エキシマレーザ

エキシマレーザを用いた微細加工応用例
Excimer
157 nm
エキシマレーザ
コヒレント社のエキシマレーザは、157、193、248、308、351 nmの波長ラインアップを取り揃えており、ニーズや
ご予算に応じ、様々なパルスエネルギーと繰返周波数のモデルを選択いただけます。その優れた性能と
信頼性（長寿命）が評価され、理科学研究用途から産業組込用途まで、豊富な納入実績を誇ります。
石英への加工
193 nm
強化ガラスのドリリング
193 nm
エキシマレーザ発振器（157/193/248/308/351 nm）
193 nm
ダイヤモンドのマーキング
193 / 248 nm
193 / 248 nm
ワイヤーストリップ
コールドマーキング
kWクラスモデル、
アニーリングに最適
VYPER
▲
2000
p 61
高効率、高出力
p 60
LPXpro
大出力、究極のパルス安定性、産業用
p 60
LAMBDA SX
▲
COMPexPro
▲
高効率、高出力、産業用
LASIK
p 62
193 nm
LEAP
▲
パルスエネルギー（mJ）
コンパクト、
高エネルギー
▲
1000
p 61
小型・高性能
ExciStar XS
▲
p 59
ファイバーグレーティング応用に最適
長寿命・小型・高繰返し
BraggStarM
ガラスへの穴あけ加工（左：入射穴/ 右：出射穴）
アルミ薄膜上のポリイミド除去
IndyStar
▲
▲
p 59
500
繰返し周波数（Hz）
1000
▲
エキシマレーザ専用光学系（157/193/248/308/351 nm）
p 59
248 nm
308 nm
2000
p 63
1 nm
インクジェットノズル
(Lexmark社殿ご提供）
57
248 nm
http://www.coherent.co.jp/
20 µm
ポリイミドフィルムの貫通穴加工
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
58
2014
エキシマレーザ
COMPexPro
IndyStar
長寿命 小型高繰返しエキシマレーザ
コンパクト、高パルスエネルギータイプエキシマレーザ
新設計のALMETA-Sチューブを内蔵し、波長193 nm及び248 nmにおいて100億ショットレベルの
チューブ寿命を実現するIndyStarは、数あるエキシマレーザラインアップの中で、最大のパルス繰
返し周波数（2 kHz）を実現します。
加工プロセスに必要な高品位なレーザ光（ビームプロファイル、エネルギー安定性）を高パ
ルスエネルギーで提供します。高いエネルギー密度が必要な実験やプロセスウィンドウの確
認用として最適です。コンパクトなデザインで、設置や操作が容易なため、理科学及び研究
用途、医療用途にも多くの実績があります。
⃝ 高繰返し周波数（2 kHz） ⃝ 小フットプリント
仕様
波長
最大繰返周波数
安定化パルスエネルギー
安定化出力
パルス間エネルギー安定性（1σ）
ビームサイズ（VxH、FWHM、典型）
ビーム拡がり角（VxH、FWHM、典型）
パルス幅（FWHM、典型）
本体寸法（LxWxH）
nm
Hz
mJ
W
%
mm
mrad
ns
mm
IndyStar（1 kHz）
193
248
193
248
1000
8
12
8
12
IndyStar（2 kHz）
193
248
193
248
2000
4
6
8
12
＜3
6.0 x 2.7
5.8 x 2.8
5.7 x 2.3
5.8 x 2.7
＜3.5 x 1.5
＜3.0 x 2.3
＜3.5 x 1.5
5±2
6±2
4±1
974 x 381 x 838（ステータスランプの高さを含む。）
⃝ 新デザイン予備電離により、ビームの均一性及びパルス安定性が改善
⃝ コンパクト設計により、小設置面積 ⃝ NovaTube®技術により、レーザガス及びチューブ寿命が向上し、低ランニングコストを実現
⃝ ハンドヘルド・キーパッドにより操作が容易
アプリケーション
高速微細加工
フォトマスク検査
■ インクジェットノズルの穴あけ
■
■
ExciStar XS
小型・高性能エキシマレーザ
波長
nm
最大繰返周波数
Hz
