMも 1
9
8
9年頃は 1
0位程度であっ
たが，現在はアプライド・マテリアルズに次ぐ 2位を占め，同じ分野のニコン，キヤノンよ
り優位に立っている。このように.半導体産業と同じく，半導体製造装置産業も
1
9
9
0年ころ
まで日本企業は躍進していたが，そのころを境に，アメリカ企業の反撃，ヨーロッパ企業の躍
進が目立つのである。もちろん，アメリカ企業の中でも同じ企業というよりは，企業聞での入
一一 SEMATECHの分析一一
7
れ替わりが顕著であることが注目されるべきであろう。パーキン・エルマー， GC
A
， フェアー
チャイルドなどの没落にたいして， アプライド， ラム・リサーチの躍進という明暗がある (
付
表 2参照。)
衰 5 世界
54
5
3
5
1
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4
1
3
. 半導体需要の変化
以上のような半導体産業および製造装置産業の変動は， どのような要因によってもたらさ
れたのだろうか。アメリカ半導体産業・製造装置産業の苦境， およびそこからの復活はいった
いどのような力によってもたらされたのだろうか。また日米逆転i再逆転の主要な要因は何で
あったのだろうか。このように問題を立てると
先ずは次のような解答が見つかる。
第一に，メモリーからマイクロ・コンピュータ-(MPUなど)への半導体需要の変化，第二に，
日米半導体協定 (
1
9
8
6
) に見られる対日圧力効果，第三に，産官学連携や，特許移転，企業間
協定の独禁法からの免除などに見られる各種立法の影響，第四に，アメリカ政府による産業政
策(セマテックなど)や科学技術政策が挙げられよう。また，再逆転がなぜ起きたかという視
点からは， 日本企業側の劣化要因として，①日本企業における DRAM成功からくる惰性(マ
イクロ・コンピューターの急激な発展を見抜けなかったこと)，②短期的要因としては日本経
済のバブル崩壊に見られる圏内需要の落ち込み，また継続的な円高。あるいは，③日本企業が
最も得意とした DRAM分野で，韓国，台湾勢が台頭したという国際環境の変化。これらの要
因が日米の再逆転に貢献したことは確かだが， それはどれくらいの軽重があるのだろうか。
いま少し詳しく説明すれば，最初の日米逆転は， メーンフレームなどのコンピューターを中
，SRAMなど)が最大の半導体需要であり，そのよう
心とした需要期ではメモリー (DRAM
なメモリーの生産には品質重視，歩留まり重視，コスト重視の日本企業の生産方法が最も適し
8
一一経
営
論
集一一
ていた。そこで， 日本企業の DRAMを中心としたメモリー産業がアメリカ企業を壊滅させる
9
9
0年代以降は需
のではないかとの危機感さえ生じさせた。しかしパソコンが立ち上がった 1
要構造の主役が変わり，マイクロ・コンピューター，すなわち PC用の MPUが半導体需要を
牽引した。さらに，日本企業にとって具合の悪いことに.メインフレームと異なり. PC用メ
5年保証を必須とするほどの品質は必要ではなく，従来日本企業が得意としてきた
モリーは 2
高品質保証，そのためのコスト増の戦略が逆効果をもたらすことになった(日本製品の過剰
品質問題)。これは，歩留まりを上げて，コスト低減を図ることとは逆の動きであり，むしろ
それなりの品質，それにより過剰品質を避けてコスト削減(マスク枚数の削減)を図る韓国企
業のメモリー戦略が時代の需要を捉えることになった(!)。こうして，日本企業はインテルの
MPUには R&D(特許)面で歯が立たず .PC用メモリーではサムスンにコスト面で対抗できず，
9
9
0年代後半以降，日本企業は MOSロジック，すなわち
前門の虎，後門の狼状態になった。 1
AS1Cに生存の道を探るがそれもうまく行かなかった。その理由は本稿では扱わないが，佐野
(
2
0
1
2
) などを参照すると，理解が深まる
。
(
2
)
他方で，半導体製造装置産業では，半導体産業ほどの落ち込みはなかったが，それは半導
体産業ほどドラスティックな需要変化が起きなかったからに他ならない。 DRAMや MPU.
AS1Cなどで共通に扱える線幅Oin
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)の微細化や，ウエハーサイズの大規模化が可能だっ
たからである。それでも，先にあげたアプライド・マテリアルズや ASMLの躍進は目覚ましい。
4
. 半導体窟業・半導体製造装置産業の構造
半導体産業は 1
9
5
0年代から立ち上がった。それ以降，景気変動の波はあるが，一貫して長
9
5
7年の半導体売上は l億ドルであったが. 2
0
0
0年には 2
0
0
0
期成長過程にある。例えば. 1
億ドル(世界)であった。しかし
半導体製造企業の構造は，日米で大きく異なる。アメリカ
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e企業と呼ばれる自社消費企業と. m
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t企業と呼ばれる外販企業の 2種類
では. c
があるが， 日本では外販・自社消費の両方を行う企業が普通である。アメリカで自社消費企業
9
8
4年には 2
8億ドルの生産規模を持っていた。次い
として，大規模な企業は IBMであり. 1
で.AT&Tで 4億ドルであった
。この両社が主たるものであるが，この両社が外販しなかっ
(
3
)
た理由はどちらも独占禁止法のターゲットになっていたことに起因している。外販して，外販
企業を脅かしていると認定されることを嫌ったためと思われる。こうした自社消費企業のシェ
アは 20%
程度と推測できる
。もっとも. IBMなどは外部からも半導体を購入していた
(
4
)
。
(
5
)
さらにアメリカには，外販企業の中にもインテル. T
1
. モトローラのような大企業と. L
S
1
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sなどの小企業に分けられる。こうした 3層構造がアメリカ半導体産
一一 S
EMATECHの分析一一
業の特徴で、あった
9
。
(
6
)
半導体製造企業の数は明らかではないが，
1
9
6
0年代， 1
9
8
0年代に急増し， 1
0
0社を優に超
えていたと推定できる。したがって， 日本と比べて，分散的な構造と言える。ただし，上位 5
社の集中率を推計すると，
1
9
8
5年ころは，外版企業で約 60%，上位 1
0社で 80%根度と推測
される。これにキャプテイヴ企業の
IBMを入れると 上位 6杜で 70%となる(表 2などか
らの筆者推計)。
一方，半導体製造装置産業は本格的には
業を擁しその多く(約
1
9
7
0年代に登場し， 7
0
0から 8
0
0という多数の企
9
0
%
)は 2
5
0
0万ドル以下の売上しかなかった。 l億ドルを超える売
上を有する企業は数社であり，半導体メーカーよりもさらに分散的な構造であった
に対し，日本では
1
1杜でシェアの 72%を占めたが，アメリカの装置産業では 1
4杜でも 55%
にしかならなかった ω。したがって日本の方が寡占的構造を持っていたと言える
日本の産業構造は
(
7
)。これ
O
こうした
1
9
8
0年代，メモリー全盛であったころは日本のより寡占的・統合的な産業
構造がプラスに作用したが，
1
9
8
0年代後半からマイクロ・コンピューター，ロジック (
A
S
I
C
)
にシフトしていくにつれて，むしろマイナスとなり，分散的産業構造の方が新しい企業の出現
を支えることになった
。
(
9
)
半導体産業との規模の比較で言えば，
1
9
8
9年，アメリカの半導体売上が 2
0億ドルであった
のに対し，装置の売上は 5億ドルで，装置産業は約 4分の lの規模と言ってよい
。
(
1
0
)
5
. 産業政策に関わる立法の変化と SIA
上記のような半導体需要の変化，それに対応した戦略の巧みさの効果は大きかったが，この
変化に適切に対応していった産業政策・科学技術政策を可能にした立法も，アメリカの半導体
産業の復活に大きく貢献したことは明らかである。
1
9
8
0年代の目覚ましい立法活動の中心に
I
A(アメリカ半導体工業会)などの業界団体，および国家安全保障の
は，半導体業界団体の S
観点から，日本企業の台頭に危慎を抱いていた国防総省， とりわけ
高等研究計画局
1
9
5
8年に設置された国防
(
D
A
R
P
A
)が存在していた(11)。との S
I
Aと DARPAによってセマテツクは
生み出され，またセマテックはアメリカには珍しい「民と官」の合作であフた。もっとも，官
というより，正確には日本の通産省のようなシヴイルではなく，国防総省というミリタリーで
あった点がセマテックの誕生・「成功」に繋がっていくことになる。
S
I
Aは 1
9
7
7年に，ナショナル・セミコンダクターのチャールズ・スポーク (
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) を中心とするアメリカ半導体メーカー 5杜(インテル， AMD，モトローラ，フェアー
チャイルド)が集まって作られた業界団体である(ロ)。この団体は，対日提訴，また日米半導
体協定の作成にも大きな力を発揮した。日本の
V
L
S
Iプロジェクトも非難したし， 1
9
8
1年に
1
0
一一経
営
論
集一一
は対日ダンピング提訴を計画し，またメンバー企業のインテルは NECを MPUの著作権侵害
9
8
5年には SIAとして，通商法第 3
0
1条項で，日
で提訴し，モトローラは目立を提訴した。 1
本の半導体企業を USTRに提訴した
(
1
3
)。
〔各種立法の経緯〕
9
8
0年にはスティーヴンソン・ワイドラー法が官民
こうした業界団体などの力もあって， 1
9
8
6年の連邦技術移転法に受け継がれ，国立研
協調を狙いとして制定された。この法律は， 1
究所から民間への技術移転を促進することになった。具体的には， L
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e研究所などの国立研究所などと，技術移転を狙いとした「官
所
， S
9
8
0年には，有名なパイ・
民共同研究開発協定JCRADAsを結ぶことが可能になった (14)。また 1
