事業の実施内容に関する報告書2

補助事業番号 ： １９−２２
補助事業名
： 平成１９年度 機械工業における国際標準化推進等補助事業
補助事業者名 ： 財団法人 日本規格協会
事業の実施内容に関する報告書２
２．幹事国団体・国際規格原案作成促進事業
実施内容
２-(ア)委託事業
ISO/IEC 等の幹事国業務（国際規格回答原案作成を含む）を遂行するため、国内で TC、SC の幹事
国業務を引き受けている団体に対し、公募を行い、15 団体を厳選した。また、これら団体に対し、15
団体と委託契約を締結（平成 19 年 4 月 1 日付）し、委託事業に関する委託契約業務及び事務処理を行
った。
なお、委託先団体名及び審議テーマは、下記表のとおり。
No.
団体名
1 社団法人情報処理学会
2 社団法人ﾋﾞｼﾞﾈｽ機械・情報ｼｽﾃﾑ産業協会
幹事国事業名
ＩＥＣ：ＪＴＣ１／ＳＣ２，ＳＣ２３，ＳＣ２９
ＩＳＯ：ＪＴＣ１／ＳＣ２，ＳＣ２３，ＳＣ２９
ＩＥＣ：ＪＴＣ１／ＳＣ２８
ＩＳＯ：ＪＴＣ１／ＳＣ２８
3 財団法人光産業技術振興協会
ＴＣ１７２／ＳＣ９
4 社団法人日本コンクリート工学協会
ＴＣ７１／ＳＣ６
5 社団法人電子情報技術産業協会
ＴＣ４７／ＳＣＡ，ＳＣD,ＴＣ５１，ＴＣ９１，
ＴＣ１００，
（ＴＡ１）
，
（ＴＡ６∼１０）
，
ＴＣ１１０
6 社団法人電子情報通信学会
ＴＣ４９，ＴＣ８６／ＳＣＢ
7 財団法人国際超電導産業技術研究センター
ＴＣ９０
8 社団法人自動車技術会
ＴＣ２２／ＳＣ２２
9 社団法人日本粉体工業技術協会
ＴＣ２４／ＳＣ４
10 日本プラスチック工業連盟
ＴＣ６１／ＳＣ１１，ＳＣ１２，ＳＣ１３,
ＴＣ１３８
11 社団法人日本産業機械工業会
ＴＣ１１１
12 社団法人日本クレーン協会
ＴＣ９６／ＳＣ５
13 社団法人日本建設機械化協会
ＴＣ１２７／ＳＣ３，ＴＣ１９５／ＳＣ１
14 社団法人日本非破壊検査協会
ＴＣ１３５，ＴＣ１３５／ＳＣ６
15 社団法人日本ファインセラミックス協会
ＴＣ２０６
２-イ.直轄事業
２-イ-（ア） ISO/TC164 (金属の機械試験)幹事国業務
幹事国業務運営のため、次のとおり、委員会を開催
１）国内対応
①TC164 対応委員会 3 回
・ 平成 19 年 10 月 19 日（財）日本規格協会本部ビル 203 会議室（出席者：13 名）
審議内容：TC164 関連 SC 会議 審議事項の確認 など
・ 平成 19 年 12 月 17 日（財）日本規格協会本部ビル 203 会議室（出席者：13 名）
審議内容：TC164 関連 SC 会議 審議報告 など
・ 平成 20 年 2 月 21 日（財）日本規格協会本部ビル 202 会議室（出席者：8 名）
審議内容：TC164 における測定の不確かさに関する対応方針について
②TC164 運営委員会 1 回
・ 平成 20 年 1 月 30 日（財）日本規格協会本部ビル 203 会議室（出席者：12 名）
審議内容：平成 19 年度の活動及び収支報告、平成 20 年度の事業計画と予算承認 など
③国際対応
平成 19 年 4∼平成 20 年 3 月 次の通り、国外調整・連絡業務を行った。
ISO/TC164 及び SC から出された以下の規格原案について、関連団体と調整を行い、日本回答案を作成
して各 SC 幹事国及び中央事務局に回答した。
SC
4F
2
4P
2
1
1
4P
4P
2
1
3
4F
4F
1
5
5
2
2
1
1
種類
WD
FDIS
CD
DIS
CD
NWIP
DIS
DIS
CD
DIS
DTS
SR
FDIS
CD
NWIP
NWEIP
DIS
DIS
SR
SR
規格番号
26843
10275
148-1
24213
26023-1
26023-2
148-2.2
148-3.2
16630
6892
29381
12135
22889
376
12107
4965
12004-1
12004-2
7500-1
19819
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2007 年
2
投票
4 月
4 月
5 月
6 月
6 月
6 月
6 月
6 月
6 月
7 月
8 月
9 月
9 月
10 月
10 月
10 月
10 月
10 月
12 月
12 月
〆
1 日
23 日
2日
29 日
21 日
21 日
26 日
26 日
30 日
8 日
30 日
17 日
30 日
1 日
10 日
10 日
17 日
17 日
17 日
17 日
賛否・棄権
−
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
確認
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
賛成
確認
確認
1
3
3
3
DIS
SR
SR
SR
204
14577-1
14577-2
14577-3
2008 年
2008 年
2008 年
2008 年
1
3
3
3
月
月
月
月
30
17
17
17
日
日
日
日
賛成
改訂
改訂
改訂
また、次の通り国際会議に代表委員の派遣を行なった。
国際会議出席
：開催地はすべて南アフリカ/プレトリア
SC
会議日
平成 19 年 11 月 2 日
平成 19 年 10 月 31 日
平成 19 年 10 月 29 日
平成 19 年 10 月 29−30 日
平成 19 年 11 月 1 日
平成 19 年 10 月 30−11 月 1 日