最大パルスエネルギー
mJ
安定化パルスエネルギー
mJ
安定化出力
W
パルス間エネルギー安定性（1σ）
%
ビームサイズ（VxH、FWHM）
（典型） mm
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）（典型） mrad
パルス幅（典型）
ns
本体寸法（LxWxH）
mm
（F2）
157
2
1
0.2 / 0.5
（XeF）
351
5
4
0.8 / 2.0
最大繰返周波数
Hz
最大平均出力
W
アプリケーション
実験・研究・開発
■ 各種微細加工
■
コンパクト・高コヒーレンスエキシマレーザ
コールドマーキング
■ 眼科治療（LASIK）
■
⃝ 外部共振器デザイン採用により、共振器ミラーの長寿命化とビーム位置安定性が改善
⃝ ハンドヘルド・キーパッドにより操作が容易
⃝ 新デザイン予備電離ピンにより、ビームの均一性及びパルス安定性が改善
⃝ NovaTube技術により、レーザガス寿命及びチューブ寿命が向上し、低ランニングコストを実現
BraggStar M
仕様
⃝ ファイバーグレーティング生産応用向けにコヒーレント長を最適化したデザイン
⃝ 空間コヒーレンス：800 µm（ビーム短軸方向において）
nm
Hz
mJ
W
ns
%
mm
mrad
µm
mm
BraggStar M
（KrF）
248
100
140
12
20
1
12 x 4.5
＜0.3 x 0.2
800
1282 x 375 x 793 ＊
アプリケーション
研究開発 ■ レジスト検査
■ ファイバーグレーティング生産
■ 干渉露光テスト
■
アプリケーション
パルスレーザ成膜
フォトマスク検査
■ インクジェットノズルの穴あけ
■
■
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
最大パルスエネルギー（up to 10 Hz）
mJ
最大繰返周波数
Hz
最大安定化平均出力
W
パルス間エネルギー安定性（@ 5 Hz, 1σ）
%
ビームサイズ（VxH、FWHM）
mm
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）
mrad
パルス幅（FWHM、典型）
ns
（LxWxH）
本体寸法
mm
波長
（nm）
157
193
248
308
351
All
157
193
248
308
351
248
248
248
248
All
LPFpro
205
220
50
40
400
250
−
−
−
−
−
−
50
200
2.5
7
15
40
−
−
−
−
−
−
≦10（@ 157 nm）
10 x 24（@ 157 nm）
2 x 6（@ 157 nm）
−
210
−
450
800
500
400
100
−
30
70
45
20
アプリケーション
高精度のマイクロマシニング
光学素子評価
■ インクジェットノズル穴加工
■
■
220
−
300
550
300
200
200
−
50
80
55
26
LPXpro
240
−
160
300
−
120
300/ 400＊
−
24
64
−
22
≦1
≦2
12 x 24
8 x 24
8 x 22
＜1 x 3
25
20
15
1966 x 800 x 475
305
−
600
1100
700
400
50
−
20
40
30
15
≦1
12 x 30
25
＊ 300 Hz @ 193 nm、400 Hz @ 248 nm、400 Hz @ 351 nm
＊ステータスランプの高さを含む
59
102
加工プロセスに必要な高品位なレーザ光（ビームプロファイル、エネルギー安定性）を高出
力で提供します。高い出力が必要な実験や準生産用として最適です。外部共振器やレーザ
チューブ用スライドバルブ機構を採用していますので、稼働率の高い産業用途にも対応しま
す。
BraggStar Mは、ファイバーグレーティング生産向けに、高いパルスエネルギーと優れた空間
コヒーレンスを両立する小型設計のエキシマレーザです。
波長
最大繰返周波数
最大パルスエネルギー
平均出力
パルス幅（典型、FWHM）
パルス間エネルギー安定性（1σ）