ドール法が制定された。これは連邦政府からの資金で得られた研究成果=特許の取得を，中小
9
8
2年には IBMの反
企業および大学を含む非営利法人に可能にするものであった。さらに， 1
トラスト訴訟が和解となり
ピッグビジネスに対する姿勢が緩やかなものとなった。
1
9
8
1年には， ["経済再生税法JE
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c
tによって，研究開発の税控除が
9
8
6年には研究開発のタックス・クレジットが延長された。
有利となり，さらに 1
9
8
4年には，半導体チップ保護法が制定され，回路図に特許を認めることにより，
また 1
半導体の知的所有権が強化された。これは，企業の半導体開発の意欲を高めることとなっ
9
8
0年代のレーガン政権のもとで，従来のアンタイ・パテント政策から，プロ・パテ
た
。 1
ント政策へと大転換が図られていたのである。さらに同年には，国家共同研究法 (
N
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s
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) が制定され，企業聞の共同研究に対して，独禁法の適用除外の可
能性が高くなった。生産，販売には従来の厳しい原則が適用されたが，ハイテク部門における
研究開発の重要性に鑑みて，研究については企業聞の共同研究開発を認める方向に転換したの
である。これは，後のセマテックの設立に大きな弾みを与えるものであった。 1
9
8
3年に設立
された MCCでは，司法省から独占禁止法違反の疑いがあるとして警告されたのであるが(15)
この法律により.セマテックは安心して設立に遁進できたのである。
9
9
3年 に は ， 生 産 面 で の 協 定 も 認 め る 「 国 家 共 同 研 究 生 産 法 JN
a
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さらに， 1
C
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tが制定された。この法律はなお販売面での共同を
認めなかったが，研究開発に続き，生産面でも企業聞の共同が認められることになり，独禁法
の適用外となったことは，企業の他企業との連携の自由度を高めた (.16)。
9
7
4年の「通
また通商政策の商から対外的な圧力をかけるために極めて強力な武器となった 1
商法J
，特に 3
0
1項 (
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i
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n3
0
1)を活かして， 1
9
8
6年に「日米半導体協定」が締結されたことは，
日本の半導体産業に，持続的なマイナス要因を与えた(7)。こうした通商政策は， 1
9
8
8年の「包
一 一 SEMATECHの分析
1
1
括的通商・競争力法」に引き継がれ，貿易不均衡や不公正取引慣行，アメリカの競争力強化を
企図する手段(例えば，審議会設置)を可能とするものであった。
一方， 1
9
7
7年に 5杜 (
F
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c
h
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d，N
a
t
i
o
n
a
1Semiconductor，I
n
t
e
，l AMD，M
o
t
o
r
o
l
a
) の半導
体企業で設立された SIAは
， 1
9
8
0年代に入ってから加盟企業数も約 5
0杜となり，その力を増
していった(18
)。先にも指摘した，日本企業の USTRへのダンピング提訴，日本の V
LSIプロジェ
9
7
6-1
9
8
0
) への非難，そして日米半導体協定締結
クト(超 LSI技術研究組合共同研究所， 1
への主導的役割など，議会へのロピイングを含んで
その活動を活発化していった。また岡内
9
8
2年には SRC (半導体研究組織)の設立を主導し，大学と半導体企業と
の産学連携でも， 1
の研究協力を轡にすることに成功した。
SIAは
， 日本の VLSIプロジ、エクトが，研究開発におけるカルテル，また政府からの補助金
投入に他ならないとしてこれを強く非難したが，皮肉にも(あるいは身勝手にも)， VLSIプ
ロジ、エクトに範をとって
セマテックを立ち上げることになった。
ただし業界横断的な研究組織としては既に先例があった。 1
9
8
3年に設立された MCC
(
M
i
c
r
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l
e
c
t
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n
i
c
sandComputerTechnologyC
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r
p
o
r
a
t
i
o
n
)である。これはコントロール・デー
タ社の W.C
.
N
o
r
r
i
sが中心になって設立された研究組織であり，日本の VLSIプロジ、エクトや「第
，あるいはヨーロッパの半導体産業の台頭に対抗する
五世代コンピューター・プロジェクト J
意図から設立されたものであった (9)。これは 1
0杜の企業問コンソーシアムであったが，半導
体だけではなく，コンピューター分野での研究開発も目的としていた。しかし， 日本の第五世
代コンピューター・プロジェクトがほとんど成果を上げられなかったことから，これに対抗し
ようとして設立された MCC自体の活動も低調となっていった。ただし 1
9
8
4年の国家共同
研究法の成立に関しては， MCCが強力なロビー活動を行った(却)。
しかしながら，以上のような動きにもかかわらず，半導体分野ではその後も日本企業の躍進
9
8
0年代半ばから後半にかけて，日米逆転がも
は智まるところを知らず，先に見たように， 1
たらされたのであった。
6
. セマテックの設立とその意義
〔産業政策論争〕
1
9
8
0年代後半.鉄鋼，家電，自動車，半導体などの分野で，日本はアメリカに急速にキャッ
チアップしつつあったか
あるいはアメリカを凌駕しつつあった。 GEのジャック・ウェルチ
が日本の家電メーカーにノックアウトされるのではないかといった危機感を抱いた時代であ
る。以前の繊維製品の場合にも
日米繊維協定が結ばれ
また半導体でも日米半導体協定が結
1
2
一一経
営
、
さ
さA
集一一
日間
ばれた。こうした日本への経済外交圧力を通じて，日本の攻勢をかわそうとするのが第一の方
法であるなら，第ニの方法としてアメリカ産業界が採った対応策は， 日本に学び¥そのメリッ
9
8
0年代中葉，
トを迅速に吸収しようとしたことであった。その実行を助ける手段として， 1
活発に議論されたのが産業政策の有効'性で、あった。
アメリカにおける産業政策論争に関しては，宮田由紀夫が的確な解説・分析を行っているの
で，そうした議論をもとに，若干の整理をしておこう
。第一の考えは，日本は産業政策によっ
(
2
]
)
て現在の繁栄を築いたのだから，アメリカも同種の方法を取り，それによって日本に反撃すべ
きであるとの論である。第二の論は
日本の「成功 lは産業政策が大きな原動力であるとは必
ずしも証明されておらず， したがってアメリカが日本流の産業政策を採用したとしても，その
効果は疑問であると主張するものである。また日本では成功したとしても，アメリカでそれが
成功する保証はないとの論もあった。アメリカは，本来の自由な経済活動によってこそ立ち直
りが可能であり，それを妨げている規制を緩和し，自由競争を強化すれば，アメリカは復活す
9
7
0年代
ると主張する論者もいた。いずれにせよ， 1
1
9
8
0年代は，アメリカにおいては規制
経和の時代だ、ったのである。
たしかに， 日本の 1
9
8
0年代までの経済的躍進が，主として通産省などの政策によって可能
になったと信じる人は. 日本でもいないであろう。民間企業， とりわけ国際競争に晒された輸
出産業の企業努力がその主たる要因であることは大方一致するところである。
またこの時代のアメリカの政権が自由主義を標梼し
保護主義を批判していたレーガン政権
時代に，産業政策論争が発生したことは歴史の皮肉であるかもしれない。アメリカがそれほど
追いつめられていたとも言える。
こうした産業政策論争は
1
9
8
0年代には二つの波があった。 1
9
8
0年代前半の時期には，古
典的な産業政策をアメリカに導入すべきか否かに関してターゲティングを行うとするならば，
だれが成長産業を選ぶことが可能なのか，それは結局
政治力によって決まってしまうのでは
u
r
ei
n
d
u
s
t
r
yが選び出
ないかとの否定的な意見も多く見られた。逆に，産業政策によって釦t
され，国際競争力の強化が図られるとする肯定的な意見も存在した。前者では，マイケル・ポー
ター，クルーグマン，サマーズ，シュルツ，後者には，デヴイツド・ティース，ローラ・タイ
ソン，エズラ・ヴォーゲル，チャーマーズ・ジョンソンなどがいた (22)。
1
9
8
0年代半ばからの第ニの時期には，典型的な産業政策というよりは，科学技術政策として，
政府の産業への関与を強めようとする動きが活発になヮた。すなわち，当該産業をめぐる環境
インフラを整備しようとする考えである。この論は後のスーパーハイウェイ構想とも関連して，
アメリカの産業政策・科学技術政策の根幹を形成していくことになる。また既に制定されてい
た共同研究法 NCRAなどに見られる規制緩和の方向を踏襲する路線で、あった。
一 一 SEMATECHの分析
1
3
〔セマテックの設立〕
セマテックは，いずれかと言えば，前者の典型的な産業政策の一例で、あった。
アメリカの半導体苦境を打開しようとして，セマテックは最初から日本の VLSIプロジ、ムク
トを模倣しようとしていた。それゆえ，組織，手法なども概ね両者は類似していた (23)。
そこで，セマテックの立ち上がりから詳しく見ていくことにしよう。