SC1
SC2
SC3
SC4f
SC4p
SC5
日本からの出席者
八木委員 他 8 名
林委員 他 6 名
高木委員 他 1 名
粟飯原委員 他 5 名
八木委員 他 7 名
長谷川委員 他 1 名
２-イ-（イ） ISO/TC201 (表面化学分析)幹事国業務
１）契約関係
平成 19 年 4 月 2 日
①日鐵テクノリサーチ（株）
（担当：柿田和俊氏）と TC 201/SC 8 幹事国業務に関する契約
を締結。
契約期間：平成 19 年 4 月 2 日∼平成 20 年 3 月 31 日
業務内容：TC 201/SC 8 幹事国業務
②（財）大阪科学技術センター付属ニューマテリアルセンター（担当：菊地諄一氏）と TC
201/SC 6 幹事国業務に関する契約を締結
契約期間：平成 19 年 4 月 3 日∼平成 20 年 3 月 31 日
業務内容：TC 201/SC 6 幹事国業務
２）国内対応
○委員会関係
幹事国業務運営のため、次のとおり、委員会を開催し、業務を実施
平成 19 年 6 月 22 日
第 16 回 運営委員会 13：30 ∼15：00
（財）日本規格協会 赤坂豊産ビル 701 会議室 （出席者：12 名）
《主要議題》
①平成 18 年度 事業報告、収支決算及び監査報告
②平成 19 年度 事業計画及び収支予算審議
3
平成 19 年 7 月 20 日
平成 19 年度第 1 回国内業務委員会 13：00 ∼16：30（出席者：24 名）
都道府県会館 4 階 408 会議室
《主要議題》
① WG 報告
（ISO TC201 総会、TC202 総会、SC、WG 会議報告と今後の方針）
② 運営体制、運営方針について
・2007 年度総会派遣候補者について
・2007 年度 JSCA 運営委員会報告
③ その他
・翻訳 JIS 化計画（進捗状況、及び今後の見通しについて）
・平成 19 年度の活動計画
・ISO TC229 の状況と今後の協力関係
平成 20 年 2 月 22 日
平成 19 年度第 2 回国内業務委員会 13：30 ∼17：00（出席者：21 名）
都道府県会館 4 階 407 会議室
《主要議題》
① WG 報告
・2007 年度 TC201 及び TC202 総会報告とその対処
・2008 年度の活動計画
② 運営体制、運営方針について
・TC201、TC202 活動の今後の進め方について
幹事国業務委員会審議事項
・他の ISO TC などとの協力関係について
③ その他
・翻訳 JIS 化計画（進捗と予定）
・2008 年度の事業計画について
○その他活動
平成 19 年 4 月∼9 月
・セミナーの開催：平成 19 年 8 月 31 日、2007 分析展（幕張メッセ、日本分析機器工
業会主催）の会場において表面分析国際標準化セミナー「表面分析・微小領域分析
における国際標準化の動向」をテーマにセミナーを開催（参加者 105 名）
・TC 201 対応分科会会議：TC201 幹事国業務および TC202 標準化活動を推進するため、
TXRF WG（全反射蛍光 X 線分光法）
、共通問題 WG (用語、一般的手順、データ管理お
よび取扱)、イオンビーム WG、電子分光 WG，GDS WG（グロー放電分光法）
、TXRF WG( 全
4
反射蛍光 X 線分光分析法)、TC 202 国内 WG（マイクロビーム分析）
、EPMA WG(電子
線ﾏｲｸﾛﾋﾞｰﾑ分析)、AEM WG（分析電子顕微鏡法）SEM WG（走査型電子顕微鏡法）
、を
開催し、国内対応業務を実施。また、国内調整、連絡業務を実施。
・ JSCA ニュース特別号改訂版を発行した。表面科学分析技術・マイクロビーム分析
技術 国際標準化状況のタイトルで、ISO TC201 および ISO TC202 の活動紹介に加
え、登録された ISO 規格、JIS 規格これまで活動に携わった委員の一覧を掲載。
・JSCA ニュース 2007.9 増刊号を発行した。
（2007 分析展セミナーでの講演資料編集）
平成 20 年 3 月 30 日 ・JSCA ニュース 20 号を発行
・ISO TC201 総会（日本、金沢）
、TC202 総会（中国、上海）の SC、WG 会議報告と今
後の方針について資料集を発行
平成 19 年 4 月∼平成 20 年 3 月
・TC 201 対応分科会会議、TC201 幹事国業務および TC202 標準化活動を推進するため、
TXRF WG（全反射蛍光 X 線分光法）
、共通問題 WG (用語、一般的手順、データ管理
および取扱)、イオンビーム WG、電子分光 WG，GDS WG（グロー放電分光法）
、TC 202
国内 ＷＧ（マイクロビーム分析）
、AEM WG（分析電子顕微鏡法）SEM WG（走査型
電子顕微鏡法）
、を開催し、国内対応業務を実施（のべ 42 委員会開催）
。また、国
内調整、連絡業務を実施。
３）国際対応
○国際規格開発
平成 19 年 4 月∼20 年 3 月
NWIP 12 件、CD 3 件、DTR １件、DIS 2 件、ISO 見直し 13 件の投票の実施
1)NWIP TC201/SC7：Surface chemical analysis - X-ray photoelectron spectroscopy
- Guide to Analysis
2)NWIP TC201/SC3：Surface chemical analysis ‒ Standard data transfer format for