ビームサイズ（VxH、FWHM）
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）
空間コヒーレンス（FWHM）
本体寸法 （LxWxH）
%
mm
mrad
ns
mm
50
100
150
−
−
50
高効率、高出力エキシマレーザ
BraggStar M
仕様
mJ
COMPexPro
110
201
205
200
400
400
700
250
500
200
300
20
100
10
50
4
12
4
15
7
30
7
30
−
5
16
4
20
−
4
12
3
15
1
14 x 5
24 x 10
2x1
3x1
20
25
1282 x 375 x 793
1682 x 375 x 793
波長
（nm）
193
248
308
351
All
193
248
308
351
All
All
All
All
All
LPXpro
⃝ 超小型・軽量設計 ⃝ コロナ予備放電技術（高パルス間エネルギー安定性）
ExciStar XS
（ArF）
（KrF）
193
248
200 / 500
8
12
5
8
1.0 / 2.5
1.6 / 4.0
2/3
6 x 2.5
3 x 1.5
5
649 x 300 x 400
最大パルスエネルギー
パルス間エネルギー安定性（1σ）
ビームサイズ（VxH、FWHM、典型）
ビーム拡がり角（VxH、FWHM、典型）
パルス幅（FWHM、典型）
本体寸法（LxWxH）
ExciStar XSは、設置が簡単なテーブルトップのエキシマレーザです。超小型設計
で、ALMETA-XSチューブを採用することにより、レーザガス寿命の延長化を実現
しました。高い安定性と低いパルスエネルギーのアプリケーションに最適です。
仕様
仕様
http://www.coherent.co.jp/
http://www.coherent.co.jp/
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
60
2014
エキシマレーザ
LAMBDA SX シリーズ
LEAP
高効率、高出力産業用エキシマレーザ
大出力超高安定性産業用エキシマレーザ
LEAP（Low Cost Excimer Laser for Advanced Processing）は、産業用の高度な
加工用光源として必要な条件である、長寿命のレーザチューブと、高出力のパ
ルサースイッチを組み合わせ、ショットエネルギー単価を低く抑えることに成功
しました。
新開発のNovaTubeと高分解能のエネルギーメータ及び高分解能に対応する検
出ソフトウェアを組み合わせ、UV出力を極めて安定的に生産現場へ供給する
産業に特化したエキシマレーザです。また、PowerLok機能やTimeLok機能によ
り、バーストモードでの発振安定性も卓越しています。特にレーザアニーリング
や超精密ドリリングの光源として最適です。
⃝ 微細加工応用のコールドアブレーションに最適な波長
⃝ 効率的な加工を実現する広い安定化パルスエネルギー領域
⃝ 長寿命レーザチューブ
⃝ 高出力パルサー技術
⃝ PowerLok機能によりバーストモードでもエネルギーが安定
⃝ 専用ソフトウェアにより、複数台の運用を一括管理することが可能
⃝ スライドバルブ式のチューブウィンドウの為、交換作業性が高い
⃝ レーザチューブとパルサースイッチが個別交換可能
アプリケーション
■
■
130K
波長
nm
248
LEAP
550 ∼ 650
安定化エネルギー
mJ
最大安定化出力
W
最大繰返周波数
Hz
200
エネルギー安定性（rms）
%
＜1.5
パルス幅（FWHM、典型値）
ns
ビーム径（VxH、FWHM、典型）
ビーム拡がり角（VxH、FWHM、典型）
本体寸法（LxWxH）
130C
308
130
28
mm
35 x 12.5
操作のしやすいハンドヘルドターミナル
オペレーションレンジ
KrF（248 nm）、XeCl（308 nm）の両方の波長において、安定
化エネルギーレンジとして、550 mJ/pulseから650 mJ/pulseが
使用でき、広いオペレーションレンジを実現。