セマテックは. SIA設立の中心人物の一人であったナショナ J
レ・セミコンダクターのスポー
クが主導入物であった。日米半導体協定が締結された 1
9
8
6年. SIAはスポークに業界協調の
s
t
e
e
r
i
n
gc
o
m
m
i
t
t
e
e
) の委員
努力を依頼した。スポークは SIAの中に設けられた執行委員会 (
長となり，この委員会からセマテックのアイデアが出てくる
O
スポークこそ，セマテック生み
の親であった (24)。
SIAが本拠を置いていたシリコンパレーは，アナリー・サクセニアンが指摘するごとく，一
方で個人主義的な競争が激しく行われているところであるが，同時に，コミュニティーを重視
し，コミュニティー活動が活発な側面も持っている(お)。
SIAの立ち上げ(フェアーチャイルドの C
o
r
r
i
g
a
nが中心)と同様に，セマテックの立ち上
げには，フェアーチャイルド出身者が大きく関わっていた。ナショナル・セミコンダクターの
チャールズ・スポーク，インテルのロパート・ノイス (
R
o
b
e
r
tN
o
y
c
e
)
. AMDのジエリー・
e
r
r
yS
a
n
d
e
r
sの 3人が深く関わっていたが，その 3人とも，フェアーチャイル
サンダーズ J
ド社の出身であり，互いに家族付き合いをしている親密な間柄であった(刻。
1
9
8
7年 3月. SIAは半官半民である研究コンソーシアムの設立を決定した。この半官半民
というところが.以前の MCCと異なる点で、あった。政府からの補助金を受けるということは，
税金の投入というこ左になり，アメリカ国民の税金無駄遣いに対する反応を見れば，民間企業
に税金を投入するということの困難さは日本の比ではなかった。日本の VLSIでもたしかに必
要資金のおよそ半額が政府から来ていたが，それと同じことを目論んでいたセマテックにとっ
て，アメリカの風潮を考えれば，それは容易ならざる道であった。実際，新聞でも，日ごろ独
立かっ自由な企業活動を王張しているシリコンパレーのハイテク企業家が政府に泣き付いて，
金をくれとは何事かといった論調の批判があふれでいた (27)。
たしかに普通の状況では，半官半民のセマテックの設立は困難であったろう。しかしこの
ときもう一方の立役者となったのが DARPAであった。 1
9
5
8年に設立された DARPAは，ソ
連のスブートニクショックに対する対策として出発したが，その後，軍関係のハイテク技術開
発についての重要な部局となった制。この当時，半導体があらゆる最新兵器に使われ，最先
端の半導体の供給が保障されなければ，ハイテク戦を行うことは不可能に近かった。そこで，
国防総省は半導体がたとえ同盟国である日本とはいえ，自国から供給できない事態は避けた
1
4
一一経
営
論‘集一一
かったのである。こうした「聞の安全保障 J
. 半導体の外国依存
の脱却という錦の御旗こそ
(
f
o
r
e
i
g
nd
e
p
e
n
d
e
n
c
y
) から
半官半民のセマテックの誕生を可能にしたと言ってよい。これが
商務省のような通常の官庁であれば，アメリカの麗業政策反対の風潮から言って，セマテック
の設立は不可能であったと思われる。共和党のレーガン政権といえども，国防の観点からはむ
しろセマテックを推進すべしとの意見も強かったのである。
この
S
I
Aのリーダーシップ，および DARPAという安全保障面からの強い助っ人の出現に
よって，セマテックは 8
7年 8月に設立され，同年
1
2月には議会もセマテックへの補助金を承
認し， レーガン大統領も署名したのであった。なお，これと並行して，議会に半導体諮問委員
会
(
N
A
C
S
=
N
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lA
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dS
e
m
i
c
o
n
d
u
c
t
o
r
s
) が設置され，後の全米半導
体技術ロードマップ
(
N
T
R
S
) などの半導体政策に大きな影響力を与えることになる。
4社と書かれているものも見受けられるが，
なお，セマテック設立時のメンバー企業数が 1
正確には
1
3社であり. NCRが翌年加盟して 1
4杜になった (29)。ちなみに，セマテックには，
アメリカ企業のみが参加でき，外国企業は参加できなかった。目立のアメリカ子会社が参加を
打診したが，拒絶されたことがある倒。
〔セマテックの目標〕
セマテックは.
1
9
8
7年 8月に設立されたが，その目標はかなり瞳昧であった。半導体産業
の復活のためとはいっても，半導体産業自体が変化・発展しつつあった状況の中で何を目標に
するかは明快ではなかった。
目標として，例えば製品開発ではなく，製造技術の開発ということは容易に設定されたが，
それがメモリー製造技術か，フレキシブルな
は議論があった。ちなみに
セマテックは
g
e
n
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r
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cm
a
n
u
f
a
c
t
u
r
i
n
gp
r
o
c
e
s
s技術かに関して
チップの販売および製品設計は禁止されていた。
さらに，研究開発コンソーシアムではあるが，当然製造施設も必要となり，それをパイロット・
プラントにするか，大規模な量産工場を建設するかに関しでも，議論が別れていた。
1
9
8
7年
3月の『ウオール・ストリート・ジャーナ jレJによると，この問題に関して，インテルのア
ンドルー・グローヴは，実験室レベルの研究所より，現実の状況で生産技術を獲得できるように，
特定品目を量産できるコンソーシアムが必要であると主張していた。しかし .IBMがパイロッ
トプラントに賛成だ、ったこともあり，セマテック設立の母体であった
S
I
Aは，あまりに時聞
がかかり， また費用もカか、哨治か当喝る量産施設の代わりに'小規模のパイロツト.プラントの建設を決
定した{侶矧側
3
幻
釦
1
)
今一つの検討事項は，半導体製造技術そのもののノウハウの獲得か，あるいは半導体製造装
置の開発に重点を置くかという問題であった。この問題は出発時点でははっきりしていなかっ
一
一
一 SEMATECHの分析一一一
1
5
たが， 1
9
8
9年に製造装置の開発に力点を置くという決定によって決着がついた。ただしその
結果，この決定を不満とする L
S
1L
o
g
i
c，M
i
c
r
o
n
，H
a
r
r
i
sの 3杜はセマテックからの脱退を表
明した (32)。
〔セマテックの組織・運営〕
セマテックの会長に，設立に最も尽力したチャールズ・スポークを持ってくることはお
e
a
r
c
h
そらく問題なく決まったと思われるが， CEOにだれを持ってくるかに関しては， S
C
o
m
m
i
t
t
e
eを設置して種々検討したが，なかなか適任者を見つけることはできなかった。そ
とで.最後にスポークの古くからの友人であり，セマテックの綾立にも関わっていたロパート・
ノイスに依頼するととになった。ノイスは就任を渋っていたが結局最後は CEOを引き受け
ることになった。ノイスは当時すでにミリオネアーであり，アメリカ半導体業界でレジ、エンド
の人であった。 1
9
5
6年にショックリーのショックリー・セミコンダクタ一社に入社し，その後，
そこをやめて仲間(裏切りの 8人衆と呼ばれた)とフェアーチャイルド社を設立し， 1
9
5
9年
には 1
Cを発明した。さらに 1
9
6
8年には，ゴードン・ムーア，アンドルー・グローヴとインテ
ル社を設立した。 DRAM
，MPUはインテ J
レ社で開発されたのである(付録の年表参照)。以
上のような赫突たる経歴をもっノイスは，史上初めての産業横断的な共同研究組織を束ねてい
くζ とに最適任であった。ただし，ノイスとしては，すでに名を遂げ，リッチとなり，今更こ
うした役職に就くことには気が進まなかったのである。
しかし，スポークやサンダーズなどの要請を受け入れ， 1
9
8
8年に CEOとなった。この時
P
a
u
lC
a
s
t
r
u
c
c
D が就任した (33)。当時のコン
の COOには， IBMからポール・カストラッチ (
ピューター・半導体業界では IBMの存在感は庄倒的だ、ったようである。コンピューターはも
ちろんのこと，半導体でも IBMは首位であった。研究費でも， 1
9
8
8年にはインテルの 3億ド
4億ドルと 1
0倍以上であった(ただし，半導体だけではなく他製品も含む)制。
ルに対して， 4
IBMは外販をしていないために企業ランキングには出てこないが(自社消費企業)， 1
9
8
4年の
半導体生産額は 2
8億ドルとされ，同年の l位である T1の 2
5億ドルを凌いマいる。データの
基準が違う可能性もあるので正確なことは言えないが，おそらく NECの生産額から考えると
(表1.表 2参照).IBMの半導体業界に対する影響は極めて大きなものがあると推測できる。
その関係もあって. IBMから人が派遣されたとも考えられる。ただしノイスとカストラッ
チは，ほどなく経営の流儀をめぐって対立し，カストラッチが退職することになる (35)。
セマテックは 5年間の政府援助(毎年 l億ドル)，メンパー企業からも l億ドルの合計で
年 21:意ドルの予算を持っていた。ただし，日本の V
LS1とは異なり，解散時期を決めている
時限組織ではなかった。したがって，現在も存続している。もっとも，政府からの補助金はー
1
6
一一経
営
論
集一一
度更新されたものの. 1
9
9
7年からは補助金を辞退し (
1
9
9
4年に辞退を決定).完全に民開業界
団体となっている (36)。
5
0
0万ドル，下限 1
0
0万ドルであった。この金
また会費は，半導体売上の 1%とし，上限 1
S
1L
o
g
i
cなどの小規模企業にとっ
額は IBMなどの企業にとっては大きな負担ではないが. L
3社で割ると，平均 700-800万ドルとなる o Token(名
ては大きな負担であった。 l億ドルを 1
目)的な資金ではなく，相応の負担をすることによって，セマテックを実質的なコンソーシア
ムにしていこうとの考えによるものであった倒。