scanning probe microscopy
3)NWIP TC201/SC9：Standards on the definition and measurement methods of drift
rates of SPMs
4)NWIP TC201/SC1：Surface chemical analysis - Vocabulary - Part 1: General terms
and terms for spectroscopies
5)NWIP TC201/SC1：Surface chemical analysis - Vocabulary - Part 2: Terms for the
scanned probe microscopies
6)NWIP TC201/SC8：Surface chemical analysis ̶ Glow discharge mass spectrometry
̶ Introduction to use
7)NWIP TC201/SC8：Surface chemical analysis ̶ General procedures for quantitative
5
compositional depth profiling by glow discharge optical emission spectrometry
8)NWIP TC202/SC2 ： Microbeam analysis ‒ Electron probe microanalysis ‒
Quantification method for elemental area analysis using wavelength dispersive
spectroscopy
9)NWIP TC201/SC9：Standards on the measurement of angle between an AFM tip and
surface and its certified refernce material
10)NWIP TC201/SC9：Guideline for the determination of geometrical quantities using
Scanning Probe Microscopes - Calibration of measuring systems
11)NWIP TC201/SC9 ： Surface chemical analysis ̶ Scanning probe microscopy
̶ Determination of cantilever normal spring constants
12)NWIP TC201/SC6：Surface chemical analysis - Secondary ion mass spectrometry
- Method for depth profiling of arsenic in silicon
13)CD 23812：Surface chemical analysis ̶ Secondary ion mass spectrometry ̶ Method
for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
14)CD 24173：Microbeam analysis ̶ Electron Backscatter Diffraction ̶ Guidelines
for Orientation Measurement Using Electron Backscatter Diffraction
15)CD 24597：Microbeam analysis ̶ Scanning electron microscopy ̶ Evaluation
methods of image resolution
16)DTR 16268：Surface Chemical Analysis - Proposed procedure for certifying the
retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation
17)DIS 23830：Surface chemical analysis ̶ Secondary-ion mass spectrometry ̶
Repeatability and constancy of the relative intensity scale in static
secondary-ion mass spectrometry
18)DIS 18117：Surface chemical analysis - Handling of specimens prior toAnalysis
19)ISO 15632 ： Microbeam analysis -- Instrumental specification for energy
dispersive X-ray spectrometers with semiconductor detectors
20)ISO 16700：Microbeam analysis -- Scanning electron microscopy -- Guidelines
for calibrating image magnification
21)ISO 15470：Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectroscopy -Description of selected instrumental performance parameters