・ケーブル長：5 m
900
・ディスプレイ：6.5インチLCDタッチスクリーン
700
・寸法（DxH）：250 x 125 mm
800
22
2415 x 800 x 1130
mm
■
1000
＜4.5 x 1.5
mrad
レーザアニーリング
縮小投影による精密微細加工
■ パルスレーザ成膜（PLD）
■ 表面改質
■
各種微細加工 ■ インクジェットノズルの穴あけ
LDP（Laser Direct Patterning）
エネルギー（mJ）
仕様
アプリケーション
600
・重量：1330 グラム
500
400
安定化エネルギーレンジ
300
200
100
0
1.6
1.65
1.7
1.75
1.8
1.85
1.9
1.95
2
2.05
2.1
HV（kV）
LAMBDA SX Eシリーズ
VYPER
レーザアニーリング向け大出力エキシマレーザ
VYPERは、次世代フラットパネルディスプレイ用低温ポリシリコン（LTPS）の大量
生産を可能にするレーザアニーリング向け高出力（kWクラス）エキシマレーザ
です。専用ラインビーム光学系を組み合わせることで、生産スループットを飛躍
的に向上させます。
また将来的な拡張性においても、第８世代までの基板サイ
ズにも対応でき、ディスプレイメーカーの厳しいコスト目標をサポートできるシ
ステムです。
VYPER
308
nm
600
最大繰返周波数
Hz
最大安定化パルスエネルギー
mJ
最大安定化平均出力
W
1200
パルス間エネルギー安定性（σ）
%
≦0.45
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）
パルス幅（FWHM、典型）
35±4 x 14.5±3
≦4.5 x 1.3
mrad
ns
24±4
2800 x 1700 x 2085（突起物含まず）
＊ビーム出射口より1.0 mの位置にて。なお、VYPERは2ビーム出射になります。
注：オプション外部変圧器を2個ご発注頂く必要がございます。
61
最大安定化出力
W
最大繰返周波数
Hz
300
%
≦0.8
ns
ビームサイズ（VxH、FWHM）
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）
mm
mrad
本体寸法（LxWxH）
mm
1050
308
315
1000
500
500
≦0.45
29±5
24±4
35±3.5 x 13±2
35±4 x 14.5±3
≦4.5 x 1.5
≦4.5 x 1
2800 x 850 x 2083
（高さ：±20 mm、突起物含まず）
LAMBDA SX
K300
仕様
アニール用エキシマレーザにおける長時間安定性の進化
Stabillity Improvement of 308 nm High Power Excimer Laser Generation
2000
mm
mm
mJ
パルス幅（FWHM）
Γ
1.2
Energy Deviation (Sigma) [%]
平均ビームサイズ（VxH、FWHM）＊
nm
最大安定化パルスエネルギー
LAMBDA SX
E500
LAMBDA SX C/Kシリーズ
仕様
波長
波長
パルス間エネルギー安定性（σ）
⃝ 世界最高レベルの出力（kWクラス）
⃝ 優れたエネルギー安定性（0.45%以下）
本体寸法（LxWxH）
LAMBDA SX
E300
仕様
2001āΓ 2006āΓ 2010āΓ 2012
1
0.8
波長
nm
最大安定化パルスエネルギー
mJ
最大安定化出力
W
最大繰返周波数
Hz
%
≦1.2
ns
32±5
0.4
ビーム拡がり角（VxH、FWHM）
0.2
本体寸法（LxWxH）
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
0
0
10
20
Time [Hours]
30
40
mrad
mm
308
34±3.5 x 14±2
LAMBDA SX
C500
900
540
300
パルス幅（FWHM）
mm
1000
300
パルス間エネルギー安定性（σ）
ビームサイズ（VxH、FWHM）
0.6
248
LAMBDA SX
C300
600