r
e
s
i
d
e
n
tであったプロカシーニ (AndrewP
r
o
c
a
s
s
i
n
i
)
. および 1
9
9
0年に
ここで. S1Aの p
W
i
l
l
i
a
r
n S
p
e
n
c
e
r
) によるセマテック
ノイスが急死した後の CEOを引き継いだスペンサー (
の解説・評価を見でおとう。
プロカシーニは，セマテックの特徴を次のように要約している倒。
第一に，セマテックは 1
9
8
4年の共同研究法によって守られていた。(半導体業界の中央研究
所的存在であった MCCと異なる。)
第二に，外販企業と自社消費企業の両方を含み
また半導体市場全体の 3分の 2以上をカ
バーしていたこと。すなわち産業界全体のコンソーシアムで、あった。
第三に. 50%の政府資金が入ったが，政府主導ではなかった (
n
o
tl
e
dbyg
o
v
e
r
n
m
e
n
t
)。
第四に，製品開発や純粋研究ではなく，製造技術に焦点を合わせていた。
第五に，アメリカの競争力水準を引き上げようとした。
また，スベンサーはセマテツクから得られた業界への貢献として，以下の点を列挙している (39)。
①企業聞の協調方法の改善
②防衛プログラムと産業プログラムの協調
③目標とミッションの設定能力
④チームでの働き方の改善
⑤情報のメンバー企業への伝播
⑥品質プログラムの開発
以下では，当事者でもあった二人の主張を，セマテックの状況に即して，検証していくこと
にする。
セマテックは，本格的な研究施設を建築するために
カリフォルニアのサンタクララからテ
キサスのオースティンに移転する (
1
9
8
8年 4月)。これ以降，セマテックは日本の VLSIプロジ、エ
クトを下敷きに，様々な活動を展開していく。
一 一 SEMATECHの分析一一
1
7
まず. 3段階の技術プランを作成し，微細化の具体的目標を設定した(制。
9
9
0年までに
フェーズ 1 1
線幅を 8
0
0ナノ・メーター
フェーズ 2 1
9
9
2年までに，車泉幅を 5
0
0ナノ・メーター
9
9
3年までに，車泉幅を 3
5
0ナノ・メーター
フェーズ 3 1
これらの目標は，概ね予定通り達成された。きらに 1
9
9
5年には 2
0
0ナノ・メーターまで微
細化に成功した。
また. SRCとの連携を深めるために. COEプログラム (
C
e
n
t
e
ro
fE
x
c
e
l
l
e
n
c
e
) を立ち上げ，
各大学との共同研究を進展させる。もともと. 1
9
8
2年に産学連携を目的に設立された SRCは
，
SIAの主導で設立きれた組織で，ノース・キャロヲイナに本部があったコンソーシアムであり，
主に半導体を研究している主要大学とリエゾン関係を結び，半導体の基礎研究を支援する組織
であった。 SIAの影響下にあった両組織は連携を深めるべく
SEMATECHCOEプログラム
)
1
を立ち上げ，基礎研究と応用研究との連携を探めることとした (4。
日本企業に大きな後れを取っていたと言われる品質管理では，全米でも MalcolmB
a
l
d
r
i
g
e
賞が制定され，品質管理に大きな関心がもたれた時代でもあった。セマテックでも，ボール
a
r
t
n
e
r
i
n
gf
o
rT
o
t
a
lQ
u
a
l
i
t
yプログラムを作り，品質改善に努めた。
ドリッジ賞とリンクして P
さらに，モトローラで開発されたシックス・シグマ手法も研究された。モトローラでは 5
.
5シ
p
a
r
t
sp
e
rm
i
l
l
i
o
n
) に接近したと言われている (42)。
グマで. 30PPM (
こうした品質改善により，日本の半導体メーカーと比較して
1
9
8
5年には 50%劣位だった
のが .
1
9
9
1年には 9%劣位に改善され .
1
9
9
4年ころには劣位はほぼ解消したと言われている (43)。
セマテックの組織体制は
0
0人の人員で技術者はそのうちの 4
0
0人であった。この
約7
4
0
0人のうち約 2
0
0人はメンバー企業からの派遣であり，かれらは通常 6か月から 3
0か月く
らいの任期で派遣されていた(叫)。したがって，セマテックに新たに雇われた 2
0
0人の技術者と.
企業から派遣された技術者との融和が非常に重要であったが
ノイスのカリスマ性もあって，
大きなトラブルはなかったようである。
ただし情報の伝え方は，初期には種々の問題を引き起こした。例えぽ. IBMは自社の派
遣社員およびセマテック直接雇用の社員には情報を開示したが他のメンバ一企業からの派遣
社員には，情報提供を拒否していた。こうした情報提供のあり方は次第に改善されていったよ
うであるが，メンバー企業は互いに競争関係にもあったので難しい問題であった (45)。
〔組織文化〕
さらにセマテック特有の組織文化を醸成しようとしノイスの「民主的な J性格とも相まっ
て，自由閲達な雰囲気を作り出すことに成功する。ブラウニングほかの研究によると，セマテッ
1
8
一一経
営
論
集一一
クはアメリカの企業間コンソーシアムとしては例外とも言えるほど，独自の幸田韓文化の形成に
成功したと評価されている。それは以下の理由による。第一に，主要なアクターの，何かが変
わらなければならないといろ信念。第二に
市場シェアの低下による半導体リーダーの恐れと
苦悩，第 3に，カリスマ'性を持ったリーダーの出現(ロパート・ノイス)，第四に，参加者の
忠誠心と勇気.こうした要因によって，例外的ケース (
o
u
t
l
i
e
rc
a
s
e
) ともいえる状況が誕生
したのである(制。
LS1プロジェクトと.アメリカのセマテックを比較したソーンペリーは，セマテツ
日本の V
クに見られる強固な凝集性を強調し，個人主義のアメリカ.集団主義の日本と言われる通俗的
な説を否定して，次のように述べている。
LS1プロジェクトが，いわば通産省の肝いりで，その実施
ソーンペリーによると， 日本の V
に関しでも「お上」のご威光を背景にまとまったのと比べると， D
RAPAからの資金出資はあっ
たのだが.運営には全くタッチしなかった状況から考え
アメリカのセマテックの方が企業聞
の協調性があり，セマテックは巧みに機能したと言える。通常，協調の不得手なアメリカ人と
LSIよりもよほど協調性があったという
言われるが，セマテックを見れば，実際には日本の V
のがソーンペリーの結論である (47)。
以下では，他の研究者の指摘も交えながら整理すると，日米どちらも脅威によって出発した
点は共通である。日本の V
LS1プロジェクトは IBMの「フューチャー・システム」の脅威か
ら出発し，セマテックは日本の
DRAM攻勢から構想が始まった。相違点としては.まずリー
I
B
M
) の存在をあげる。日本では 5杜が似たような統合企業で IBMのような突
ダー企業 (
1
Aと DARPAの合作によって成立した
出した企業がなかったこと。第二に，セマテックは S
が
， 日本の V
LS1では，通産省 (
M
1
T
1
) の、影響力が大きかったこと。(ちなみに，超 L
S
1技術
研究組合共同研究所所長に就任した垂井康夫氏は，通産省の工業技術院電気試験所の出身で
あったことを指摘しておきたい。)第三に，産業構造としても，アメリカでは分散的， しかも
m
e
r
c
h
a
n
t企業と c
a
p
t
i
v
e企業といった構造上の相違があったこと，逆に日本では， m
e
r
c
h
a
n
t
企業と c
a
p
t
i
v
e企業聞の競争がなかったこと。第四に.社会的な繋がりがシリコンバレーを中
心に強かったこと，逆に日本では，終身雇用により，企業の壁が厚く，技術者個人の社会的繋
がりは， [学聞はあったかもしれないが]，ほとんどなかったこと。このことは，企業を超えた
情報交換の可能性を少なくした。第五にリーダーとして，ロパート・ノイスのようなカリスマ
がいたこと。日本には彼に匹敵するような人物はいなかった。第六に，組織文化について，セ
マテックでは o
p
e
nで p
a
r
t
i
c
i
p
a
t
i
n
gな雰囲気が生まれ，逆に日本では c
l
o
s
e
dな雰囲気があり，
それを打ち破るのに努力が必要であったこと。第七に，アメリカでは分散的産業構造，すなわ
ち多数の小規模企業が存在し.シリコンパレーに見られるように起業し，成功するための多く
一一 SEMATECHの分析一一
のチャンスがあった。しかし
日本では小規模企業にとって
1
9
イノベーションのためのチャン
スは相対的に少なく，起業も少なかった。第八に，半導体製造装置産業との連携は日本の方が
進んでいたが，後にアメリカでもこのリンケージは(セマテックによって)進展した。さらに，
セマテヅクは時限ではなかったが. VLS1は 5年間と区切られていた。第九に， 日本では，財
閥グループの存在によって，企業の行動が制約された[ただし，筆者はこの点には賛同しがた
ぃ」
l(4。
8
)
以上により，通俗的理解と異なり，アメリカではむしろ協調性があり，逆に集団主義といわ
れる日本では，協調に「上からの」プレッシャーが必要であるという解釈をしている。この企
SUKAプロジ、エクトなど，日本の半導体コンソー
業間・個人間の協調性の問題は，世紀末の A
シアムがことごとく失敗したという事実を見るとき，考えるべき要素を含んでいると息われる。
〔技術の方向性〕
実際の技術の方向性として
製品技術自体の研究開発は行わない，製造技術の改良を目指す
9
8
9年ごろに問題となったのは，半導体製造技術
という方向性は決定されていた。しかし. 1
そのものではなくて，製造装置技術の改良を主たる目標にするか否かという問題であった。
日本の VLS1でも，実は半導体製造技術の開発に力点が置かれていたのだが，その点の学
9
8
9年に，重点を製造装置
習は初期のセマテックでは十分ではなかったのかもしれない。 1
技術の向上に向ける決定がなされた。実際
1
9
8
9年にはセマテック予算の 3
0
0
0万ドル(予
算の 15%) が装置関係のプロジェクトに向けられたにすぎなかったが. 1
9
9
1年には l億
3
0
0
0万ドル (65%) もの資金が製造装置関係に向けられた (49)。だが，先に述べたように，半
o
g
i
c
.H
a
r
r
i
s
導体製造ノウハウの直接の改善を期待していて，この決定に不満を持った LS1L
C
o
r
p
o
r
a
t
i
o
n