22)ISO 15471 ： Surface chemical analysis -- Auger electron spectroscopy -Description of selected instrumental performance parameters
23)ISO 17331：Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection
of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their
determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
24)ISO 18118：Surface chemical analysis -- Auger electron spectroscopy and X-ray
photoelectron spectroscopy-- Guide to the use of experimentally determined
relative sensitivity factors for the quantitative analysis of homogeneous
materials
25)ISO 19318：Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectroscopy -Reporting of methods used for charge control and charge correction
26)ISO 21270：Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron and Auger electron
spectrometers -- Linearity of intensity scale
27)ISO 17560 ： Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry
--Method for depth profiling of boron in silicon
28)ISO 17470：Microbeam analysis -- Electron probe microanalysis -- Guidelines
for qualitative point analysis by wavelength dispersive X-ray spectrometry
29)ISO 17973 ： Surface chemical analysis -- Medium-resolution Auger electron
6
spectrometers -- Calibration of energy scales for elemental analysis
30)ISO 17974 ： Surface chemical analysis - High-resolution Auger electron
spectrometers - Calibration of energy scales for elemental and chemical-state
analysis
その他、各 SC、ISO/CS との諸連絡、調整業務及び議長支援を実施。
○国際会議関係
平成 19 年 10 月 28 日 第 15 回 IS0/TC201/SC6 国際会議
ISO/TC201/SC6 国際会議を開催し、運営を図るとともに、委員の派遣を行った。
①参加国：5 カ国（中国、英国、米国、韓国、日本）
、VAMAS（米国）
合計 14 名、内日本代表 7 名
②開催地：日本 金沢
③主要議題：幹事国報告、メンバー構成、ドラフト審議、規格の定期見直し
④会議後の報告：TC201 総会及び SC4 国際会議の議事録を作成、各国に回付した。
平成 19 年 11 月 29∼12 月 1 日 第 16 回 IS0/TC201 総会及び SC1∼SC9 国際会議（SC6 を除く）
ISO/TC201 国際会議を開催し、運営を図るとともに、委員の派遣を行った。
①参加国：9 カ国（中国、フランス、ハンガリー、日本、韓国、英国、米国、ドイツ、ス
ウェーデン）
、VAMAS（米国）
、IUVSTA、合計 60 名、内日本代表 20 名
②開催地：日本 金沢
③主要議題：幹事国報告、メンバー構成、ISO/TC201 議長任命、委員会内部投票の IT 化、
TC201 新発行規格について、
・今後の ISO/TC201 総会の開催場所、日程について。
④会議後の報告：
TC201 総会及び SC4 国際会議の議事録を作成、各国に回付した。
平成 19 年 10 月 29∼31 日
第 14 回 IS0/TC202 総会及び SC1∼SC4 国際会議
①参加国：9 カ国（中国、フィンランド、韓国、南アフリカ、英国、米国、ドイツ、フラ
ンス、オーストラリア、 日本）
、合計 40 名、内日本代表 14 名
②開催地：中国 上海
③主要議題：議長報告、幹事国報告、新規登録規格、SC1∼4 の各ドラフトの審議。新規
WI 案の説明、次回 ISO/TC202 総会の日程及び開催地
４）その他
各 SC、ISO/CS との諸連絡、調整業務及び議長、国際幹事支援を実施。
7