≦1
29±5
35±3.5 x 13±2
≦4.5 x 1.5
24±4
35±4 x 14.5±3
2800 x 850 x 2083
（高さ：±20 mm、突起物含まず）
50
http://www.coherent.co.jp/
http://www.coherent.co.jp/
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
62
エキシマレーザ
Excimer Laser-based optical System
エキシマレーザ専用光学系
プロセス開発や研究用途及び、生産・製造用途の応用には、エキシマレーザの性能を高める光学系が必要となります。研究・開発用
途には、LA-ICP-MSに特化した光学系や、光学モジュールを用途に合わせ、パッケージングしたVarioLasがあります。また、産業用途の
光学系には、エキシマレーザの性能を極限まで引き出すために、光学モジュールやコンポーネントを組み合わせて専用の光学系を設
計します。また、ディスプレイパネル製造に欠かせない技術であるエキシマレーザアニール（ELA）のアプリケーションでも多くの導入
実績があり、各種パネルサイズに合わせての提案が可能です。ラインビームの最長モデルでは、750 mmの長さを実現します。
また、ディスプレイパネル製造に欠かせない技術であるエキシマレーザアニール（ELA）のアプリケーションでも多くの導入実績があ
り、各種パネルサイズに合わせての提案が可能です。ラインビームの最長モデルでは、750 mmの長さを実現します。
VarioLas： UV微細加工光学系
光源は、COMPexPro100 シリーズのArF（193 nm）、KrF（248 nm）と、XeCl（308
nm）から選択できます。研究開発用コンパクトシステムとして、
マスク投影による
微細加工と、ラインビームによるスキャン処理に対応しています。
仕様
ビーム形状
マスクフィールド寸法
mm
ビーム寸法
mm
解像度
µm
ワークディスタンス
mm
重量（レーザを除く）
VarioLas ECO/Pro
VarioLas SWEEP
四角形ビーム
ラインビーム
20 x 20
−
2x2
50 x 0.6
50
150
30 / 5
−
500
kg
GeoLasPro： レーザアブレーションシステム
LA-ICP-MS（レーザ高周波誘導結合プラズマ質量分析）応用向けのサンプリング
システムです。優れたパルス安定性と、均一化光学系によりサンプルに対し、深さ
コントロールが可能です。
仕様
GeoLasPro
波長
nm
サンプル上のエネルギー密度
サンプル上のスポットサイズ
パルス安定性
µm
% rms
繰返周波数
分解能
2
J / cm
Hz
x,y-stage
µm
z-stage
µm
193
1 ∼ 45
4 ∼ 160
2
1 ∼ 100
1
0.25 ∼ 0.5
UVblade： レーザリフトオフ用ラインビームシステム
UVbladeは、308 nmエキシマレーザとラインビーム光学系で構成されたシステム
です。短波長で高安定性を誇るエキシマレーザのシングルショットプロセスは、
レーザリフトオフ用途に最適で、次世代のフレキシブルディスプレイを用いた
LCD、OLED製造に展開できます。また、3次元半導体パッケージ製造における極
薄シリコンウェハ技術にも対応できます。
UVblade 250
UVblade 380
UVblade 465
UVblade 750
63
ビーム寸法（L x W）
エネルギー密度
（短軸方向のFWHMを基準として）
250 mm（−0, ＋10）x 0.40 mm（±0.01）
270［mJ/cm ］
380 mm（−0, ＋10）x 0.30 mm（±0.01）
465 mm（−0, ＋10）x 0.40 mm（±0.01）
750 mm（−0, ＋10）x 0.25 mm（±0.01）
2
235［mJ/cm ］
2
235［mJ/cm ］
2
235［mJ/cm ］
2
※本仕様は予告なく変更される場合がございます。仕様及び製品保証の詳細条件については、ご契約時に必ずご確認ください。
http://www.coherent.co.jp/