.Micronの 3社は脱退を表明することになる (
1
9
9
0年)(
則
。
これには，出資額の問題も関係している。セマテックは，政府から年に l億ドル，加盟企
業から同じく年に 1億ドルの出資を予定していた。企業は，半導体売り上げの 1%，最大で
1
5
0
0万ドル，最低で 1
0
0万ドルという出資金額であった (5lJ0 IBMのような大企業であれば，
o
g
i
c (売ヒは約 4億ドル. 1
9
8
4
)
. Micron (売上は約 3
さほど大きな金額ではないが. LS1L
億ドル. H
a
r
r
i
s (売上は 20億ドル，同)のような小規模企業であると，分担金はかなりの負
担になる (52)。その貴重な分担金を支払って
直接は関係のない製造装置の改良などに重点を
置かれては意味がないことになる。製造装置などは日本から購入すればよいという考えであっ
た。そこで 3社は脱退することになった。
しかし半導体製造装置に力点を置いたのはアメリカの半導体産業にとフて，大きな意味を
持つことになった。もともと
セマテックは材料・装置業界とのリンクを無視していたわけで
2
0
一 一 経 営 論 集
はない。というのも， 1
9
8
7年 8 月にセマテックが立ち上がった翌月に， SEMI/SEMATECH
を設立しているからである。 SEMI (半導体製造装置・材料業者団体)は， 1
9
7
1年に設立され
た比較的古参の組織である。主に装置・材料業者を中心に数百の業者が加盟している。 SEMI
北米， SEMI世界の組織からわかるように，アメリカを中心としているが，一応世界に聞か
れた組織である。その SEMIとセマテックが共同して. SEMI/SEMATECHを立ち上げ，一
時期は約 1
5
0社に上る企業が加盟していた。この組織における分類は，セマテック加盟企業，
SEMI/SEMATECH加盟企業， SEMI北米企業， SEMI世界の 4分類で，情報の提供の仕方
が異なっていた慨。
ところで， 1
9
8
0年代， 日本の製造装置の方が優れていると言われ，大手のアメリカ半導体
企業でも日本製の製造装置購入計画が必ずしも珍しくなかった。しかし，セマテック設立後の
1
9
8
9年には，モトローラ，インテルなどの有力企業も，アメリカ製の製造設備購入に切り替
えたことが指摘されている胤)。
9
9
0年には日系企業に首位を奪われたが，
製造装置産業全体でも，表 6 からわかるように， 1
1
9
9
1年には巻き返し， 1
9
9
2年にはその差を広げている。また表 7が示しているように，米国
市場でも 1
9
8
9年から 1
9
9
0年にかけて，日本企業の伸長が著しいが (16%から 19%)，1
9
9
1年
には 15%に押し戻している。また詳細な製造装置ごとの分析(表 8) でも，最重要と思われ
るウエハー処理装置で 43%から 45%へと巻き返している。とりわけ重要なのが，没落する企
業と，一層強くなったアプライド・マテリアルズなどの企業との明暗がはっきりし強い企業
が生き残っていく傾向であろう(付表1.付表 2参照)。
表 6 半導体製造装置の世界販売(百万ドル)
米系業者
日系業者
その他
合計
1
9
8
9
1
9
9
0
1
9
9
1
1
9
9
2
1
9
9
3 (予)
4，
488
4，
4
8
7
4，
7
1
4
5
，
1
2
4
6
，
060
47%
44%
47%
51%
51%
4
，
047
865
4，
4
，
5
3
2
4，
1
7
0
4，
873
42%
48%
45%
41%
41%
1
，
054
869
8
3
8
8
5
2
953
11%
9%
8%
8%
8%
9，
589
1
0，
2
2
1
1
0，
1
4
7
1
1，
886
出所:井上 (
1
9
9
4
)
.5
2頁
，
094
1
0
一一
表7
米系業者
日系業者
その他
合計
SEMATECHの 分 析 一 一
2
1
米国市場での製造装置売上とシェア(百万ドル)
1989
1990
1991
1992
1993 (予)
2，
845
3，
000
2，
669
000
3，
3，
600
79%
77%
79%
80%
82%
575
760
491
n
.
a
.
n
.
a
.
16%
19%
15%
n
.
a
.
n
.
a
.
195
161
202
n
.
a
.
n
.
a
.
5%
4%
3，
615
3，
917
n
.
a
.
n
.
a
.
6%
3，
750
，
361
3
4，
398
出所.井上(19
9
4
)
.5
2頁
表8 装置ごとの世界販売(百万ドル)
ウエハー処理装置
(米系業者対日系業者
フォトリソグラフィー装置
(米系業者対日系業者
ウエハー露光
(米系業者対日系業者
マスク作成尽装霞
レジスト処理装置
膜形成装置
(米系業者対日系業者
拡散・酸化装霞
(米系業者対日系業者
イオン注入装置
(米系業者対日系業者
エッチング装霞
(米系業者対日系業者
組み立て装鐙
{米系業者対日系業者
検家測定診断・マテハン裟援
(米系業者対日系業者
合計
(米系業者対日系業者
1
9
8
9
4
，
5
1
6
48%/47%
1
，
6
4
7
26%/63%
1
9
9
2
4
，
6
5
4
45%/45%)
1
，
3
4
3
21%/66%)
1
，
2
0
7
1
8
%
1
7
1
%
5
9
3
8
2
9
6
7
8
0
3
1
2
%
1
7
2
%
)
48%/33%
65%/30%)
3
4
3
41%
1
55%
4
7
1
62%/37%
1
，
0
8
6
n
.
a
.
9
1
1
*
申
1
，
1
1
5
3
2
2
39%/59%)
3
8
4
60%/38%)
1
，
4
9
1
59%/36%)
9
5
4
36%/47%
31%/46%)
2
，
9
7
5
45
%
1
45%
8
，
4
5
6
64%/30%)
n
.
a
.
2，
4
8
8
8，
0
9
6
48%/42%)
出所;井上 (
1
9
9
4
)
.5
3頁
註 その他は除いているので.各項目を合計した数字と合計とは異なる。
*リソグラフィーに含まれる。
2
2
一一経
営
論
集一一
1
9
9
0年に CEOのノイスが急死するが，この時までにはセマテックの基本方向は定まり，半
導体メーカーと半導体製造装置メーカーとの密接な連携を促進していく方向が実践されていく
ことになった。
他方で，アメリカ半導体産業復活のもう一つの重要な改革が NACSの指導下で起きていた。
9
9
1年に発足した i
M
i
c
r
o
t
e
c
h2
0
0
0
J プロジ、ェクトである。 1
9
9
1年 4月
， NACSと
それは 1
0人ほどの技術者をノース・キャ
連邦科学技術政策局はワークショップを開催し，全米から 7
0
0
0
Jが誕生し，半導体企業の羅針盤として
ロライナに集めた。ここから「マイクロテック 2
9
9
1年 9月には， 2
0
0
m
mのウエハーサイズ実現のための共同チー
機能していくことになった。 1
ムである i
2
0
0
m
mプロジェクト・コア・チーム」が生まれ，これは 1
9
9
2年の NTRS(
N
a
t
i
o
n
a
l
5年先の
T
e
c
h
n
o
l
o
g
yRoadmapf
o
rS
e
m
i
c
o
n
d
u
c
t
o
r
s
) に繋がっていく。このロードマップは， 1
製造装置がどのように実現されていくかの道筋を示した刷。それゆえ，ロードマップ策定の
意義は，半導体メーカー，半導体製造装置メーカーに対して，あるべき日程表を提示し，そこ
に研究努力を集約していくといった意味で，業界に与えた影響は大きい。このロードマップは，
1
9
9
4年
， 1
9
9
7年に改訂されたが，このような取り組みがアメリカ半導体産業の活性化につな
がったと考えられる。
7
. 結び
以上の説明からわかるように，産業政策の一環ともいえるセマテックは，アメリカの半導体
産業および製造装置産業の復活にある程度の働きを果たしたことは明らかであろう。
ただし，官頭でも述べたように，アメリカ半導体産業復活の最大の要因がセマテックであっ
たなどとは到底言えないであろう。このセマテックの評価に関しては，ラングロア&スタイン
ミユラーが，各論者の見解を整理している(問。 I
r
w
i
n&K
l
e
n
o
wの評価は，セマテックが参加
企業の重複研究開発投資を縮減し，生産性を高めたとする。 L
i
n
k
，T
e
e
c
e& F
i
n
a
nは，スピル
lamは，セマテッ
オーヴァーの重要性を指摘し，セマテックを肯定的に評価している。また， F
クが取引コストを節減することによって，チップメーカーと装置製造業の「自然な協働」を促
進したとする (57)。ただし，最初からセマテックに参加しなかった半導体業者の中には，セマ
テックに厳しい見解を表明するものもいた。例えば， C
y
p
r
e
s
sS
e
m
i
c
o
n
d
u
c
t
o
r社長の T，
J
.R
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や
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xS
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i
c
o
n
d
u
c
t
o
r社長の J
e
r
r
yR
o
g
e
r
sがそうであった。 i5年間で， 1
0億ド Jレも投資
したのに半導体産業にとって，はっきりした成果は何もない」と，ジ、エリー・ロジャーズは辛
練であった(関)。
もとより，成功したのか否か，どの程度成功したのかを定量的に確定することはできないが，
一一 SEMATECHの分析一一
2
3
現実に生じたことを列挙することはできる。第一に，メモリーからマイクロ・コンピューター
(MPUなど)への需要構造の変換，それを賢明に先取りし， DRAMから MPUへの戦略転換
を先導したインテルなどの先端企業の判断や活動が挙げられる。そのインテルのノイスがセマ
テックの CEOを務め，セマテックの基本方向を設定した事実は重要であろう。第二に，セマテツ
クにとって幸運だったことに， DARPAなどのミリタリーの需要・支援を得ることができたこ
と。これは一般的な産業政策というよりも国家の安全保障とリンクしていたがゆえに，広い意
味での産業政策として実現しえたと言うべきであろう。設立されてからのセマテックの活動は，
SRCとの連携， SCOEの設置，品質管理の向上，フェイズ 1からフェイズ 3への着実な移行
など，見違えるような活発な活動を展開した。これは，とりわけ製造装置産業に恩恵をもたら
SIC (
A
S
S
P
) などの
し，メモリーだけではなく，他の半導体，マイクロ・コンビユ}ター， A
ロジック系の半導体製造にも利益を均需したと思われる (59)。
第 3に，法制度の整備が挙げられる。〔関連年表〕からわかるように.産学連携，官から民
への技術移転，民間企業や大学における研究開発の活性化のために数多くの立法が行われた。
これは科学技術政策と呼ばれるべきものだろうが，産業振興と探くリンクし，半導体麗業の復
活に大きく貢献した。
以上のように，シリコンパレーを中心とする民間企業のバイタリティー，戦略の確かさ，そ
れに加うるに，セマテックの役割およびその設置に影響した関係者の努力・方向性の的確さ，
さらには各種立法の有効性，これらをしっかりと評価するべきであろう。アメリカが一丸となっ
て競争力回復に向けた総合力こそ，評価すべきものである。その中でセマテックも重要な役割
を果たしたと言える。ある意味で，セマテックは，第二のミツドウェイとも呼べるべきもので
はなかろうか。
太平洋戦争において，真珠湾で勝利を収めた日本軍は，情報探知など，真剣な勝因敗因分析
を行わなかった。日本の半導体産業がアメリカ半導体産業に追いつき追い越した 1
9
8
0年代，
半導体協定などのマイナスの影響はあったにせよ，
ドラスティックに起きつつあった需要変動
を真剣に分析し損なったこと。これに対し，アメリカ半導体産業は一方でのインテ J
レの俊敏な
動きと共に，メモリ一半導体だけではなく，マイクロ・コンピュータ一半導体にも通用する半
導体製造装置の改善，および半導体メーカーとの連携強化に注力したのである。その典型例が
セマテックであった。失敗から学ぶことの重要性をアメリカは，パールハーパーと同じく，真
剣に本格的に実行した。それがセマテックなのである。パールハーパーの教訓は，ミッドウェ
イで遺憾なく発揮され， 日本軍の大敗をもたらしたように， 日本の事仔肋冶ら真剣に学んだセマ
テックは， 日本半導体没落のー原因となったのである側
24
一一経
営
論
集一一
図 5 半導体企業の収益性 (
U
.
S
.
>
1
9
7
5
"
"
1鍋 o
鴎1
1
艇抑
V
e
a
r
出所:I
r
w
i
nandK
l
enow
，J
o
u
r
n
a
l(
19
9
6
)， p
.3
7
【
注
】
(1)湯之上 (
2
0
1
2
)，第 1章，第 2牽参照。
(2)芋苧.(~0!2). アは.ロジック系には， ASIC (特定用途向け IC，ユーザー限定)と ASSP(特定用途向け.
ユーザー非限定)の 2種類があるが，日本は ASICにカを入れ，よりマーケットが大きく，量産可能でマー
SSPを軽視した問題点が指摘されている。
ジンも大きい A
(3) Thornberry (
2
0
0
2
)， p
.
6
6
6
(4)上記出所などからの私の推計。
(5)注 (
2
) に同じ。
(6) B
e
r
l
i
n(
2
0
0
5
)，p
.
2
8
2なお， 1
9
8
9年
， IBMとモトローラは共同で新笑験所を設置し，それをマイクロン
にライセンスした。それは， 4メガピット DRAMの製造施設であった。 T
h
o
r
n
b
e
r
r
y，
p
.
6
7
1
(7) B
e
r
l
i
n(
2
0
0
5
)，p
.
2
9
5
.
8頁
。
(8)畑 (
2
0
0
6
)， 1
(9) L
a
n
g
l
o
i
s&S
t
e
i
n
m
u
l
l
e
r(
1
9
9
9
)
.p
.
6
9
.
(
10
)B
e
r
l
i
n(
2
0
0
5
)， p.
2
9
5
.
9
5
8年の発足時は ARP
，
A 1
9
7
2年に国防の性格を明確に
(
1
1
) DARPAは，次のような名称の爽還を遂げた。 1
せよとの要求によって DARPAに変更， したがってセマテツク設立時は DARPA
。その後 1
9
9
3年，クリ
ントン政権の時に産業政策全般に活用しようとの思惑から D
e
f
e
n
s
eを取り ARPAに戻った。しかし，中
9
9
6年に DARPAに
間選挙で共和党に民生れ，共和党は厳格に国防がらみの問題に関与させる意図から 1
2
0
0
1
)，第 4章参照。なお， DARPAは，インターネットの板形となる 1
9
6
0年代の
再び戻した。宮回 (
ARPANETを支援したことで有名である。 ARPANETは
， 1
9
8
0年代に NSFNETとなり， 1
9
9
0年代に
で有名なインターネットへと進化したのである。宮田 (
2
0
0
1
)，1
5
3頁
。
(
1
2
) Browning&S
h
e
l
t
e
r(
2
0
0
0
)， p，
7
.
(
1
3
)畑 (
2
0
0
6
)， 9頁
。
(
1
4
) 宮田 (
2
0
0
1
)， 8
9頁
。
(
1
5
)佐身木 (
1
9
9
3
)， 4
2頁
。
(
1
6
) 宮田 (
2
0
0
1
)， 1
8
5貰
。
(
1
7
) r 日本経済新聞~ 2
0
1
3年 3月 3目
。
(
1
8
)佐キ木 (
1
9
9
3
)，5
6頁
。
(
1
9
)同
， 4
1-4
3頁
。
(
2
0
)Thornberry (
2
0
0
2
)，p
.
6
7
1
.
(
2
1
)富田 (
2
0
0
1
)，第 3章と第 4章
。
www
一 一 SEMATECHの 分 析 一 一
2
5
(
2
2
)佐々木 (
1
9
9
3
)
.6
7頁。宮田 (
2
0
01
)
.6
5-6
8頁
。
(
2
3
)鴨志田・三浦 (
2
0
0
8
)
.6
2頁
。 T
h
o
r
n
b
e
r
r
y(
2
0
0
2
)
.p
.
6
5
7
.
(
2
4
)W
a
l
lS
t
r
e
e
tJ
o
u
r
n
a
l
，J
u
l
y2
8
，1
9
8
8
.
(
2
5
) サクセニアン(19
9
5
)。同書を通じての，サクセニアンの基本メッセージである。
(
2
6
)T
h
o
r
n
b
e
r
r
y(
2
0
0
2
)
.p
.
6
6
9
.Browning
，B
eyer&S
h
e
l
t
e
r(
19
9
5
)， p.
12
9
.
(
2
7
)W
a
l
lS
t
r
e
e
tJ
o
u
r
n
a
l
，
Nov
.
17，1
9
8
7
，
J
a
n
.
8
.1
9
8
8
.
7
0億ド Jレの 0
.
3
%(
1倍、ドル)， DARPAは 2
.
7
%(
9億ドル)であった。
(
2
8
)1
9
8
8年，セマテックは DoD予算 3
この数字を見る左，国防予算のほとんどは他の通常支出に向けられていることがわかる。 T
h
r
o
r
n
b
e
r
r
y，
p
.
7
4
.
宮田 (
2
0
0
1
).
1
0
5-1
0
6頁。だが，半導体メーカーのプロセス技術への投資はアメリカ全体で 2-3億ドル，
装置メーカのそれは 5億ドルで両者を合計すれば， 7-8億ドルとなる。セマテックの予算は 2億ドルな
ので，そのうち半分の l億ドルがプロセス技術投資とすれば，およそ 10%強がセマテツクの投資という
ことになり.セマテックのプロセス技術への投資が重姿であったことがわかる。
(
2
9
)"
C
o
r
p
o
r
a
t
e1
n
f
o
r
r
n
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/
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t
e
c
h
.
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g
.A
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r
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l1
2，2
0
0
5
.1
3社 は 次 の 通 り 。 AMD.AT&T，
D
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8頁
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81
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4
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5
0
) Thornbe
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.
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5
1
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w
i
n&Klenow
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.
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7
4
0
.
(
5
2
) 佐々木.由貿。
(
5
3
) 井上(19
9
4
)，5
8頁
。
(
5
4
)畑
， 2
3頁
。
(
5
5
) ムーア， 2
2
9-2
3
1頁
。
(
5
6
)L
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g
l
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2
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.
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.
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(
5
9
) メモリーチ、yプスの生産における段階の多くは，マイクロプロセッサーのような他のチップスと同一で
ある J
ol
r
w
i
n&Klenow
，
p
p
.1
2
7
3
94
0
.ASICと ASSPについては.注 2参照。
(
6
0
) 最後に，アメリカの半導体メーカーの収益性の図 5を掲げておく。収益性については，今後の検討課題と
したい。
r
2
6
営
一一経
論
集一一
付表 1 半導体企業世界出荷ランキング (
2
0
1
3
)
企業名
シェア(%)
ルネサス(日)
1
5
.
4
9
.
7
5
.
5
4
.
0
3
.
8
3
.
6
3
.
4
2
.
6
2
.
6
2
.
5
全体
1
0
0
.
0
インテノレ(米)
サムスン(韓)
クアルコム(米)
SKハイニックス(韓)
マイクロン(米)
東芝(日)
TI(
米)
ブロードコム(米)
STマイクロ(スイス)
......
売上(億ドル)
5
2
7
(
5
2
7
)
3
3
1
1
8
8(
24
8
)
1
3
6
1
3
0
1
2
3
1
1
6(
12
2
)
8
9
8
9
(
8
0
)
8
6
3
4
2
2
出所:日経『業界地図.1 7
7頁
注:インテル以外の売上は，インテルの数値からの推計。は業界地図よりの数値。
付表 2 半導体製造装置世界出荷ランキング
シェア(%)
企業名
アプライドマテリアルズ(米)
ASML(蘭)
1
6
.
2
1
5
.
7
売上(億ドル)
7
5
9.
4
9
.
1
6
.
4
7
3
4
4
4
2
3
0
テラダイン(米)
3
.
6
2
.
6
2
.
5
2.
4
1
2
1
2
1
1
ニコン(日)
1
.9
9
ラムリサ}チ(米)
東京エレクトロン(日)
阻
A テンコール(米)
大日本スクリ}ン製造(日)
B立ハイテクノロジーズ(日)
アドパンテスト(日)
1
7
......
・ ・・・・・・・
4
全体
1
0
0
.
0
4
6
3
出所:表 9に同じ。
注:アプライドマテリアルズ以外の売上は，アプライドの数値からの推計。
2
7
一一一 SEMATECHの分析一一一
付図 1 半導体の種類
どセ
オ
ン
ユ
弓
ノ
フ
仰いャノ
な(
r
u
L
AM ゲ
7
出品目 印日フ
下
グ一
ロリ
アメ
ナモ
マイクロ・コンピューター-，-MPU(
P
C
. セルラーフォンなど)
←MCU
I
C
(車載，家電.産業機器〕
S
P(セルラーフォン)
」ー D
ロジック一寸-ASSP(特定用途向けI
C
. ユーザー非限定)
半導体
￨
ディパイス・プッシュ型(通信機など)
L -A
S
I
C(特定用途向けI
C
. ユーザー限定)
製品プル型
ゲートアレイ(産業機器)
センサー(温度センサーなど)
光ディパイス (
L
E
D
. CCD
など)
ディスクリート
付図 2 半導体の製造工程
[シリコン結晶工程]
〔フォトマスク(写真原版〕工程]
ウ転
アて
ト写
J1'υ
諭写に
レと
計術一
設技タ
理真パ
)ン
齢別一-フ
脱昔、ガ
t
(上
能副板
機 l← 談 話 ￨ ←
(ン
λ
st
E
J(
回
)
脂
樹
性
光
感
ン一ト
シハス股
グ)(
ツ構ヤオレ
イヱジト
ラウレス
トス造ルトジ
ン結キ
ゴ品シフ
、
HJr
l
L
V
イ￨￨+単タ l
川ソ
ンンピ
シシ
ココ品
鋭面シリコンウエハー
マス'lI
T
I
J作
4
一 一 一J
1
1
[ウエハー工程]
リソグラフィー(ウエハーに転写〉
写真触刻技術・パターン転写)
[印ジスト工程
エッチング(膜の除去.触刻)
(献血i
… ト 糊 削 でi
富力し山マ
ス舎にしてシリコン肢を選択除去)
[配線t程)
洗浄
↓
蒸着(アルミをl
加熱・蒸発させ，ウエハーに蒸着)
[検盗工程]
l
検査
↓
ダイシンゲ(切断)
↓
マウンティンゲ(リードフレームを取り付け.チップを基
l
桜に糊〉
ボンディング〈金線で屯鰯J
I
日を縫紋)
4
モールディンゲ〈パッケージ封入)
↓
険査
↓
モジュール軒l
l
'
i
: (都板実数)
↓
ユーザーへ
28
一一経
営
論
集一一
[付録】
〔セマテック関連年表〕
1
9
4
7
.
12
.
2
3点接触型トランジスターの発明(ベル研究所マレーヒル. NY. パーデイーン，ブラッテン，ショッ
クリー)
1
9
5
0 MIT. コアメモリーを実用化
1
9
5
2 T1
. 半導体ビジネスに参入。モトローラ，エレクトロニクス研究所を設立
1
9
5
5 フォトレジスト導入(ベル研究所);
S
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o
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l
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yS
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i
c
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n
d
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c
t
o
r社設立 (
P
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l
oA
l
t
o
);
I
B
M
.磁気コアメモリー
を開発
1
9
5
6 AT&T. 同意判決により特許公開 (
1
9
8
4 AT&T. 分割)。ノイス，ショックリー入社。
1
9
5
7 F
a
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r
c
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i
l
dS
e
m
i
c
o
n
d
u
c
t
o
r社設立 (
8人衆);親会社はロングアイランド ショセットの F
a
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l
dCamera
and1
n
s
t
r
u
m
e
n
t
s (ShermanF
a
i
r
c
h
i
l
dがオーナー)
1
9
5
8 プレーナー型トランジスター(ジャン・エルニー，フェアーチャイルド);RCAの同意審決(国内企業
は無償でライセンス使用);ARPA設置 (
1972DARPA. 1993ARPA.1996DARPA)
1
9
5
9 1Cの発明(ジャァク・キルビー.TI.ロパート・ノイス. 7:Lアーチャイルド)
1
9
6
6 MOS型 1C (アンドルー・グローブ，フェアーチャイルド)
1
9
6
8 インテル設立 (
I
n
t
e
lCo
叩o
r
a
t
i
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n
)(
R
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c
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.GordonM
o
o
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.An
drewG
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)
1
9
6
9 AMD設立 (
}
e
r
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yS
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d
e
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s
)
1
9
7
0 1
kb
i
tDRAM (インテル) (
← magnetc
o
r
ememory);
CCDの発明(ベル研 )
01
9
7
0年代に IBM研究所，
RISC開発。
1
9
7
1 MPU4004. SRAM，EPROM (インテル )
0FD (IBMのアラン・シュガート);SEM1 (
S
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o
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d
u
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lに名称変更。
Equipmenta
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dM
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r
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l
s1
n
s
t
i
t
u
t
e
) 設立。後に SEMI
1
9
7
3 モトローラ.セルラーフォンの前身導入
1
9
7
4 Z
a
i
l
o
g社設立， 8
0
8
0の上位互換 8ピット CPU，Z
8
0を発表;TradeAct (
S
e
c
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i
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n3
0
1
)
t
a
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r最初の PC;M
i
c
r
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s
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t設立 (
B
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l
l
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n
)
1
9
7
5 Al
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1技術研究開発組合 (NEC. 富士通，三菱，目立，東芝) (
→1
9
8
0
);A
p
p
l
eComputer設立 (
S
t
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e
1
9
7
6 超L
J
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s
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eWo
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i
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c
k
);最初のワープロ E
l
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cP
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c
i
l
5社);f
i
e
l
dprogrammablel
o
g
i
c発 明 (
M
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1
9
7
7 S1A (
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yA
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s
o
c
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i
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)設立 (
c
.
)
Memories1
n
1
9
7
8 Micron設立 (
B
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i
s
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，1
d
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h
o
)
1
9
7
9 M
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t
o
r
o
l
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.M
6
8
0
9
.M68000を発表
1
9
8
0 VHS1C (
V
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hSpeedI
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t
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g
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t
) が DoDによって設立
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s
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W
y
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l
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rT
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l
o
g
y
1
n
n
o
v
a
t
i
o
nAct;B
a
y
h
D
o
l
eActバイ・ドール法;IBM. PC発売
1
9
8
1 L
S
1L
o
g
i
c
. ゲートアレイ導入;経済再生税法 EconomicR
e
c
o
v
e
r
yTaxAct
1
9
8
2 SRC (
S
e
m
i
c
o
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d
u
c
t
o
rR
e
s
e
a
r
c
hC
o
r
p
o
r
a
t
i
o
n
) 設立;IBMの反トラスト訴訟，和解
1
9
8
3 MCC:M
i
c
r
o
e
l
e
c
t
r
o
n
i
c
sa
n
dComputerT
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n
o
l
o
g
yC
o
r
p
o
r
a
t
i
o
n設立;モトローラ，セルラーフォン商用
化
1
9
8
4 半導体チップ保護法S
e
m
i
c
o
n
d
u
c
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rC
h
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nAct i
C
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lp
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yp
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n
);
IMEC.
ASML設立;国家共同研究法 (
N
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t
)
i
c
r
o
n
.
T
.
I
IBM)
1
9
8
5 インテル .DRAMから撤退(他社も追随，残ったのは M
e
d
e
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lT
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o
l
o
g
yT
r
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s
f
e
rA
c
t
;R&DT位 C
r
e
d
i
tの延長
1
9
8
6 連邦技術移転法 F
1
9
8
6
.
5 日米半導体協定;S
1
A.SRC共同会議を開催
1
9
8
6
.
6 S
1
A
.S
p
o
r
c
kに業界協調の努力を依頼。
1
9
8
6
.
1
1 S
I
A.s
t
自 由1
9c
o
m
m
i
t
t
e
eを設置 (
c
h
a
i
rは. S
p
o
r
c
k
);SEMATECHの略称作成。ロピイングの開始。
1
9
8
6
.
12 国防総省報告がメディア漏洩
1
9
8
7
.
2 国防総省報告発表(外国製半導体依存への警告)
1
9
8
7
.
3S
1
A.半官半民のコンソーシアムを提起;S
p
o
r
c
kの S
a
n
t
aC
l
a
r
a事務所で業務開始
1
9
8
7
.
8 SEMATECH設立 (
1
3社)
1
9
8
7
.
9 SEMIISEMATECH (半導体製造装置・材料企業連合)設立
一-SEMATECHの 分 析 一 一
29
1
9
8
7
.
12 議会，セマテックへの補助金承認. レーガン署名
1
9
8
7 アメリカ. EPROMの首位奪回;富士通のフェアチャイルド買収失敗. NSに:SEM1. 名称をIns
t
i
t
u
t
e
から 1
n
t
e
r
n
a
t
i
o
n
a
lに変更
1
9
8
8 NACS:N
a
t
i
o
n
a
lA
d
v
i
s
o
r
yCommitteea
n
dS
e
m
i
c
o
n
d
u
c
t
o
r
s (米国半導体諮問委員会)設立(→ 1
9
9
1
):
u
s
t
i
nに移転:T1と目立.
NCR参加(14社):ノイス会長 :SRCと共同で COEプログラム :4月. A
16Mの生産で合弁会社:包括的通商・競争力法 OmnibusTradeandC
o
m
p
e
t
i
t
i
v
e
n
e
s
sAct
.
S
.
M
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m
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r
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s構想，サンデイア国立研究所.オークリッジ国立研究所と
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9 セマテック，製造装置に力点:U
パートナーシップ;国家競争力技術移転法
1
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12 大学などと半導体製造の教育カリキュラム策定
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0 3社 . 脱 退 表 明 (
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yProgram:政府補助金停止の可能性
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4 JESS1と協力プロジェクト
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.
60
.
5ミクロン線幅回路を純アメリカ製設備で製造 (
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I達成):ノイス死去
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1 日米半導体協定更新:H
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9 200mmP
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eTeam発足
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el.半導体で世界一位に返り咲く;第 2次 SEMATECH発足:L
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4.
1997に改訂;サ
ムスン. DRAMで世界 l位に。
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. MOSメモリーで世界 1位，環境問題の重要性 ;
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シェアで日本を逆転;国家共同研究生産法 N
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6年以降の政府補助金辞退を決定;シリコン・ウエハー・サミァト
1
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4 セマッテク理事会. 1
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9
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5 日本市場で外国製半導体が 20%を超える。 1
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) 宏子会社として設立
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tProgramを策定
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7 セマテック，民間企業に移行(最終政府資金受領)
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e1mprovementAct:In
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lSEMATECH (1SMT) を
子会社として設立(海外企業は 5社)
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ithography (EUV.EPL);1TRS99 (
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lTechnologyRoadmapf
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)
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0 SEMATECHを 1SMTに改称(ブランドのみ);マイクラスキャン. 157nmm
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4 SELETE:S
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c半導体先端テクノ
ロジーズ(→ 2
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0
6
.
3
):ASUKA (
2
0
01
.
4
):SEMATECH.SELETEおよび JEITAと協力関係
2
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0
2
.
8 ISMT. SUNYa
tAlbany と 提 携 ;MIRA1 (
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) 設立
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3.
2 1SMT.新コンソーシアム. 1SMI (
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lSEMATECHM
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) を立ち上げる
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4 テキサス州と ISMT. AMRC (AdvancedMat
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) を設立
2
0
0
4
.
9 1SMTを SEMATECHに戻す。
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6 マイクロン復帰。 NEC. }レネッサス新規加入
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金容度『日本 1C産業の発展史一一共同開発のダイナミズム一一』東京大学出版会. 2
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グロープ，アンドリュー(小林業訳) インテル経営の秘密一世界最強企業を創ったマネジメント哲学』早川
書房. 1
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6号
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榊原清則『日本企業の研究開発マネジメント一一“紅機内問形化"とその超克一一』千倉書房. 1
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サクセニアン，アナリー(大前研一訳) 現代の二都物語』講談社. 1
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佐久間昭光・米山茂美「イノベーションと産業形成一一日本の半導体製造装置産業の形成と発展 J ビジネス・
レビュー j 3
9巻 l号. 1
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佐々木利慶rR
&Dコンソーシアムの組織論 (
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)J 経済経営論叢j2
泡巻 3号. 1
9
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3
超エル・エス・アイ技術研究組合『超エル・エス・アイ技術研究組合 1
5年の歩みj 1
9
9
0
佐野昌『岐路に立つ半導体産業一一激変する海外メーカーの戦略と日本メーカーの取るべき選択』日刊工業新
聞社. 2
0
0
9
佐野昌『半導体衰退の原因と生き残りの鍵』日刊工業新聞社， 2
0
1
2
志村幸雄『半導体産業新時代』日本能率協会マネジメントセンター. 1
9
9
5
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3
1
一一一 SEMATECHの分析一一一
末松千尋・千本俸生『ネットワーク裂ペンチャー経営論一一シリコンパレー{知識核融合}のメカニズム一一』
ダイヤモンド社. 1
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タイソン，ローラ(竹中平蔵監訳，阿部司訳) 誰が誰を叩いているのか一一戦略的管理貿易は，アメリカの正
r
しい選択?~ダイヤモンド社.
1
9
9
3
立本博文・藤本隆宏・営回純一「プロセス産業としての半導体前工程一一アーキテクチャー変動のダイナミクス j
藤本隆宏・桑嶋健一『日本型プロセス産業一ーものづくり経営学による競争力分析』有斐閣. 2
0
0
9
谷光太郎『半導体産業の軌跡一一日米攻防の半世紀一一-.1日刊工業新聞社. 1
9
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谷光太郎『日米韓台半導体産業比較』白桃書房. 2
0
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垂井康夫 rrcの話一一トランジスタから超 LSIまで一一j NHKブックス. 1
9
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2
垂井康夫『半導体立国日本一一独創的な装置が築き上げた記録一一』日刊工業新聞社. 1
9
9
1
垂井康夫編『世界をリードする半導体共同研究プロジェクト』工業調査会. 2
0
0
8
中馬宏之・青島矢- 半導体露光装置産業の競争力はなぜ低下したか一一コラボレーションとアウトソーシン
グの可能性一一」伊藤秀史編『日本食業変革期の選択』東洋経済新報社. 2
0
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中馬宏之「日本はなぜ DRAMで世界に敗れたのかーーその敗因の根幹を検証する(1) (
2
)JrNIKKEI
MICRODEVICES~ 2
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7年 3月号. 4月号
中馬宏之「増大する複雑性と苦闘するサイエンス型産業一一半導体産業」青島矢一他編『メイド・イン・ジャ
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パンは終わるのか一一「奇襲」と「終聞の先にあるもの』東洋経済新報社. 2
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日本半導体製造装置協会編 r
r半導体立国」日本』日刊工業新聞社. 1
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根橋正人仁超 L
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I開発一一競合 5社による共同プロジェクトの 4年間 J マネジメント.1 1
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0年 1
1月号
畑次郎 r
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s米国ハイテク戦略の全貌』日本工業出版. 2
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6
半導体産業新聞編『日本半導体 5
0年史一一時代を創った 5
3
7人の証言一一J産業タイムズ社. 2
平林英勝『共同研究開発に関する独占禁止法ガイドライン』商事法務研究会. 1
9
9
3
康問義人「半導体露先装置ステッパーの開発」中岡哲郎『戦後日本の技術形成一一模倣か創造か一一』日本経
済評論社. 2
0
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藤村修三『半導体立国ふたたび』日刊工業新聞社. 2
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フリードマン. D
. (丸山恵也訳) 誤解された日本の寄跡一一フレキシプル生産の展開』ミネルヴァ書房. 1
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跡と変革への挑戦一一』白桃存房. 1
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大阪商
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会一一J八千代出版. 2
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スプロジェクト， D
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1，2
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4年 1
0月 (Web版)
湯之上隆「半導体業界の定説を検証一一『日本は技術の的をはずしている』一一 Jm
IKKEIMICRODEVICES
I
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5年 1
0月号
湯之上隆「日本半導体産業・復活への提言一一経営者も技術者も『もうける決意』が必要だ J 日経エレクトロ
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湯之上隆 電機・半導体」大崩壊の教訓一一電子立国ニッポン，再生への道筋』日本文芸社， 2
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RAM市場における三星電子のキャッチアップに関する一考察一-DRAM需要特性の変化の視点
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から一一 J 韓国経済研究.1 4巻
吉岡英美「韓国半導体産業の嗣際競争力形成の要因一一デバイス部門と製造装置部門の企業間関係の変化に即
5巻 2号
， 2
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して一一J アジア経済j4
吉岡英美「韓国半導体産業の技術力に関する考察一一三星電子の要素技術開発の事例を通じて一一」ルネッサ
ンスプロジ、エクト，副総u
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nPaperS告r
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〔謝辞.本稿の作成に際しては.公益財団法人 全国銀行学術研究振興財団の研究助成金を受けている。記して
厚くお礼申し上げます。〕